一种新型用于复合电镀作业的电镀槽制造技术

本新型涉及一种新型用于复合电镀作业的电镀槽，包括电镀槽本体，电镀槽本体侧壁内表面上均布若干电极定位槽、嵌于电极定位槽内的电极和用于电极定位的电极架，其中电极定位槽为断面呈“L”型的槽状结构，电极通过电极架嵌于电极定位槽内，电极架包括承载机架、驱动滑轨、滑块、升降驱动机构、定位夹具及离子膜。本新型一方面可有效的满足正常电镀作业时阳离子自由交换的需要，并防止在电镀槽内形成死角和防止阳极定位设备对电解液流向造成干扰和影响，另一方面可根据使用需要，同时满足多个阳极通过运行或多个阳极依次运行的需要，同时还有助于同时实现多种材质阳极依次电镀作业的需要。

A new type of electroplating bath for composite electroplating operation

A new type of electroplating bath for composite electroplating operation, including electroplating bath body, a number of electrode positioning grooves on the inner surface of the side wall of the body of the plating bath, the electrode embedded in the electrode positioning slot and the electrode holder for the electrode positioning, in which the electrode positioning slot is a groove like structure with a section of \L\, and the electrode passes through electricity. The electrode rack is embedded in the electrode positioning groove, and the electrode rack comprises a bearing frame, a driving slide rail, a slide block, a lifting driving mechanism, a positioning clamp and an ion membrane. On the one hand, it can effectively meet the needs of free cation exchange in normal electroplating operation, prevent the formation of dead angle in the electroplating bath and prevent the anode location equipment from causing interference and influence on the flow direction of the electrolyte, on the other hand, according to the use needs, it also satisfies the operation of multiple anodes through operation or multiple anodes. It also helps to realize the needs of various materials anodes in order to electroplate.

【技术实现步骤摘要】
一种新型用于复合电镀作业的电镀槽
本技术涉及一种电镀槽，确切地说是一种新型用与复合电镀作业的电镀槽。
技术介绍
目前复合电镀作业在电镀工作中占有着极大的比例，工作量巨大，但在实际进行复合电镀作业过程中发现，当前所使用的电镀槽往往均为传统的电镀槽结构，虽然可以一定程度上满足使用的需要，但在电镀过程中极易发生电镀槽内离子分布浓度不均，离子流动过程易受电极挂具影响而发生混乱及干扰，同时电镀槽的结构也极易导致离子在电镀槽内形成死角，从而严重影响了电镀作业开展的工作效率和电镀产品加工质量，于此同时，当前所使用的电镀槽在进行电镀作业过程中，无法对电镀用阳极进行调整和更换，从而导致电镀作业的连续性和稳定性受到较大影响，除此之外，当前的电镀槽在运行时，也无法实现多个阳极依次参与电镀作业和多种阳极依次参与电镀作业，从而极大的限制了复合电镀作业的灵活性和工作效率，因此针对这一问题，迫切需要开发一种新型的复合电镀作业电镀槽，以满足实际使用的需要。
技术实现思路
针对现有技术上存在的不足，本技术提供一种新型用与复合电镀作业的电镀槽，该新型结构简单，使用灵活方便，一方面可有效的满足正常电镀作业时阳离子自由交换的需要，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种新型用于复合电镀作业的电镀槽，包括电镀槽本体，其特征在于：所述电镀槽本体侧壁内表面上均布若干电极定位槽、嵌于电极定位槽内的电极和用于电极定位的电极架，其中所述的电极定位槽为断面呈“L”型的槽状结构，嵌于电镀槽本体内，其轴线与电镀槽本体侧壁内表面平行分布，所述的电极定位槽前端面设密封隔断门，所述的密封隔断门通过滑轨与电极定位槽侧壁滑动连接，并与电极定位槽轴线平行分布，且密封隔断门运行方向与电极定位槽轴线方向平行，所述的电极通过电极架嵌于电极定位槽内，并与阳极定位槽内壁间间距均不小于5毫米，所述的电极架包括承载机架、驱动滑轨、滑块、升降驱动机构、定位夹具及离子膜，所述的承载机架为与电极定位槽同...

【技术特征摘要】
1.一种新型用于复合电镀作业的电镀槽，包括电镀槽本体，其特征在于：所述电镀槽本体侧壁内表面上均布若干电极定位槽、嵌于电极定位槽内的电极和用于电极定位的电极架，其中所述的电极定位槽为断面呈“L”型的槽状结构，嵌于电镀槽本体内，其轴线与电镀槽本体侧壁内表面平行分布，所述的电极定位槽前端面设密封隔断门，所述的密封隔断门通过滑轨与电极定位槽侧壁滑动连接，并与电极定位槽轴线平行分布，且密封隔断门运行方向与电极定位槽轴线方向平行，所述的电极通过电极架嵌于电极定位槽内，并与阳极定位槽内壁间间距均不小于5毫米，所述的电极架包括承载机架、驱动滑轨、滑块、升降驱动机构、定位夹具及离子膜，所述的承载机架为与电极定位槽同轴分布的框架结构，安装在电极定位槽对应的电镀槽本体上端面，所述的驱动滑轨共三组，且每组两条驱动滑轨，各组的驱动滑轨相互平行分布并均以电极定位槽轴线对称分布在电极定位槽的侧表上，各驱动滑轨均与电极定位槽轴线平行分布，所述的驱动滑轨通过滑块与承载机架相互滑动连接，所述的定位夹具均通过滑块与各组内的驱动滑轨相互连接，其中每组驱动滑轨均设至少一个定位夹具，所述的升降驱动机构嵌于驱动滑轨内，并与安装在该驱动滑轨上的滑块相互连接，所述的电极和离子膜均安装在定位夹具上，其中所述的电极安装在处于中间位置驱动滑轨的定位夹具上，所述的离子膜安装在处于两侧位置驱动滑轨的...

【专利技术属性】
技术研发人员：薛志刚，姚远军，花恒武，
申请(专利权)人：孟州市锐鑫金属表面处理有限公司，
类型：新型
国别省市：河南,41