一种判断挡板走位精度的掩膜版及其方法技术

本发明专利技术提供了一种判断挡板走位精度的掩膜版，包括主曝光区、设置于主曝光区相对的两侧的第一曝光区、第二曝光区、第一曝光区包括第一标尺，第一标尺包括第一尺身、第一分界线、第一刻度，分布在第一分界线两侧的第一刻度分别设置于第一尺身的两侧，第二曝光区包括第二标尺，第二标尺包括第二尺身、第二分界线、第二刻度，分布在第二分界线两侧的第二刻度分别设置于第二尺身的两侧，第一分界线与第二分界线与主曝光区相对的两个边缘重合，第一尺身和第二尺身共线，位于主曝光区的第一刻度与第二刻度位于第一尺身和第二尺身所在直线的同侧。利用本发明专利技术提供的掩膜版，通过反映曝光在基板上的图案来判断挡板走位是否正常，以便于及时调整挡板的位置。

Mask a judgment accuracy and method of positioning baffle

【技术实现步骤摘要】
一种判断挡板走位精度的掩膜版及其方法
本专利技术属于平板显示制造领域，具体涉及一种判断挡板走位精度的掩膜版及其方法。
技术介绍
在LTPS/OLED制造业中，Array工艺是重要的工艺步骤之一，包括沉积、清洗、PR涂附、曝光、显影、刻蚀、PR剥离、检查。而曝光工艺是利用曝光机对涂好光刻胶的玻璃基板进行曝光，利用光刻胶的光敏性将掩膜版的图像投影到玻璃基板上。曝光工艺在整个Array工艺中占据着重要的作用。挡板是曝光机中一个重要的组件，其作用是遮挡掩膜版上不需要的区域，防止基板上的图案过大或过小。但遮光挡板是通过机械驱动的，其驱动位置受机械因素影响，在生产中可能会出现偏差。当挡板走位出现偏差时，会导致基板上的图案受到影响，使最终的产品质量下降。
技术实现思路
鉴于此，本专利技术提供了一种判断挡板走位精度的掩膜版，包括了具有第一标尺的的第一曝光区和第二标尺的第二曝光区。在实际曝光工艺中，可以通过通过曝光到基板上的图案来判断第一挡板和第二挡板的走位情况。具体地，本专利技术第一方面提供了一种判断挡板走位精度的掩膜版，包括主曝光区、设置于所述主曝光区相对的两侧的第一曝光区、第二曝光区、所述第一曝光区包括第一标尺，所述第一标尺包括第一尺身、第一分界线、第一刻度，分布在所述第一分界线两侧的所述第一刻度分别设置于所述第一尺身的两侧，所述第二曝光区包括第二标尺，所述第二标尺包括第二尺身、第二分界线、第二刻度，分布在所述第二分界线两侧的所述第二刻度分别设置于所述第二尺身的两侧，所述第一分界线与所述第二分界线与所述主曝光区相对的两个边缘重合，所述第一尺身和所述第二尺身共线，位于所述主曝光区的所述第一刻度与所述第二刻度位于所述第一尺身和所述第二尺身所在直线的同侧。其中，所述第一标尺还包括第一刻度数字，所述第一刻度数字设置于所述第一刻度处，所述第一刻度数字从所述第一尺身的一侧开始依次呈等差数列递增或递减，所述第二标尺还包括第二刻度数字，所述第二刻度数字设置于所述第二刻度处，所述第二刻度数字从所述第二尺身的一侧开始依次呈等差数列递减或递增。其中，所述第一刻度数字还可以从所述第一分界线处的刻度数字开始依次向第一分界线两侧呈等差数列递增或递减，所述第二刻度数字还可以从所述第二分界线处的刻度数字开始依次向第二分界线两侧呈等差数列递增或递减。其中，所述第一标尺还包括一对字母标注，所述一对字母标注设置于所述尺身的相对的两端。其中，所述第一标尺和所述第二标尺的数量均为至少两个，所述至少两个第一标尺彼此间隔分布在所述主曝光共的一侧，所述至少两个第二标尺与分别与所述至少两个第一标尺一一对应设置在所述主曝光区的另一侧。