一种基于反符合技术的β测量装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及辐射测量技术领域，具体公开了一种基于反符合技术的β测量装置，包括反符合探测器和主探测器，所述的主探测器与反符合探测器并列相邻设置，两者的底端共面。本发明专利技术装置中的反符合探测器由于存在铝屏蔽体，可以测量到单一的γ射线的信号，而主探测器可以同时测量到β射线信号与γ射线信号，通过反符合电路的减法运算，即可实现对天然γ本底的排除，提高β射线测量的准确度。

【技术实现步骤摘要】
一种基于反符合技术的β测量装置
本专利技术属于辐射测量
，具体涉及一种基于反符合技术的β测量装置。
技术介绍
随着核工业和核技术应用的发展，很多场所已建立起完善的辐射防护监测体系。其中对β射线的监测一直是辐射监测中的重点与难点，重点是有β射线往往伴随着放射性污染，需要准确测量，难点在于天然γ本底对β射线的测量造成较大干扰，很难准确地给出β射线测量结果。目前对于β射线的测量主要有两种主流方法，一是采用塑料闪烁体探测器，通过后端接光电转换器件，电子学处理电路，实现对β射线的测量，但是由于塑料闪烁体对γ射线也灵敏，因此在测量结果中不可避免地会有很多γ计数作为本底出现。虽然采用薄片的方式，降低了γ的影响，但是在某些要求精确测量β射线的场所，还是不能满足要求。二是高气压电离室，它与塑料闪烁体的问题一样，无法区分β计数与天然γ计数。因此亟需研究一种新的测量装置，以排除γ对β测量结果的影响。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种基于反符合技术的β测量装置，可以有效区分放射性测量过程中得到的β计数与γ计数。本专利技术的技术方案如下：一种基于反符合技术的β测量装置，包括反符合探测器和主探测器；本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于反符合技术的β测量装置，其特征在于：包括反符合探测器(6)和主探测器(7)；所述的主探测器(7)包括光电倍增管(1)、硅脂层(2)、塑料闪烁体(3)和避光壳(4)；所述的避光壳(4)为密封的壳体，选择避光材料；所述的塑料闪烁体(3)为薄片结构，设于避光壳(4)的内部上方；所述的光电倍增管(1)设于塑料闪烁体(3)的下方，在光电倍增管(1)与塑料闪烁体(3)相对的输入端上均匀涂覆硅脂层(2)，光电倍增管(1)与塑料闪烁体(3)通过硅脂层(2)进行耦合；所述光电倍增管(1)的输出端与后续电子学线路采用导线连接；所述的反符合探测器(6)包括光电倍增管二(1’)、硅脂层二(2’)、塑料闪烁体二...

【技术特征摘要】
1.一种基于反符合技术的β测量装置，其特征在于：包括反符合探测器(6)和主探测器(7)；所述的主探测器(7)包括光电倍增管(1)、硅脂层(2)、塑料闪烁体(3)和避光壳(4)；所述的避光壳(4)为密封的壳体，选择避光材料；所述的塑料闪烁体(3)为薄片结构，设于避光壳(4)的内部上方；所述的光电倍增管(1)设于塑料闪烁体(3)的下方，在光电倍增管(1)与塑料闪烁体(3)相对的输入端上均匀涂覆硅脂层(2)，光电倍增管(1)与塑料闪烁体(3)通过硅脂层(2)进行耦合；所述光电倍增管(1)的输出端与后续电子学线路采用导线连接；所述的反符合探测器(6)包括光电倍增管二(1’)、硅脂层二(2’)、塑料闪烁体二(3’)、避光壳二(4’)和铝屏蔽体(5)；所述的反符合探测器(6)与主探测器(7)的内部结构完全一致，区别仅在于在反符合探测器(6)的避光壳二(4’)的外部顶端设有铝屏蔽体(5)；所述的铝屏蔽体(5)能够屏蔽掉β射线对反符合探测器(6)的影响，同时避免过厚影响γ射线穿过；所述的主探测器(7)与反符合探测器(6)并列相邻设置，两者的底端共面；γ...

【专利技术属性】
技术研发人员：张庆威，王婷婷，刘红旗，
申请(专利权)人：中核控制系统工程有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11