一种基于超分辨光刻的间隙检测装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基于超分辨光刻的间隙检测装置，所述的装置由光源发出的光经Y型光纤导入光纤准直镜，在掩模的半透半反窗口产生分光，其中一束光反射回到光纤准直镜内部，另一束光经掩模的半透半反窗口透射后，经基片表面反射，透过掩模的半透半反窗口被光纤准直镜接收。此时，这两束光由于经过的光程不同，产生相位差，通过光谱仪进行探测，在上位机中分析不同波长对应的相位差，实现对掩模与基片之间的绝对间隙测量。本发明专利技术可以获得基片和掩模的光程差绝对值，进而获得基片和掩模两者之间光程差引起的相位差，得到掩模和基片之间的绝对间隙。通过控制纳米工件台消除间隙，实现间隙曝光，有效的保护了超分辨光刻器件，保证光刻图形质量。

A gap detection device based on super-resolution lithography

The invention provides a gap detection device based on super-resolution lithography. The light emitted by the light source is introduced into the optical fiber collimator through the Y type fiber. The light is divided into the half reverse window of the mask. One beam of light is reflected back to the interior of the optical fiber collimator, and the other beam is transmitted through the half reverse window of the mask through the substrate. Surface reflection, half transparent half window through mask is received by optical fiber collimator. At this time, due to the different optical path of the two beams, the phase difference is generated, and the phase difference between the different wavelengths is analyzed in the upper computer, and the absolute gap measurement between the mask and the substrate is realized. The invention can obtain the absolute value of the optical path difference between the substrate and the mask, and then obtain the phase difference caused by the optical path difference between the substrate and the mask, and obtain the absolute gap between the mask and the substrate. By controlling the clearance of nano workpieces to achieve gap exposure, the super resolution lithography device is effectively protected and the quality of lithography graphics is ensured.

【技术实现步骤摘要】
一种基于超分辨光刻的间隙检测装置
本专利技术是一种基于超分辨光刻的间隙检测装置，属于超大规模集成电路制造及光学微细加工技术中的纳米器件制造

技术介绍
基于表面等离子体效应的超透镜成像技术是近年来受关注的一种新型超分辨光学成像方法。该光刻技术从物理本质上，属于近场光刻，其工作距离极短，因此在曝光时通常需要通过吹气加压和真空吸紧等方式，以保证工作距。显然，这样会造成掩模损伤。众所周知，掩模一般是昂贵的、精密加工的图形结构，为了保持其一定的使用寿命，在保证成像分辨力及成像质量的情况下延伸掩模与光刻衬底之间的间隙(工作距)是一个基于超分辨光刻技术急需解决的关键技术问题。1999年EuclidE.Moon等人提出采用干涉空间位相成像方法对光刻间隙进行检测。该检测技术是在掩模上刻蚀TCG结构的二维棋盘光栅，光纤激光经过衍射，反射，再衍射等过程形成干涉条纹，通过处理干涉条纹数据，可以高精度的解析出间隙值。2016年罗先刚研究员等人提出一种基于啁啾光栅衍射成像方法对光刻间隙进行检测。该检测技术通过光栅衍射成像技术，实现纳米量级的在线检测和控制。本专利技术的一种超分辨光刻的间隙检测装置。该装本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于超分辨光刻的间隙检测装置，其特征在于：该装置包括白光光源，Y型光纤，物镜镜框，光纤准直镜，掩模，基片，纳米工件台，光谱仪和上位机，其中光纤准直镜和掩模由镜框进行装夹；掩模的非图形区域留有半透半反的窗口，且半透半反窗口处镀有铬层，同时基片上镀有银层，从白光光源输出的光由Y型光纤将入射光导入光纤准直镜，入射光在掩模下表面的半透半反窗口产生分光，一束光反射回光纤准直镜内部，另一束光经掩模的半透半反窗口透射后，经基片表面的银层反射，透过掩模的半透半反窗口被光纤准直镜接收，此时，被返回的两束光由Y型光纤返回光谱仪，由光谱仪进行探测，因为两束光经过的光程不同，从而产生相位差，在上位机中分析不同波长...

【技术特征摘要】
1.一种基于超分辨光刻的间隙检测装置，其特征在于：该装置包括白光光源，Y型光纤，物镜镜框，光纤准直镜，掩模，基片，纳米工件台，光谱仪和上位机，其中光纤准直镜和掩模由镜框进行装夹；掩模的非图形区域留有半透半反的窗口，且半透半反窗口处镀有铬层，同时基片上镀有银层，从白光光源输出的光由Y型光纤将入射光导入光纤准直镜，入射光在掩模下表面的半透半反窗口产生分光，一束光反射回光纤准直镜内部，另一束光经掩模的半透半反窗口透射后，经基片表面的银层反...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯金花，唐燕，何渝，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：四川,51