靶材组件的加工方法技术

技术编号:17607772 阅读:51 留言:0更新日期:2018-04-04 01:17
本发明专利技术提供一种靶材组件的加工方法,包括:提供具有待加工面的靶坯;采用砂带对待加工面进行自动抛光处理以形成溅射面。本发明专利技术采用砂带对待加工面进行自动抛光处理以形成溅射面,一方面,相比砂纸,砂带的尺寸更大,因此砂带与待加工面的接触面积更大,为了完成对整个待加工面的抛光处理,砂带沿平行于待加工面方向上的移动次数相应减少,从而减少溅射面的表面纹路和棱边,降低溅射面粗糙度;另一方面,相比人工抛光处理的方案,自动抛光的方法可以提高抛光处理中力度的均一性,从而提高溅射面的粗糙度均匀性以及表面纹路均匀性,进而可以改善靶材组件初期溅射时的累积放电问题。

Processing methods of target components

The invention provides a processing method for a target assembly, including providing a target blank with the surface to be machined, and applying the abrasive belt to automatically polish the processing surface to form the sputtering surface. The invention adopts belt to automatic processing surface polishing treatment to form a sputtering surface, on the one hand, compared with sandpaper, abrasive belt size is bigger, so the belt and contact surface area to be processed more, in order to complete the whole machining surface polishing, abrasive belt along the number of moves parallel to the surface to be processed on the direction of the corresponding reduction in order to reduce the sputtering surface texture and edge, reduce the sputtering surface roughness; on the other hand, compared to the manual polishing treatment scheme, uniform method of automatic polishing can improve the strength of polishing treatment, thereby improving the sputtering surface roughness uniformity and surface texture uniformity, which can improve the cumulative discharge problem of target assembly early when the sputtering.

【技术实现步骤摘要】
靶材组件的加工方法
本专利技术涉及半导体制造领域,尤其涉及靶材组件的加工方法。
技术介绍
液晶显示器(LCD)以其无辐射、省电、所占空间小等优点逐渐取代传统阴极射线显像管(CRT)显示器,现已被广泛应用到生产、生活的各个领域,比如电脑显示器、笔记本电脑、平板电脑、手机、电视、监控设备、工业控制仪表等。而且据统计显示,液晶显示器仍以每年10%以上增长以顺应市场需求。金属靶材是液晶显示器制造中最重要的原材料之一,液晶显示器的制造普遍采用物理气相沉积工艺,在物理气相沉积过程中,电离形成的氩离子在电场的作用下加速,加速的氩离子轰击金属靶材形成大量靶材原子,溅射出的大量靶材原子沉积在玻璃基板上形成薄膜。随着电子信息产业的高速发展,对靶材溅射性能的要求也越来越高。但是,现有技术靶材组件的性能和良率有待提高。
技术实现思路
本专利技术解决的问题是提供一种靶材组件的加工方法,提高靶材组件的性能和良率。为解决上述问题,本专利技术提供一种靶材组件的加工方法,包括:提供靶坯,所述靶坯具有待加工面;采用砂带对所述待加工面进行自动抛光处理,以形成溅射面。可选的,采用砂带对所述待加工面进行自动抛光处理的步骤中,对所本文档来自技高网...
靶材组件的加工方法

【技术保护点】
一种靶材组件的加工方法,其特征在于,包括:提供靶坯,所述靶坯具有待加工面;采用砂带对所述待加工面进行自动抛光处理,以形成溅射面。

【技术特征摘要】
1.一种靶材组件的加工方法,其特征在于,包括:提供靶坯,所述靶坯具有待加工面;采用砂带对所述待加工面进行自动抛光处理,以形成溅射面。2.如权利要求1所述的靶材组件的加工方法,其特征在于,采用砂带对所述待加工面进行自动抛光处理的步骤中,对所述待加工面进行至少一次自动抛光处理。3.如权利要求1所述的靶材组件的加工方法,其特征在于,采用砂带对所述待加工面进行自动抛光处理的步骤中,采用设有所述砂带的砂带抛光机,对所述待加工面进行自动抛光处理。4.如权利要求3所述的靶材组件的加工方法,其特征在于,采用砂带对所述待加工面进行自动抛光处理的步骤包括:采用第一砂带对所述待加工面进行粗抛光工艺;所述粗抛光工艺后,采用第二砂带对所述待加工面进行精抛光工艺,所述第二砂带的粗糙度小于所述第一砂带的粗糙度。5.如权利要求4所述的靶材组件的加工方法,其特征在于,所述粗抛光工艺所采用第一砂带的型号为160#或180#,所述精抛光工艺所采用第二砂带的型号为240#或300#。6.如权利要求5所述的靶材组件的加工方法,其特征在于,所述砂带抛光机上设有滚轮,所述粗抛光工艺的步骤包括:将所述第一砂带套置于滚轮上,采用设有所述第一砂带的滚轮对所述待加工面进行粗抛光工艺,所述滚轮的转速为1500转/分钟,工艺时间为60分钟至90分钟。7.如权利要求5所述的靶材组件的加工方法,其特征在于,所述砂带抛光机上设有滚轮,所述精抛光工艺的步骤包括:将所述第二砂带套置于滚轮上,采用设有所述第二砂带...

【专利技术属性】
技术研发人员:姚力军潘杰相原俊夫王学泽李小萍
申请(专利权)人:合肥江丰电子材料有限公司
类型:发明
国别省市:安徽,34

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