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本发明提供了一种判断挡板走位精度的掩膜版，包括主曝光区、设置于主曝光区相对的两侧的第一曝光区、第二曝光区、第一曝光区包括第一标尺，第一标尺包括第一尺身、第一分界线、第一刻度，分布在第一分界线两侧的第一刻度分别设置于第一尺身的两侧，第二曝光区...
该专利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。

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