一种用于测量额定压差下薄膜对特定气体漏率的系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种用于测量额定压差下薄膜对特定气体漏率的系统，包括：第一腔体、第二腔体和薄膜安装法兰，所述第一腔体一端连接有复压阀，所述第一腔体上部连接有第一薄膜规，所述第一腔体下部连接有第三挡板阀和第四挡板阀，第四挡板阀连接有流量计，所述第三挡板阀通过管道与第二腔体连接，所述第一腔体上部连接有第一挡板阀，所述第一挡板阀经管道与薄膜安装法兰相接，所述薄膜安装法兰经管道与第二腔体相接，所述第二腔体上部连接有第二薄膜规，所述第二腔体下部经第二挡板阀连接至机械泵。本实用新型专利技术可以直接测试薄膜在额定压差下对特定气体漏率，弥补了常规氦质谱检漏方法需要换算甚至无法实施的不足。

A system for measuring specific gas leakage rate of thin film under rated pressure difference

The utility model discloses a system for measuring the leakage rate of a film to a specific gas under rated pressure difference, including a first chamber, a second cavity and a film mounting flange. One end of the first cavity is connected with a pressure valve, the upper part of the first cavity is connected with a first film gauge, and the lower part of the first cavity is connected with a third baffle. The valve and the fourth baffle valve and the fourth baffle valve are connected with a flowmeter, and the third baffle valve is connected to the second cavity through a pipe. The upper part of the first body is connected with a first baffle valve, the first baffle valve is connected to the film mounting flange through the pipe, and the film mounting flange is connected to the second cavity through the pipe, and the second is said to be connected to the second cavity. The upper part of the cavity is connected with a second film gauge, and the lower part of the second cavity body is connected to the mechanical pump through the second baffle valve. The utility model can directly test the leakage rate of the film to a specific gas under the rated pressure difference, and make up for the deficiency of the conventional helium mass spectrometry leak detection method, or even can not be implemented.

【技术实现步骤摘要】
一种用于测量额定压差下薄膜对特定气体漏率的系统
本技术涉及真空
，具体涉及一种用于测量额定压差下薄膜对特定气体漏率的系统。
技术介绍
泄漏检测是评价真空系统及零部件能否有效运行的重要指标之一，所以就需要精确的测量出漏率。准确定义一个漏率，必须要明确漏孔两侧的压差、泄漏的介质、以及测量漏率时的环境温度和湿度。常规的泄漏检测方法，有气泡检漏、压力变化检漏、卤素检漏、氦质谱检漏等，其中压力变化检漏、卤素检漏、氦质谱检漏能准确获得漏率值，卤素检漏仪应用较少，目前应用在真空
最广泛的就是氦质谱检漏技术。氦质谱检漏技术可以广泛的应用于真空或者承压部件的漏率测量和密封性能的评价，但是需要将工件以对氦气的漏率进行描述，常规的表达为“该部件在一个大气压的压差(或者一定压强的氦气)下，对氦气的漏率不大于1.0E-9pa·m3/s”这种方法，对于评价可能出现的因为空气泄漏进入造成的真空部件的压力上升，是非常可靠的，但是要准确测算一工作介质为额定压强的特殊气体时，通过氦漏率来换算显示是不准确，而且，当漏率值较大时，氦质谱检漏设备的离子源甚至无法启动导致不能工作，所以必须要寻求更为有效准确的漏率测本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于测量额定压差下薄膜对特定气体漏率的系统，其特征在于包括：第一腔体、第二腔体和薄膜安装法兰，所述第一腔体一端连接有复压阀，所述第一腔体上部连接有第一薄膜规，所述第一腔体下部连接有第三挡板阀和第四挡板阀，第四挡板阀连接有流量计，所述第三挡板阀通过管道与第二腔体连接，所述第一腔体上部连接有第一挡板阀，所述第一挡板阀经管道与薄膜安装法兰相接，所述薄膜安装法兰经管道与第二腔体相接，所述第二腔体上部连接有第二薄膜规，所述第二腔体下部经第二挡板阀连接至机械泵。

【技术特征摘要】
1.一种用于测量额定压差下薄膜对特定气体漏率的系统，其特征在于包括：第一腔体、第二腔体和薄膜安装法兰，所述第一腔体一端连接有复压阀，所述第一腔体上部连接有第一薄膜规，所述第一腔体下部连接有第三挡板阀和第四挡板阀，第四挡板阀连接有流量计，所述第三挡板阀通过管道与第二腔体连接，所述第一腔体上部连接有第一挡板阀，所述第一挡板阀经管道与薄膜安装法兰相接，所述薄膜安装法兰经管道与第二腔体相接，所述第二腔体上部连接有第二薄膜规，所述第二腔体下部经第二挡板阀连接至机械泵。2.根据权利要求1所述的一种用于测量额定压差下薄膜对特定气体漏率的系统，其特征在于：所述第一薄膜规和第二薄膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘翼，陶涛，孙军，
申请(专利权)人：合肥科烨电物理设备制造有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽,34