一种PDMS材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法技术
【技术实现步骤摘要】
一种PDMS材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法
本专利技术属于激光显示投影领域，尤其涉及一种PDMS(聚二甲基硅氧烷)材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法。
技术介绍
激光投影显示系统因其所具备的色彩丰富、画面质量高、寿命长、可靠性高、功效高、能耗低等优点，受到越来越广泛的关注和欢迎。然而由于激光是高相干光，不可避免地会产生一种称为激光散斑的画面噪声。散斑表现为随机分布在激光光斑中的黑色斑点，其实质为信号的随机相干叠加，散斑的存在严重影响图像和信息的质量。在激光投影显示领域，散斑会使投影显示的画面质量下降，导致观看者产生疲倦和头晕眼花等症状，严重影响激光投影仪使用者的体验，成为制约激光投影显示系统和仪器发展的核心因素。因此，研发激光散斑抑制技术和器件十分必要。已有技术中对激光散斑的抑制，最常采用的是运动的衍射光学器件，比如在《Hadamardspecklecontrastreduction》(2004，Opt.Lett.29,11-13)一文中JahjaI.Trisnadi第一次采用了基于Hadamard矩阵结构的衍射光学器件；在《Fullspeckle...
【技术保护点】
一种PDMS材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法，其特征在于：所述方法包括以下步骤：步骤1：制备好包含N组一维二元衍射光学结构的柔性变角度阵列衍射光学器件掩模版备用；步骤2：选择硅片作为基底材料，并进行清洗；步骤3：在经过步骤2的清洁硅片上涂敷光刻胶，所述光刻胶必须是与聚二甲基硅氧烷PDMS不会产生化学反应、不会互溶、且易于与其分离的光刻胶类型，对涂敷好的光刻胶进行前烘，使用步骤1的掩模版进行曝光，再进行显影和后烘固化，形成光刻胶衍射图形；步骤4：采用干法刻蚀设备，对步骤3的光刻胶图形进行表面粗糙化处理；步骤5：配制液态的聚二甲基硅氧烷PDMS备用，所述液态的二甲基硅氧...
【技术特征摘要】
1.一种PDMS材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法，其特征在于：所述方法包括以下步骤：步骤1：制备好包含N组一维二元衍射光学结构的柔性变角度阵列衍射光学器件掩模版备用；步骤2：选择硅片作为基底材料，并进行清洗；步骤3：在经过步骤2的清洁硅片上涂敷光刻胶，所述光刻胶必须是与聚二甲基硅氧烷PDMS不会产生化学反应、不会互溶、且易于与其分离的光刻胶类型，对涂敷好的光刻胶进行前烘，使用步骤1的掩模版进行曝光，再进行显影和后烘固化，形成光刻胶衍射图形；步骤4：采用干法刻蚀设备，对步骤3的光刻胶图形进行表面粗糙化处理；步骤5：配制液态的聚二甲基硅氧烷PDMS备用，所述液态的二甲基硅氧烷为黏稠液体，是一种具有不同聚合度链状结构的有机硅氧烷混合物，为无色、无味、无毒、不易挥发的液体；步骤6：将步骤5的液态聚二甲基硅氧烷PDMS滴入步骤4的光刻胶结构，一边滴入一边加热固化，滴入的液态聚二甲基硅氧烷PDMS材料要完全覆盖光刻胶结构；步骤7：经步骤6之后，光刻胶结构图形转移到二甲基硅氧烷PDMS材料上并形成固态，固态的聚二甲基硅氧烷PDMS材料称为硅胶，是无毒、疏水性的惰性物质，且为非易燃性、低杨氏模量的结构高弹性透明体；步骤8：将固化后的聚二甲基硅氧烷PDMS材料从光刻胶结构上剥离，制成柔性变角度阵列衍射光学器件。2.如权利要求1所述的一种PDMS材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法，其特征在于：所述步骤3中，光刻胶的涂敷厚度在480纳米至520纳米之间。3.如权利要求1或2所述的一种PDMS材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法，其特征在于：所述步骤6中，控制其高出光刻胶结构的厚度在0.1毫米至2.5毫米之间，所述固化温度在70度至90度范围、固化时间在50分钟至70分钟。4.如权利要求1或2所述的一种PDMS材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法，其特征在于：所述柔性变角度阵列衍射光学器件制作在二甲基硅氧烷PDMS材料上，由N组一维二元衍射光学结构首尾连接而成，所述一维二元衍射光学结构包括光栅结构和光学...
【专利技术属性】
技术研发人员：董文，乐孜纯，熊启源，付明磊，卢智易，
申请(专利权)人：浙江工业大学，
类型：发明
国别省市：浙江,33
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