【技术实现步骤摘要】
一种延长研磨垫修整盘使用寿命的方法及研磨垫修整盘
本专利技术涉及半导体制造
,尤其涉及一种延长研磨垫修整盘使用寿命的方法及研磨垫修整盘。
技术介绍
在大规模集成电路的制造领域中,化学机械研磨工艺是一个复杂的工艺过程,它是将晶圆表面与研磨垫的研磨表面接触,然后,通过晶圆表面与研磨垫的摩擦使原来凹凸不平的晶圆表面变得平坦。化学机械研磨的主要部件有研磨头、固定环、研磨台、研磨垫、研磨液供给装置、修整盘以及清洗装置等。目前,研磨垫修整盘是化学机械研磨过程中一种很重要的消费品。研磨垫修整盘由一块圆饼型金属盘表面均匀镶嵌一层细小的金刚石,利用金刚石硬度高,耐磨性好的特点,在化学机械研磨过程中重新建立粗糙的衬垫表面,使得研磨垫以高的形貌选择性获得表面平坦化。但当研磨垫修整盘被消耗至一定程度时,其表面金刚石被磨得比较光滑,研磨垫与修整盘之间的摩擦力就会减小,修整盘对研磨垫的修整作用下降,因此不能继续使用,需要更换新的修整盘,为此降低了研磨利用率及生产效率,并且增加了经济负担。
技术实现思路
针对现有技术中存在的上述问题,现提供一种旨在实现提高研磨垫修整盘的利用率,并且延长使用寿 ...
【技术保护点】
一种延长研磨垫修整盘使用寿命的方法,应用于化学机械研磨机,其特征在于,所述化学机械研磨机包括一研磨垫修整盘,所述化学机械研磨机内部设置有研磨垫,所述研磨垫修整盘连接驱动装置;具体方法如下:步骤S1,于所述研磨垫修整盘的外缘增加一备用修整盘,所述备用修整盘与所述研磨垫设有预定距离;步骤S2,预先设定所述研磨垫修整盘的使用周期;步骤S3,所述研磨垫修整盘的使用周期到期,则所述驱动装置发出反馈信号;步骤S4,电脑端控制所述备用修整盘落下与所述研磨垫接触。
【技术特征摘要】
1.一种延长研磨垫修整盘使用寿命的方法,应用于化学机械研磨机,其特征在于,所述化学机械研磨机包括一研磨垫修整盘,所述化学机械研磨机内部设置有研磨垫,所述研磨垫修整盘连接驱动装置;具体方法如下:步骤S1,于所述研磨垫修整盘的外缘增加一备用修整盘,所述备用修整盘与所述研磨垫设有预定距离;步骤S2,预先设定所述研磨垫修整盘的使用周期;步骤S3,所述研磨垫修整盘的使用周期到期,则所述驱动装置发出反馈信号;步骤S4,电脑端控制所述备用修整盘落下与所述研磨垫接触。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述步骤S1中,所述备用修整盘为环形结构。3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述备用修整盘面向所述研磨垫的一面设置有凸出的若干金刚石。4.根据权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员:曹玉荣,李虎,张守龙,赵正元,
申请(专利权)人:上海华力微电子有限公司,
类型:发明
国别省市:上海,31
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