本专利技术第二方面提供了一种判断挡板走位精度的方法，包括以下步骤：提供一掩膜版，第一挡板、第二挡板和基板，相对设置在所述掩膜版相对的两侧的所述第一挡板和所述第二挡板设置于所述掩膜版和所述基板之间；所述掩膜版包括主曝光区、设置于所述主曝光区相对的两侧的第一曝光区、第二曝光区、所述第一曝光区包括第一标尺，所述第一标尺包括第一尺身、第一分界线、第一刻度，分布在所述第一分界线两侧的所述第一刻度分别设置于所述第一尺身的两侧，所述第二曝光区包括第二标尺，所述第二标尺包括第二尺身、第二分界线、第二刻度，分布在所述第二分界线两侧的所述第二刻度分别设置于所述第二尺身的两侧，所述第一分界线与所述第二分界线与所述主曝光区相对的两个边缘重合，所述第一尺身和所述第二尺身共线，位于所述主曝光区的所述第一刻度与所述第二刻度位于所述第一尺身和所述第二尺身所在直线的同侧。当扫描曝光时，通过曝光到基板上的图案来判断第一挡板和第二挡板的走位情况。其中，走位正常时所述第一挡板和所述第二挡板分别位于所述第一分界线与所述第二分界线处，若所述基板上图案中的主曝光区内的所述第一标尺和/或所述第二标尺出现缺失，则所述第一挡板和/或所述第二挡板走位溢出。其中，走位正常时所述第一挡板和所述第二挡板分别位于所述第一分界线与所述第二分界线处，若所述基板上图案中出现主曝光区之外的所述第一标尺和/或所述第二标尺，则所述第一挡板和/或所述第二挡板走位不足。其中，所述扫描曝光包括4扫描曝光或6扫描曝光。本专利技术第三方面提供了一种曝光机，包括本专利技术第一方面所提供的掩膜版。本专利技术提供的判断挡板走位精度的掩膜版，第一标尺和第二标尺的第一分界线与第二分界线与所述主曝光区相对的两个边缘重合，并且第一刻度与第二刻度是分开设置的。因此，当第一挡板和第二挡板走位异常时，曝光到基板中第一标尺和第二标尺的图案也会发生异常。而且，当扫描曝光为4扫描曝光或6扫描曝光时，可以在相邻两个图案重合的区域上使第一标尺和第二标尺配合使用来判断第一挡板和第二挡板的走位情况。在实际曝光工艺中，掩膜版中没有被第一挡板和第二挡板遮住的第一标尺和第二标尺会被曝光到基板上的图案中。在基板上形成与掩膜版上相同的图案。当掩膜版中主曝光区内的第一标尺和第二标尺完整地被曝光到图案中，则说明第一挡板和第二挡板走位正常；当掩膜版中主曝光区内的第一标尺和第二标尺过多或过少地被曝光到图案中，则说明第一挡板和第二挡板走位异常。并且可以根据第一刻度和第二刻度来判断第一挡板和第二挡板走位异常的数值。所以可以通过曝光到基板上第一标尺和第二标尺的图案来判断第一挡板和第二挡板的走位情况。进而来及时地调整挡板的位置，使最终的产品质量达标，大大地减少了生产的成本。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对本专利技术实施例中所需要使用的附图进行说明。图1为本专利技术一实施例中掩膜版的结构示意图；图2为本专利技术一实施例中曝光机的结构示意图；图3为本专利技术一实施例中挡板走位正常时基板上的图案示意图；图4为本专利技术一实施例中挡板走位异常时基板上的图案示意图。具体实施方式以下所述是本专利技术的优选实施方式，应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本专利技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本专利技术的保护范围。在LTPS/OLED制造业中，Array工艺是重要的工艺步骤之一，包括沉积、清洗、PR涂附、曝光、显影、刻蚀、PR剥离、检查。而曝光工艺是利用曝光机对涂好光刻胶的玻璃基板进行曝光，利用光刻胶的光敏性将掩膜版的图像投影到玻璃基板上。曝光工艺在整个Array工艺中占据着重要的作用。挡板是曝光机中一个重要的组件，其作用是遮挡掩膜版上不需要的区域，防止基板上的图案过大或过小。但遮光挡板是通过机械驱动的，其驱动位置受机械因素影响，在生产中可能会出现偏差。当挡板走位出现偏差时，会导致基板上的图案受到影响，使最终的产品质量下降。