【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】显色结构体及其制造方法
本专利技术涉及一种利用在表面上形成的结构体进行显色的显色结构体及其制造方法。
技术介绍
不同于色素这样的伴随着归因于光吸收的电子跃迁而来的显色现象,还存在有这样的显色现象:即,虽然物质本身没有光吸收性,但利用由具有与光的波长相当或更小的波长的周期结构体带来的衍射、干涉或散射,从而通过仅反射或透射特定波长的光来进行显色。以下,在本说明书中,将这种显色现象称为结构显色。在周期结构体由(例如)不因紫外线而劣化的无机介电材料构成的情况下,只要结构得以保持,则即使放置于紫外线照射的环境下,结构显色也不会褪色。另外,利用衍射和干涉的结构显色的特征在于:所识别的光的波长根据观察角度而变化,因此,可以实现设计性高的表现。作为利用了这种结构显色的显色体,已经提出了利用多层膜干涉的显色结构体,该显示结构体是将折射率不同的高分子材料制成多层结构而成的(专利文献1)。然而,专利文献1所提出的显色结构体由于是高分子材料的多层结构,因而构成相邻各层的材料的折射率差较小,为了实现较强的反射而需要层叠多个层,制造成本增加。另外,多层膜干涉的影响变为主导性因素,取决于观察角度的颜色变化会变得急剧,从而难以表现特定的颜色。因此,已经提出了如同生活在自然界中的大闪蝶(Morphobutterfly)那样地、具有强反射且取决于观察角度的颜色变化较缓和的显色体(专利文献2)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2000-246829号公报专利文献2:日本特开2005-153192号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题但是,在专利文献2所提出的显色体中,难以通过简便的工 ...
【技术保护点】
一种显色结构体,其形成于基材的表面上,所述显色结构体在平面图中具有矩形形状,并且由具有高度不同的多个凸部的凹凸结构、以及包括层叠于所述凹凸结构上的多个层的层叠膜构成,在层叠方向上邻接的所述多个层由透过相同波长带的光、且相对于所述波长带的光具有不同折射率的材料构成,并且所述多个层的各层的厚度是恒定的。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.07.13 JP 2015-139969;2016.06.14 JP 2016-117901.一种显色结构体,其形成于基材的表面上,所述显色结构体在平面图中具有矩形形状,并且由具有高度不同的多个凸部的凹凸结构、以及包括层叠于所述凹凸结构上的多个层的层叠膜构成,在层叠方向上邻接的所述多个层由透过相同波长带的光、且相对于所述波长带的光具有不同折射率的材料构成,并且所述多个层的各层的厚度是恒定的。2.根据权利要求1所述的显色结构体,其特征在于,在所述凹凸结构中,凹凸结构A和凹凸结构B重叠而成为至少2级以上的多级结构,所述凹凸结构A具有在第1方向和第2方向上排列矩形而构成的平面形状的凸形状部,在所述矩形中,所述第1方向上的线宽为所述波长带的最小波长以下,与所述第1方向垂直的所述第2方向上的线长大于所述第1方向上的线宽,并且所述第2方向上的线长的标准偏差大于所述第1方向上的线宽的标准偏差,所述凹凸结构B由以所述波长带的最小波长的1/2以上的间距排列在所述第1方向上并且在所述第2方向上延伸的多个凸条构成。3.根据权利要求2所述的显色结构体,其特征在于,所述凹凸结构B通过重合2种以上的周期结构而构成,构成所述凹凸结构B的各周期结构的间距的平均值为所述波长带的最小波长的1/2以上。4.根据权利要求2所述的显色结构体,其特征在于,所述凹凸结构B在所述第1方向及所述第2方向的任一方向上都具有周期性。5.根据权利要求4所述的显色结构体,其特征在于,构成所述凹凸结构B的所述凸条的间距的平均值及标准偏差中的至少一者在所述第1方向和所述第2方向上是不同的。6.根据权利要求2所述的显色结构体,其特征在于,所述第1方向上的线宽为830nm以下,所述凹凸结构B中的所述第1方向上的间距为180nm以上。7.根据权利要求6所述的显色结构体,其特征在于,构成所述凹凸结构B的所述凸条在所述第1方向及所述第2方向上的间距的平均值为1μm以上100μm以下。8.根据权利要求1所述的显色结构体,其特征在于,所述凹凸结构具有在第1方向及垂直于所述第1方向的第2方向上排列矩形而构成的平面形状的所述凸部,所述凹凸结构及所述层叠膜分别形成于设置在所述基材表面上的多个像素区域中,在同一个像素区域内,所述凸部的高度是恒定的,所述凸部的高度不同的所述像素区域至少形成有两个。9.根据权利要求8所述的显色结构体,其特征在于,所述像素区域的所述第1方向及所述第2方向与所述矩形的所述第1方向及所述第2方向一致,在所述同一个像素区域内,所述矩形在所述第1方向上的长度是恒定的。10.根据权利要求9所述的显色结构体,其特征在于,在所述同一个像...
【专利技术属性】
技术研发人员:川下雅史,大木麻衣,
申请(专利权)人:凸版印刷株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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