The invention relates to an anti glare sapphire screen and a preparation method. An anti glare sapphire screen, including Sapphire Wafers and the first TiO2 layer, the first silica layer, the second titanium dioxide layer and the two silica layer sequentially stacked on sapphire wafers. A method of preparing anti glare sapphire screen comprises the following steps: the growth of sapphire wafer; sapphire wafer annealing; on sapphire wafer cutting processing; on sapphire wafer polishing; and on the surface of Sapphire Wafers sequentially laminated first titanium oxide layer, two layer, second first silica titania layer and two layers of silicon dioxide. The anti glare sapphire screen and a preparation method thereof, the sapphire wafer sequentially laminated alternately TiO2 layer and SiO2 layer, the refraction anti glare sapphire screen was reduced to 1.02 ~ 1.2, and transmittance increased to 92% ~ 98%, so as to prevent the glare of the human eye irritation, also is beneficial to display information on an electronic device the.
【技术实现步骤摘要】
防眩光蓝宝石屏幕及其制备方法
本专利技术涉及显示屏制备
,特别是涉及防眩光蓝宝石屏幕及其制备方法。
技术介绍
自2012年以来,蓝宝石在手机Home键、手机屏幕保护盖、智能手表镜面及摄像镜头等的应用逐年增加。蓝宝石做屏幕不仅耐磨,而且能使触屏更灵敏、导热性、透光性更强,能够保证画面清晰,是智能手机屏幕的新选择。然而,蓝宝石晶片作为屏幕使用时,户外强光在屏幕及其表面上产生反射会引起较强的眩光,对眼睛具有一定的影响并造成眼部不适,在户外使用时,配置有蓝宝石屏幕的电子设备由于反射了大量的太阳光,使得设备上的信息难以被阅读,且屏幕上的画质也会降低。
技术实现思路
基于此,有必要针对目前蓝宝石屏幕防眩光性能不足问题,提供一种防眩光蓝宝石屏幕及其制备方法。一种防眩光蓝宝石屏幕,包括蓝宝石晶片及依次层叠于所述蓝宝石晶片一个表面的第一二氧化钛层、第一二氧化硅层、第二二氧化钛层及第二二氧化硅层;其中,所述第一二氧化钛层的厚度为15nm~25nm;所述第一二氧化硅层的厚度为55nm~65nm;所述第二二氧化钛层的厚度为15nm~25nm;所述第二二氧化硅层的厚度为55nm~65nm。在其中一个实施方式中,还包括依次层叠于所述蓝宝石晶片远离所述第一二氧化钛层的表面的第三二氧化钛层、第三二氧化硅层、第四二氧化钛层及第四二氧化硅层。在其中一个实施方式中,所述第三二氧化钛层的厚度为15nm~25nm;所述第三二氧化硅层的厚度为55nm~65nm;所述第四二氧化钛层的厚度为15nm~25nm;所述第四二氧化硅层的厚度为55nm~65nm。一种防眩光蓝宝石屏幕的制备方法,包括以下步骤: ...
【技术保护点】
一种防眩光蓝宝石屏幕,其特征在于,包括蓝宝石晶片及依次层叠于所述蓝宝石晶片一个表面的第一二氧化钛层、第一二氧化硅层、第二二氧化钛层及第二二氧化硅层;其中,所述第一二氧化钛层的厚度为15nm~25nm;所述第一二氧化硅层的厚度为55nm~65nm;所述第二二氧化钛层的厚度为15nm~25nm;所述第二二氧化硅层的厚度为55nm~65nm。
【技术特征摘要】
1.一种防眩光蓝宝石屏幕,其特征在于,包括蓝宝石晶片及依次层叠于所述蓝宝石晶片一个表面的第一二氧化钛层、第一二氧化硅层、第二二氧化钛层及第二二氧化硅层;其中,所述第一二氧化钛层的厚度为15nm~25nm;所述第一二氧化硅层的厚度为55nm~65nm;所述第二二氧化钛层的厚度为15nm~25nm;所述第二二氧化硅层的厚度为55nm~65nm。2.根据权利要求1所述的防眩光蓝宝石屏幕,其特征在于,还包括依次层叠于所述蓝宝石晶片远离所述第一二氧化钛层的表面的第三二氧化钛层、第三二氧化硅层、第四二氧化钛层及第四二氧化硅层。3.根据权利要求2所述的防眩光蓝宝石屏幕,其特征在于,所述第三二氧化钛层的厚度为15nm~25nm;所述第三二氧化硅层的厚度为55nm~65nm;所述第四二氧化钛层的厚度为15nm~25nm;所述第四二氧化硅层的厚度为55nm~65nm。4.一种防眩光蓝宝石屏幕的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:在蓝宝石晶片的表面依次层积第一二氧化钛层、第一二氧化硅层、第二二氧化钛层及第二二氧化硅层;其中,所述第一二氧化钛层的厚度为15nm~25nm;所述第一二氧化硅层的厚度为55nm~65nm;所述第二二氧化钛层的厚度为15nm~25nm;所述第二二氧化硅层的厚度为55nm~65nm。5.根据权利要求4所述的防眩光蓝宝石屏幕的制备方法,其特征在于,所述在蓝宝石晶片的表面依次层积第一二氧化钛层、第一二氧化硅层、第二二氧化钛层及第二二氧化硅层的步骤前还包括步骤:生长蓝宝石晶片;对所述蓝宝石晶片进行退火处理;对所述蓝宝石晶片进行切割处理;及对所述蓝宝石晶片进行抛光处理。6.根据权利要求5所述的防眩光蓝宝石屏幕的制备方法,其特征在于,采用导模法生长蓝宝石晶片;所述采用导模法生长蓝宝石晶片的步骤中,模具为钼制片状模具,原材料为氧化铝,发热体为石墨。7.根据权利要求5所述的防眩光蓝...
【专利技术属性】
技术研发人员:易伟华,张迅,周慧蓉,张伯伦,
申请(专利权)人:江西沃格光电股份有限公司,
类型:发明
国别省市:江西,36
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