底部平面不闭合的地下连续墙结构制造技术

技术编号:17482950 阅读:36 留言:0更新日期:2018-03-17 06:34
本发明专利技术公开了一种底部平面不闭合的地下连续墙结构,包括围绕待挖基坑周边设置的地下连续墙,地下连续墙深入岩面锚固,地下连续墙由多个槽段依次连接构成封闭式结构,各槽段的基础底部平面顺应岩面倾斜变化设计成标高不同的平面,形成高低不同的阶梯状。本发明专利技术摒弃现有的圆形地下连续墙结构设计,采用底部平面不闭合的圆形地下连续墙结构,地下连续墙以及基坑的底部均顺应岩面倾斜变化做成高低不同的阶梯状,不必使圆形地下连续墙在任意平面内结构闭合,减小槽段开挖总深度、基坑开挖总土石方量以及填芯总工程量,增加工作效率,减少工作时间,进而减少人力成本,同时减少了材料的使用,进而减少材料成本。

Underground continuous wall structure with unclosed bottom plane

The invention discloses an underground continuous wall structure at the bottom plane is not closed, including the underground continuous wall around the perimeter of the foundation pit excavation, deep underground continuous wall rock anchoring, underground continuous wall is composed of a plurality of slots are connected to form a closed structure, the bottom plane of each slot with oblique rock surface design changes a different elevation plane, forming different ladder. The present invention abandons the design structure of the existing circular underground continuous wall, the structure of the bottom plane not closed circular underground continuous wall, the bottom of the underground continuous wall and foundation pit are conform to the rock surface tilt change made different ladder, without making the circular underground continuous wall structure in arbitrary plane closed slot, reducing the total depth of excavation and the total earthwork excavation and filling the total project amount, increase work efficiency, reduce working time, thereby reducing the manpower cost, and reduce the use of materials, thereby reducing the cost of materials.

