The invention relates to the field of sewage treatment, and discloses a preparation method of tin oxide thin film photocatalyst for sewage treatment. The following preparation processes are as follows: (1) the tin source is stirred and dissolved in the anhydrous ethanol, and the nano-sized tin oxide colloid is obtained by liquid laser ablation. (2) the substrate is immersed in the nano tin oxide colloid, and the precursor of tin oxide is prepared at a uniform speed after 2~3min and is heated and dried to obtain the precursor of tin oxide; (3) the precursor membrane of tin oxide is made into the film. Tin oxide thin film photocatalyst can be prepared by calcining at high temperature and cooling at room temperature. Compared with the ordinary photocatalyst, the tin oxide film photocatalyst made by the invention has high specific surface area, rich oxygen vacancy and high photocatalytic activity. After preparing the film, the catalyst and light energy utilization rate is high, the catalytic reaction rate is fast, the treatment efficiency is high, and the preparation process is simple, and the preparation cost is low. Good environmental protection, with excellent application prospects.
【技术实现步骤摘要】
一种用于污水处理的氧化锡薄膜光催化剂的制备方法
本专利技术涉及污水处理领域,公开了一种用于污水处理的氧化锡薄膜光催化剂的制备方法。
技术介绍
随着世界工业化发展,水污染日益严重。常见的净化技术有氯气、臭氧和紫外线消毒以及过滤、吸附、静置等,但是这些方法对新生的污染物往往不是非常有效,并且可能导致二次污染。由于光催化技术无污染、安全等特点,利用光催化技术处理与降解污染物已经成为了环境领域的研究热点。光催化氧化技术是一种高级氧化技术,其作用机理是光催化剂在光照的条件下能够产生强氧化性的自由基,该自由基能彻底降解几乎所有的有机物,并最终生成H2O、CO2等无机小分子,加上光催化反应还具有反应条件温和,反应设备简单,二次污染小,操作易于控制,催化材料易得,运行成本低,可望用太阳光为反应光源等优点,因而近年来受到广泛关注。光催化氧化技术的核心是光催化剂,包括二氧化钛、氧化锌、氧化锡、二氧化锆、硫化镉等多种氧化物硫化物半导体,其中氧化锡作为宽带隙n型半导体材料,尤其是在成膜后具有对可见光透光性好、电阻率低、化学性能稳定以及室温下抗酸碱能力强等优点,在光催化领域应用中前景较好。但上述光催化剂对于含污染物水体在光催化过程中反应速率一般都不是很高,并因本身性质存在一些局限性。因此对用于污水处理的光催化剂的研究主要集中在增大比表面积及提高光催化活性等方面。中国专利技术专利申请号201410159111.7公开了一种高可见光催化活性的聚氯乙烯/纳米二氧化锡复合膜的制备方法,属于环境净化光催化剂新材料
首先采用微波加热法制备出纳米二氧化锡,然后将所得纳米二氧化锡分散于四氢 ...
【技术保护点】
一种用于污水处理的氧化锡薄膜光催化剂的制备方法,制备的具体过程为:(1)将锡源加入无水乙醇中,搅拌充分溶解,然后高压喷雾,开启纳秒激光器进行液相锡源雾激光烧蚀,使激光作用于液体下的锡源靶材上,激光击穿靶材表面一定深度,产生的强电场使电子迁移出来,通过碰撞和能量传递转变为高温、高压、高密度的等离子体,在等离子体的膨胀过程中,液体形成薄气层并变成气泡,气泡破灭时将等离子体中形成的纳米氧化锡粉体释放到乙醇的水溶液中,得到纳米氧化锡胶体;(2)先将基板洗净,然后浸入纳米氧化锡胶体中,保持2~3min后,以均匀速度将基板平稳地提拉出来,使胶体在基板表面形成均匀液膜,并加热烘干,再重新浸入胶体中进行重复提拉成膜及加热烘干,最终制得氧化锡前驱体膜;(3)将氧化锡前驱体膜置于数控恒温电阻炉中,进行高温煅烧,出炉后在空气中自然冷却至室温,即可制得氧化锡薄膜光催化剂。
【技术特征摘要】
1.一种用于污水处理的氧化锡薄膜光催化剂的制备方法,制备的具体过程为:(1)将锡源加入无水乙醇中,搅拌充分溶解,然后高压喷雾,开启纳秒激光器进行液相锡源雾激光烧蚀,使激光作用于液体下的锡源靶材上,激光击穿靶材表面一定深度,产生的强电场使电子迁移出来,通过碰撞和能量传递转变为高温、高压、高密度的等离子体,在等离子体的膨胀过程中,液体形成薄气层并变成气泡,气泡破灭时将等离子体中形成的纳米氧化锡粉体释放到乙醇的水溶液中,得到纳米氧化锡胶体;(2)先将基板洗净,然后浸入纳米氧化锡胶体中,保持2~3min后,以均匀速度将基板平稳地提拉出来,使胶体在基板表面形成均匀液膜,并加热烘干,再重新浸入胶体中进行重复提拉成膜及加热烘干,最终制得氧化锡前驱体膜;(3)将氧化锡前驱体膜置于数控恒温电阻炉中,进行高温煅烧,出炉后在空气中自然冷却至室温,即可制得氧化锡薄膜光催化剂。2.根据权利要求1所述一种用于污水处理的氧化锡薄膜光催化剂的制备方法,其特征在于:步骤(1)所述锡源为氯化锡或五水合氯化锡。3.根据权利要求1所述一种用于污水处理的氧化锡薄膜光催...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈庆,司文彬,
申请(专利权)人:成都新柯力化工科技有限公司,
类型:发明
国别省市:四川,51
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