负性光刻胶、悬浊液及该悬浊液的配制方法技术

本发明专利技术提供了一种负性光刻胶、悬浊液及该悬浊液的配制方法，所述负性光刻胶包括环化聚异戊二烯、溶剂及光敏剂；所述悬浊液包括负性光刻胶及玻璃粉。所述负性光刻胶或悬浊液中还包括硅烷偶联剂，所述硅烷偶联剂直接添加于所述负性光刻胶中或在悬浊液的配制过程中加入使用。所述硅烷偶联剂为γ‑氨丙基三乙氧基硅烷、γ‑(2,3‑环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷、γ‑（甲基丙烯酰氧）丙基三甲氧基硅烷的一种或几种。本发明专利技术负性光刻胶及悬浊液适用于GPP二极管制造工艺中的硅片腐蚀，其通过硅烷偶联剂同时与负性光刻胶中的环化聚异戊二烯和玻璃粉发生反应，提高玻璃粉的研磨分散效率，延长玻璃粉的沉降时间，提高悬浊液的稳定性，满足生产管理要求，降低成本。

The preparation method of negative photoresist, suspension and the suspension.

The present invention provides a method for preparing negative photoresist, suspension and the suspension, the negative photoresist including cyclization of polyisoprene, solvent and photosensitizer; the suspension including negative photoresist and glass powder. The negative photoresist or suspension including silane coupling agent, the silane coupling agent is added directly to the negative photoresist or in the preparation process of suspension in use. The silane coupling agent for gamma aminopropyltriethoxysilane, gamma (2,3 3-epoxypropoxy) propyltrimethoxysilane, gamma (Methacryloyloxy) one or several propyltrimethoxysilane. The invention is a negative photoresist and suspension for GPP diode manufacturing silicon wafer etching process, the cyclization of silane coupling agent and negative photoresist in polyisoprene and glass powder reaction, improve the grinding of glass powder dispersing efficiency, prolonging the settling time of glass powder, improve the suspension stability, meet the production the management requirements, reduce the cost.

【技术实现步骤摘要】
负性光刻胶、悬浊液及该悬浊液的配制方法
本专利技术涉及光刻胶
，尤其涉及一种负性光刻胶、悬浊液及该悬浊液的配制方法。
技术介绍
二极管的钝化材料需具备良好的电气性能及化学稳定性，还需满足可操作性及经济性的要求。玻璃作为电子工业的钝化和封接材料始于六、七十年代，美国G.E公司最先开发了A-4I1和A-5玻璃钝化二极管。该产品的特点是管芯经焊接酸洗后，得到洁净的PN结表面，然后将玻璃直接涂覆在PN结表面上，并按温度曲线融熔热成型，形成稳定致密的钝化和密封层，产品电性能良好，可靠性高。通过不断的探索和改进，将玻璃钝化技术直接运用于芯片制造，这不仅使芯片质量大大提高，成本也很低。这种技术就是芯片玻璃钝化，其为半导体器件钝化创出了一条低成本高可靠的新路。GPP二极管（glassivationpassivationparts）泛指引入或包含有结质膜保护工艺手段的全部有源器件，其漏电水平小，电压一致性好，这是因为GPP工艺在片子沟道开好后立即进行玻璃钝化，形成致密的钝化层。并且GPP二极管承受外界应力、外界冷热冲击器、耐高温能力、综合性能、批量生产能力等方面表现均较为优良，因而备受市场青睐，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种负性光刻胶，其特征在于：所述负性光刻胶包括环化聚异戊二烯、溶剂、光敏剂及硅烷偶联剂，所述硅烷偶联剂为γ‑氨丙基三乙氧基硅烷、γ‑(2,3‑环氧丙氧) 丙基三甲氧基硅烷、γ‑（甲基丙烯酰氧）丙基三甲氧基硅烷的一种或几种。

【技术特征摘要】
1.一种负性光刻胶，其特征在于：所述负性光刻胶包括环化聚异戊二烯、溶剂、光敏剂及硅烷偶联剂，所述硅烷偶联剂为γ-氨丙基三乙氧基硅烷、γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷、γ-（甲基丙烯酰氧）丙基三甲氧基硅烷的一种或几种。2.根据权利要求1所述的负性光刻胶，其特征在于：所述硅烷偶联剂的含量界于1000ppm～5000ppm之间。3.根据权利要求2所述的负性光刻胶，其特征在于：所述硅烷偶联剂的含量为1500ppm～2000ppm。4.根据权利要求1所述的负性光刻胶，其特征在于：所述环化聚异戊二烯的分子量为10万～14万，环化率为62～82%；所述溶剂为二甲苯溶液；所述光敏剂采用2，6-二[（4-叠氮基苯基）亚甲基]-4-甲基-环己酮或2，6-二（4-叠氮苯亚甲基）-4-甲基-环戊酮。5.一种悬浊液，包括相互混合的负性光刻胶及玻璃粉，所述负性光刻胶包括环化聚异戊二烯、溶剂、光敏剂，其特征在于：所述悬浊液还包括硅烷偶联剂，所述硅烷偶联剂为γ-氨丙基三乙氧基硅烷、γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷、γ-（甲基丙烯酰氧）丙基三甲氧基硅烷的一种或几种。6.根据权利要求5所述的悬浊液，其特征在于：所述硅烷偶联剂的含量界于400ppm～2000ppm之间。7....

【专利技术属性】
技术研发人员：马骥，黄巍，
申请(专利权)人：苏州瑞红电子化学品有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32