【技术实现步骤摘要】
底部平面不闭合的地下连续墙结构
本专利技术涉及倾斜岩面区域圆形地下连续墙结构设计
,具体涉及底部平面不闭合的地下连续墙结构。
技术介绍
随着城市建设的发展,高层建筑、地铁、桥梁等大型设备日益增多,其基础埋置深度大,再加上周围环境和施工场地的限制,将地下连续墙作为基坑的围护墙是常用的一种技术。在现有的桥梁的圆形地下连续墙结构设计中,地下连续墙各槽段底几乎位于同一标高上,当开挖到位时,地下连续墙槽段、内衬、帽梁平面自上而下各截面是一个个闭合的圆形结构,地下连续墙开挖基坑外侧的地面的标高也几乎位于同一标高。地下连续墙槽段、内衬、帽梁在开挖整个过程中,理论上均只受到平面上的环形压力,当地下连续墙所在区域覆盖层下岩面倾斜且基坑外侧地面起伏时,如果依然同现有的圆形地下连续墙结构设计,势必会增大槽段开挖总深度、基坑开挖总土石方量、内衬总工程量、填芯总工程量。由此可见,现有技术中的地下连续墙结构存在槽段开挖总深度、内衬总工程量以及基坑开挖总土石方量大的问题。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是目前的地下连续墙结构存在槽段开挖总深度、内衬总工程量以及基坑开挖总土石方量大的问题。为了解决上述技术问题,本专利技术所采用的技术方案是提供了一种底部平面不闭合的地下连续墙结构,包括围绕待挖基坑周边设置的地下连续墙,所述地下连续墙深入岩面锚固,所述地下连续墙由多个槽段依次连接构成部分封闭式结构,各所述槽段的基础底部平面顺应岩面倾斜变化设计成标高不同的平面,形成高低不同的阶梯状。在上述方案中,在岩面变化开挖底面变高处,各所述槽段分别再次向下加深,相应的所述地下连续墙嵌入岩面锚固。在上述方案中,所述地下连续墙的内壁上设有内衬墙,岩面变化开挖底面变高处的所述内衬墙,较深的所述内衬墙的底部延长并嵌入较浅的所述内衬墙下方的岩面。在上述方案中,所述地下连续墙截的部分截面为圆形,部分截面未封闭。在上述方案中,所述地下连续墙展开图中,中心线两侧的各所述槽段的底部根据岩面变化及计算需要可对称或不对称设置。本专利技术摒弃现有的圆形地下连续墙结构设计,采用底部平面不闭合的圆形地下连续墙结构,地下连续墙以及基坑的底部均顺应岩面倾斜变化做成高低不同的阶梯状,不必使圆形地下连续墙在任意平面内结构闭合,减小槽段开挖总深度、基坑开挖总土石方量以及填芯总工程量,增加工作效率,减少工作时间,进而减少人力成本,同时减少了材料的使用,进而减少材料成本。附图说明图1为本专利技术的地下连续墙的立面展开图;图2为本专利技术的地下连续墙的立面的结构示意图;图3为本专利技术的地下连续墙的平面的结构示意图;图4为本专利技术的图2中的1-1处的截面图;图5为本专利技术的图2中的2-2处的截面图。具体实施方式下面结合具体实施例和说明书附图对本专利技术予以详细说明。如图1~图5所示,本专利技术提供的底部平面不闭合的地下连续墙结构,包括围绕待挖基坑10周边设置的地下连续墙,地下连续墙深入岩面锚固,地下连续墙由多个槽段20依次连接构成部分封闭式结构,各槽段20的基础底部平面顺应岩面倾斜变化设计成标高不同的平面,并形成高低不同的阶梯状。如图4和图5所示,根据基坑10的设计要求,将地下连续墙的截面设计为圆形,且将地下连续墙的中心线40两侧的各槽段20的底部依岩面变化以及计算需求可对称或不对称设置,减少基坑10的开挖总土石方量,增加工作效率。如图1所示,岩面变化开挖底面变高处,各槽段20分别再次向下加深,相应的地下连续墙嵌入岩面锚固,增加地下连续墙与岩石的接触面积,为不闭合结构提供足够的水平抗力,确保水平传力满足要求,保证结构的安全。为了确保地下连续墙在开挖过程中受力满足要求,在地下连续墙的内壁上设有内衬墙30,岩面变化开挖底面变高处,较深的内衬墙30的底部平面延长并嵌入较浅的内衬墙30下方的岩面,使得内衬墙30与地下连续墙水平端部不在同一平面,减少应力集中,增强抗剪性能。本专利技术的实现方式如下:地下连续墙底部沿岩面变化并嵌入岩面以下一定深度进行锚固,在开挖的全过程地下连续墙在外侧土压力的作用下主要承受竖向弯矩和水平轴向压力,加深槽段20进而增加地下连续墙的深度可以增大地下连续墙与岩石之间接触面积,确保在水平轴力作用下岩面承压满足要求。内衬墙30在开挖过程中主要承受水平轴向压力和平面弯矩,岩面变化且开挖底面变高处,较深的内衬墙30的底部平面延长并嵌入较浅的内衬墙30下方的岩面,使得内衬墙30与地下连续墙的水平端部不在同一平面,减少应力集中,增强抗剪性能。本专利技术,摒弃现有的圆形地下连续墙结构设计,采用底部平面不闭合的圆形地下连续墙结构,地下连续墙以及基坑的底部均顺应岩面倾斜变化做成高低不同的阶梯状,不必使圆形地下连续墙在任意平面内结构闭合,减小槽段开挖总深度、基坑开挖总土石方量以及填芯总工程量,增加工作效率,减少工作时间,进而减少人力成本,同时减少了材料的使用,进而减少材料成本。本专利技术不局限于上述最佳实施方式,任何人应该得知在本专利技术的启示下作出的结构变化,凡是与本专利技术具有相同或相近的技术方案,均落入本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...
底部平面不闭合的地下连续墙结构

【技术保护点】
底部平面不闭合的地下连续墙结构,包括围绕待挖基坑周边设置的地下连续墙,所述地下连续墙深入岩面锚固,其特征在于,所述地下连续墙由多个槽段依次连接构成部分封闭式结构,各所述槽段的基础底部平面顺应岩面倾斜变化设计成标高不同的平面,并形成高低不同的阶梯状。

【技术特征摘要】
1.底部平面不闭合的地下连续墙结构,包括围绕待挖基坑周边设置的地下连续墙,所述地下连续墙深入岩面锚固,其特征在于,所述地下连续墙由多个槽段依次连接构成部分封闭式结构,各所述槽段的基础底部平面顺应岩面倾斜变化设计成标高不同的平面,并形成高低不同的阶梯状。2.如权利要求1所述的底部平面不闭合的地下连续墙结构,其特征在于,在岩面变化开挖底面变高处,各所述槽段分别再次向下加深,相应的所述地下连续墙嵌入岩面锚固。3.如权利要求1所述的底部平面不...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵小静苏宗华宋小三冯广胜涂满明毛伟琦陈治任黄旺明刘亦奇张睿智王英博李奔琦周超舟王艳峰
申请(专利权)人:中铁大桥局集团有限公司
类型:发明
国别省市:湖北,42

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