对于上述问题，本专利技术提供了一种判断挡板走位精度的掩膜版。具体地，请一并参阅图1－图4，本专利技术第一方面提供了一种判断挡板走位精度的掩膜版，包括主曝光区1、所述主曝光区1内设置着需要曝光的图案。设置于所述主曝光区1相对的两侧的第一曝光区2、第二曝光区3、主曝光区之外的所述第一曝光区2和所述第二曝光区3为挡板挡住的不需要曝光的区域。所述第一曝光区2包括第一标尺21，所述第一标尺21包括第一尺身211、第一分界线212、第一刻度213，所述第一分界线212把所述第一尺身211分成了两部分。分布在所述第一分界线212两侧的所述第一刻度213分别设置于所述第一尺本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种判断挡板走位精度的掩膜版，其特征在于，包括主曝光区、设置于所述主曝光区相对的两侧的第一曝光区、第二曝光区、所述第一曝光区包括第一标尺，所述第一标尺包括第一尺身、第一分界线、第一刻度，分布在所述第一分界线两侧的所述第一刻度分别设置于所述第一尺身的两侧，所述第二曝光区包括第二标尺，所述第二标尺包括第二尺身、第二分界线、第二刻度，分布在所述第二分界线两侧的所述第二刻度分别设置于所述第二尺身的两侧，所述第一分界线与所述第二分界线与所述主曝光区相对的两个边缘重合，所述第一尺身和所述第二尺身共线，位于所述主曝光区的所述第一刻度与所述第二刻度位于所述第一尺身和所述第二尺身所在直线的同侧。

【技术特征摘要】
1.一种判断挡板走位精度的掩膜版，其特征在于，包括主曝光区、设置于所述主曝光区相对的两侧的第一曝光区、第二曝光区、所述第一曝光区包括第一标尺，所述第一标尺包括第一尺身、第一分界线、第一刻度，分布在所述第一分界线两侧的所述第一刻度分别设置于所述第一尺身的两侧，所述第二曝光区包括第二标尺，所述第二标尺包括第二尺身、第二分界线、第二刻度，分布在所述第二分界线两侧的所述第二刻度分别设置于所述第二尺身的两侧，所述第一分界线与所述第二分界线与所述主曝光区相对的两个边缘重合，所述第一尺身和所述第二尺身共线，位于所述主曝光区的所述第一刻度与所述第二刻度位于所述第一尺身和所述第二尺身所在直线的同侧。2.如权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一标尺还包括第一刻度数字，所述第一刻度数字设置于所述第一刻度处，所述第一刻度数字从所述第一尺身的一侧开始依次呈等差数列递增或递减，所述第二标尺还包括第二刻度数字，所述第二刻度数字设置于所述第二刻度处，所述第二刻度数字从所述第二尺身的一侧开始依次呈等差数列递减或递增。3.如权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述第一刻度数字还可以从所述第一分界线处的刻度数字开始依次向第一分界线两侧呈等差数列递增或递减，所述第二刻度数字还可以从所述第二分界线处的刻度数字开始依次向第二分界线两侧呈等差数列递增或递减。4.如权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一标尺还包括一对字母标注，所述一对字母标注设置于所述尺身的相对的两端。5.如权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一标尺和所述第二标尺的数量均为至少两个，所述至少两个第一标尺彼此间隔分布在所述主曝光区的一侧，所述至少两个第二标尺与分别与所述至少两个第一标尺一一对...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐勇，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42