一种自适应柔性放电等离子体装置制造方法及图纸

一种自适应柔性放电等离子体装置，在基座的上部设有介质体A，介质体A的下表面有粘性，在介质体A的上部设有高压电极，高压电极通过导线与高压电源连接，在高压电极的上表面设有介质体B，介质体B的下表面有粘性，在介质体B的上表面设有光催化材料，在光催化材料的上部设有介质体C，介质体C的下表面有粘性，在介质体C的上表面设有地电极，地电极上均匀排列直径相同的通孔。本发明专利技术可适应不规则处理对象，实现表面贴合放电处理；低能耗，可实现介质阻挡沿面放电，提高放电催化的复合处理效率；提高自适应柔性放电等离子体装置重复使用寿命和处理效率。

【技术实现步骤摘要】
一种自适应柔性放电等离子体装置
本专利技术涉及一种放电装置，尤其是柔性放电装置。
技术介绍
大气压非平衡低温等离子体高级氧化技术具有低放电气体温度、强化学活性、高处理效率、低能量消耗等特点，在杀菌消毒、环境净化、材料合成等多学科交叉领域的应用备受界内人事关注。其中，由于沿面放电其放电面积的可扩展性，易于形成大面积放电，因此，对沿面放电的研究和关注更是重点中的重点。目前已知，沿面放电装置的结构及稳定放电的参数决定了等离子体的密度、活性物质浓度、活性物种种类等多种要素，根据不同处理对象的应用可设计不同的沿面放电装置。然而，现有的沿面放电装置对非规则表面处理由于与放电表面贴合不紧密普遍存在效率低、放电要求高以及处理效果不均匀等问题，无法满足人们的需求。
技术实现思路
本专利技术目的在于提供一种能耗低、要求低、适应不规则表面处理的自适应柔性放电等离子体装置。本专利技术主要包括基座、介质体A、高压电极、介质体B、光催化材料、介质体C和地电极。其中，在基座的上部设有介质体A，介质体A的下表面有粘性，且介质体A的下表面紧贴在基座的上部。在介质体A的上部设有若干高压电极，高压电极通过导线与高压电源连接。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种自适应柔性放电等离子体装置，主要包括基座、介质体A、高压电极、介质体B、光催化材料、介质体C和地电极，其特征在于：在基座的上部设有介质体A，介质体A的下表面有粘性，且介质体A的下表面紧贴在基座的上部，在介质体A的上部设有高压电极，高压电极通过导线与高压电源连接，在高压电极的上表面设有介质体B，介质体B的下表面有粘性，且介质体B的下表面紧贴在介质体A的上部，在介质体B的上表面设有光催化材料，在光催化材料的上部设有介质体C，介质体C的下表面有粘性，且介质体C的下表面紧贴在光催化材料的上部，在介质体C的上表面设有地电极，地电极上均匀排列直径相同的通孔，且地电极通过导线与大地相连，介质体A、介质体...

【技术特征摘要】
1.一种自适应柔性放电等离子体装置，主要包括基座、介质体A、高压电极、介质体B、光催化材料、介质体C和地电极，其特征在于：在基座的上部设有介质体A，介质体A的下表面有粘性，且介质体A的下表面紧贴在基座的上部，在介质体A的上部设有高压电极，高压电极通过导线与高压电源连接，在高压电极的上表面设有介质体B，介质体B的下表面有粘性，且介质体B的下表面紧贴在介质体A的上部，在介质体B的上表面设有光催化材料，在光催化材料的上部设有介质体C，介质体C的下表面有粘性，且介质体C的下表面紧贴在光催化材料的上部，在介质体C的上表面设有地电极，地电极上均匀排列直径相同的通孔，且地电极通过导线与大地相连，介质体A、介质体B、介质体C的大小均相同，介质体A的大小比高压电极大，高压电价的大小比地电极大。2.根据权利要求1所述的一种自适应柔性放电等离子体装置，其特征在于：高压电极呈井字形排布。3.根据权利要求1所述的一...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋颖，林雪松，赵志国，刘东平，
申请(专利权)人：大连民族大学，
类型：发明
国别省市：辽宁,21