The invention provides a glass substrate thinning etchant, which is prepared by the raw material including the following weight percentage: four Butyl Ammonium fluoride: 10, 20%, 1, 10%, inorganic acid, 1, 10%, metal chelating agent 1, 7%, 1, 5%, polyvinyl alcohol (PVA): 1 2%, and remainder water. The glass substrate thinning etching solution is provided with F by four butylammonium fluoride.
【技术实现步骤摘要】
一种玻璃基板减薄蚀刻液
本专利技术涉及玻璃基板减薄生产
,尤其是涉及一种玻璃基板减薄蚀刻液。
技术介绍
平板显示领域中,包括等离子体显示、触摸屏、液晶显示等制备工艺过程中,为了进一步减轻显示器件的重量,生产厂家越来越多的采用将玻璃基板进行减薄的方法。玻璃基板减薄的方法通常有两种,一种是物理抛光研磨,另一种是化学蚀刻减薄,其中,化学蚀刻减薄是最为广泛应用的。目前,所使用的减薄蚀刻液基板采用的都是以氢氟酸为主要成分,但氢氟酸的毒性大、易挥发,尤其是在配置时需采用较高的温度和浓度,不仅生产过程中危险性高,而且会对环境造成巨大污染。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术旨在提出一种玻璃基板减薄蚀刻液,通过优化配方,由四丁基氟化铵提供F-,有机酸和无机酸可提供H+,同样达到了蚀刻玻璃的效果,还避免使用氢氟酸。为达到上述目的,本专利技术的技术方案是这样实现的:一种玻璃基板减薄蚀刻液,该蚀刻液由包括如下重量百分比的原料制备得到:四丁基氟化铵:10-20%,有机酸:1-10%,无机酸:1-10%,金属螯合剂:1-7%,表面活性剂:1-5%,聚乙烯醇(PVA):1-2%,及余量的水。进一步,该蚀刻液由包括如下重量百分比的原料制备得到:四丁基氟化铵:10-20%,有机酸:5-10%,无机酸:5-10%,金属螯合剂:1-7%,表面活性剂:1-5%,聚乙烯醇(PVA):1-2%,及余量的水。进一步,所述金属螯合剂为氨基三乙酸(NTA)或乙二胺四乙酸(EDTA)。进一步,所述有机酸为甲酸、乙酸、草酸、丙酸、乙二酸、丁二酸、水杨酸、山梨酸、柠檬酸、苹果酸、苯甲酸或甲磺酸中的一种或几种 ...
【技术保护点】
一种玻璃基板减薄蚀刻液,其特征在于:该蚀刻液由包括如下重量百分比的原料制备得到:四丁基氟化铵:10‑20%,有机酸:1‑10%,无机酸:1‑10%,金属螯合剂:1‑7%,表面活性剂:1‑5%,聚乙烯醇(PVA):1‑2%,及余量的水。
【技术特征摘要】
1.一种玻璃基板减薄蚀刻液,其特征在于:该蚀刻液由包括如下重量百分比的原料制备得到:四丁基氟化铵:10-20%,有机酸:1-10%,无机酸:1-10%,金属螯合剂:1-7%,表面活性剂:1-5%,聚乙烯醇(PVA):1-2%,及余量的水。2.根据权利要求1所述的玻璃基板减薄蚀刻液,其特征在于:该蚀刻液由包括如下重量百分比的原料制备得到:四丁基氟化铵:10-20%,有机酸:5-10%,无机酸:5-10%,金属螯合剂:1-7%,表面活性剂:1-5%,聚乙烯醇(PVA):1-2%,及余量的水。3.根据权利要求1或2所述的玻璃基板减薄蚀刻液,其特征在于:所述金属螯合剂为氨基三乙酸(NTA)或乙二胺四乙酸(EDTA)。4.根据权利要求1或2所述的玻璃基板减薄蚀刻液,其特征在于:所述有机酸为甲酸、乙酸...
【专利技术属性】
技术研发人员:张杰,沈励,郑建军,姚仕军,夏伟,吴青肖,
申请(专利权)人:天津美泰真空技术有限公司,
类型:发明
国别省市:天津,12
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