The invention relates to a preparation method of a black polyimide film on a matte surface. The main steps are as follows: 1. (II) preparation of black slurry, the amount of black pigment is 2 to 20wt% of the solid content of M in the polyamide acid resin solution. III. preparation of black polyamide acid resin solution, polyamide acid resin solution, black slurry and agglomerating agent mixing and stirring, defoaming. After the filtration system of the solution of polyamide acid, the pipeline was treated by magnetic field or ultrasonic treatment. The resin solution completed the magnetic field or the ultrasonic reunion treatment, and then the black polyimide film on the surface of the sub light was made by the conventional solution. The average particle size of the black pigment was 0.01 ~ 0.8 m, and the reunion agent was added during the polycondensation of polyamides. The transmittance, glossiness and physical and mechanical properties of the film were obviously improved.
【技术实现步骤摘要】
一种亚光表面的黑色聚酰亚胺薄膜制备方法
本专利技术涉及聚酰亚胺薄膜制造技术,具体为一种亚光表面的黑色聚酰亚胺薄膜制备方法。
技术介绍
挠性印制线路板(FPC)广泛应用于3C产品、光学镜头模块、液晶显示器(LCD)模块及太阳能电池等产品,而聚酰亚胺薄膜(PolyimideFilm,简称PI膜)常用作其基材或覆盖膜材料,应用过程中由于传统PI膜均具有高表面平坦度,薄膜表面反射大多数的入射光线而产生高光泽度。高光泽度的膜面存在光反射产生的眩光或散光,造成视觉的不舒适,长时间观看时易使眼睛疲劳。尤其是具有黑色、白色、蓝色、红色等颜色的高光泽度PI膜聚酰亚胺薄膜,其表面产生的反射光对视觉的影响更为显著。另一方面,表面光泽度较大和透明性较高的PI膜应用于FPC时,FPC的线路设计分布易于解读而被同业抄袭。故而现市场需求具备低光泽度、低透光性及高绝缘强度等特性的PI膜。低光泽度黑色PI膜的高绝缘强度及低透光性可保护内部电路设计,同时可使组件外观更具质感与美观。目前聚酰亚胺薄膜的生产工艺是以经过缩聚反应合成的聚酰胺酸树脂溶液为原料,在流涎机上流涎得到具有自支撑性的聚酰胺酸厚膜,再经过加热拉伸、亚胺化、冷却定型处理得到聚酰亚胺薄膜。要得到兼具低光泽度、低透光性及高绝缘强度的聚酰亚胺薄膜,在聚酰亚胺薄膜制备过程中必须添加呈色添加剂(例如:色料、染料等)及消光剂。一般的工艺是采用有色添加剂以降低聚酰亚胺薄膜的透光度,或者添加消光剂使得聚酰亚胺薄膜表面形成凹凸微结构以降低聚酰亚胺薄膜的光泽度。现有技术中一般采用微米级粒径的消光剂,因现有挤出模头的过滤系统滤芯孔径较小,在挤出流涎过 ...
【技术保护点】
一种亚光表面的黑色聚酰亚胺薄膜制备方法,包括如下主要步骤:Ⅰ、聚酰胺酸树脂溶液的制备在惰性气氛中,控制合成体系温度为22℃~72℃的条件下向溶剂中加入芳族二胺进行搅拌溶解,芳族二胺完全溶解后,分3~8次匀速加入与芳族二胺摩尔比为(0.9~1.1):1的芳族二酸酐,并以120r/min~1200r/min搅拌,经缩聚反应3~12h合成得到聚酰胺酸树脂溶液;所述溶剂为非质子性极性溶剂低分子量羧基酰胺,具体为N,N'‑二甲基乙酰胺、N,N'‑二甲基甲酰胺、N‑甲基吡咯烷酮、二甲亚砜、四甲基砜、N,N'‑二甲基‑N,N'‑丙烯基脲、N,N二烷基羧基酰胺中的任意一种或任意多种的组合;所述芳族二胺、芳族二酸酐和溶剂的用量控制为最终形成的聚酰胺酸树脂溶液中的固含量M比例为10wt%~50wt%;所述芳族二胺为3,4'‑二氨基二苯醚、1,3‑二‑(4‑氨基苯氧基)苯、4,4'‑二氨基二苯醚、1,3‑二氨基苯、2,2'‑双(三氟甲基)联苯胺、4,4'‑二氨基联苯和对苯二胺中的任意一种或任意多种的组合;所述芳族二酸酐为均苯四甲酸二酸、3,3',4,4'‑联苯四竣酸二酸酐、2,2',3,3'‑联苯四竣酸二酸 ...
【技术特征摘要】
1.一种亚光表面的黑色聚酰亚胺薄膜制备方法,包括如下主要步骤:Ⅰ、聚酰胺酸树脂溶液的制备在惰性气氛中,控制合成体系温度为22℃~72℃的条件下向溶剂中加入芳族二胺进行搅拌溶解,芳族二胺完全溶解后,分3~8次匀速加入与芳族二胺摩尔比为(0.9~1.1):1的芳族二酸酐,并以120r/min~1200r/min搅拌,经缩聚反应3~12h合成得到聚酰胺酸树脂溶液;所述溶剂为非质子性极性溶剂低分子量羧基酰胺,具体为N,N'-二甲基乙酰胺、N,N'-二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲亚砜、四甲基砜、N,N'-二甲基-N,N'-丙烯基脲、N,N二烷基羧基酰胺中的任意一种或任意多种的组合;所述芳族二胺、芳族二酸酐和溶剂的用量控制为最终形成的聚酰胺酸树脂溶液中的固含量M比例为10wt%~50wt%;所述芳族二胺为3,4'-二氨基二苯醚、1,3-二-(4-氨基苯氧基)苯、4,4'-二氨基二苯醚、1,3-二氨基苯、2,2'-双(三氟甲基)联苯胺、4,4'-二氨基联苯和对苯二胺中的任意一种或任意多种的组合;所述芳族二酸酐为均苯四甲酸二酸、3,3',4,4'-联苯四竣酸二酸酐、2,2',3,3'-联苯四竣酸二酸酐、二苯醚四甲酸二酸酐、苯酮四竣酸二酸酐、2,2-双(3,4-二羧酸苯基)六氟丙烷二酐、4,4'-氧双邻苯二甲酸酐、3,4,3',4'二苯硫醚四甲酸二酐、2,3,2',3'-二苯硫醚四甲酸二酐、2,3,3',4'-二苯硫醚四甲酸二酐中的任意一种或任意多种的组合;Ⅱ、黑色浆料制备取黑色颜料加入溶剂中混合搅拌均匀得到黑色浆料;加入黑色颜料的量为步骤Ⅰ所述聚酰胺酸树脂溶液中的固含量M的2wt%~20wt%,所述黑色颜料平均粒径0.01μm~0.8μm;所述溶剂为非质子性极性溶剂低分子量羧基酰胺,具体为N,N'-二甲基乙酰胺、N,N'-二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲亚砜、四甲基砜、N,N'-二甲基-N,N'-丙烯基脲、N,N二烷基羧基酰胺中的任意一种或任意多种的组合;所述黑色浆料的溶剂用量控制为黑色浆料中的黑色颜料含量比...
【专利技术属性】
技术研发人员:任小龙,马纪翔,陈志平,蒋耿杰,
申请(专利权)人:桂林电器科学研究院有限公司,
类型:发明
国别省市:广西,45
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