压印用的模板制造装置制造方法及图纸

本发明专利技术的实施方式所涉及的压印用的模板制造装置(1)具备：支撑部(3)，以凸部(12)朝向下方的方式支撑模板(W)，该模板(W)具备具有主面的基体(11)以及凸部(12)，该凸部(12)设置在主面上，具有与主面相反一侧的端面，在其端面上形成有凹凸图案；气化部(5)，设置在支撑部(3)上的模板(W)的下方，使疏液材料气化；以及防附着板(7)，设置在支撑部(3)上的模板(W)的下方，允许气化了的疏液材料向支撑部(3)上的模板(W)的凸部(12)的侧面附着，防止其向凹凸图案附着。

Template making device for embossing

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】压印用的模板制造装置
本专利技术的实施方式涉及一种压印用的模板制造装置。
技术介绍
近年，作为在半导体基板等被处理物上形成细微的图案的方法，提出有压印法。该压印法为如下的方法：将形成有凹凸图案的模具(原版)按压到涂敷在被处理物上的抗蚀剂等液状的被转印物(例如光固化性树脂)的表面上，然后，从与形成有凹凸图案的面相反一侧的面照射光，并使模具从固化后的被转印物离开，由此使凹凸图案转印到被转印物。作为按压到液状的被转印物的表面上的模具，使用模板。该模板也被称为铸模、压印模具、或者压模等。模板由透光性较高的石英等形成，以便在上述的使被转印物固化的工序(转印工序)中使紫外线等光容易透过。在该模板的主面上设置有凸部(凸状的部位)，在该凸部上形成有向液状的被转印物按压的凹凸图案。例如，具有凹凸图案的凸部被称为台面部，模板的主面上台面部以外的部分被称为非台面部。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利第5537517号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题然而，当将模板按压于液状的被转印物时，虽然为少量，但是液状的被转印物从凸部的端部渗出，所渗出的液状的被转印物有时沿着凸部的侧面(侧壁)隆起。附着于凸部的侧面的被转印物通过光照射而保持该状态地固化，因此当模板从被转印物分离时，在被转印物上存在隆起部分，会产生图案异常。此外，在模板从被转印物分离时，被转印物的隆起部分贴附于模板侧，然后，在某个定时会向被转印物上落下而成为粉尘。当模板被按压到该落下的粉尘上时，模板侧的凹凸图案会破损，或者，落下的粉尘会进入模板侧的凹凸图案间而成为杂质，因此会产生模板异常。并且，当通过具有这样的破损了的凹凸图案的模板、进入了杂质的模板继续进行转印时，会使被转印物的图案产生缺陷，产生图案异常。本专利技术要解决的课题在于，提供一种压印用的模板制造装置，能够制作能够抑制图案异常以及模板异常的产生的压印用的模板。用于解决课题的手段实施方式所涉及的压印用的模板制造装置具备：支撑部，以使凸部朝向下方的方式支撑模板，该模板具备基体以及凸部，该基体具有主面，该凸部设置在主面上，具有与主面相反一侧的端面，在端面上形成有向液状的被转印物按压的凹凸图案；气化部，设置在由支撑部支撑着的模板的下方，使将液状的被转印物弹开的疏液材料气化；以及防附着板，设置在由支撑部支撑着的模板的下方，允许气化了的疏液材料向由支撑部支撑着的模板的凸部的侧面附着，并防止其向凹凸图案附着。专利技术的效果根据本专利技术的实施方式，能够制造能够抑制图案异常以及模板异常的产生的压印用的模板。附图说明图1是表示第一实施方式所涉及的压印用的模板制造装置的概略构成的图。图2是示意地表示第一实施方式所涉及的未涂层的模板的剖视图。图3是示意地表示第一实施方式所涉及的防附着板的支撑构造的平面图。图4是示意地表示第一实施方式所涉及的防附着板的支撑构造的变形例的平面图。图5是用于说明使用了第一实施方式所涉及的防附着板的涂层工序的说明图。图6是用于说明第一实施方式所涉及的压印工序的说明图。图7是表示第二实施方式所涉及的防附着板的概略构成的剖视图。图8是表示第三实施方式所涉及的防附着板的概略构成的剖视图。图9是表示第四实施方式所涉及的防附着板的概略构成的剖视图。具体实施方式(第一实施方式)参照图1至图6对第一实施方式进行说明。第一实施方式所涉及的压印用的模板制造装置，是向模板上蒸镀疏液材料而对模板的一部分进行涂层的蒸镀涂层装置的一个例子。如图1所示那样，第一实施方式所涉及的模板制造装置1具备：用于对模板W进行处理的处理槽2；对未处理的模板W进行支撑的支撑部3；使支撑部3沿高度方向移动的移动机构4；使液状的疏液材料气化的气化部5；向气化部5供给液状的疏液材料的供给部6；局部地防止液状的疏液材料对模板W的附着的防附着板7；以及控制各部的控制部8。首先，参照图2对成为被涂层物的模板W进行说明。如图2所示那样，模板W具备：具有主面11a的基体11；以及设置在基体11的主面11a上的凸部12。基体11具有透光性，形成为主面11a为平面的板状。该基体11的板形状例如为正方形、长方形等形状，但其形状不特别限定。作为基体11，例如能够使用石英基板等透光性较高的基板。此外，在压印工序中，主面11a的相反面成为被照射紫外线等光的面。凸部12具有透光性，通过与基体11相同的材料一体地形成。在该凸部12的端面、即凸部12的与主面11a侧相反一侧的面(图2中的上面)上，形成有凹凸图案12a。该凹凸图案12a是被向液状的被转印物(例如光固化性树脂)按压的图案。此外，在凸部12的端面上形成有凹凸图案12a的图案区域例如为正方形、长方形的区域，但其形状不特别限定。返回图1，处理槽2包括处理室2a、气化室2b以及供给室2c。这些处理室2a、气化室2b以及供给室2c形成为箱形状。在该处理室2a的上面设置有吸气口21a，在处理室2a的侧面设置有排气口22a。此外，在气化室2b的侧面设置有吸气口21b，在气化室2b的底面设置有排气口22b。同样，在供给室2c的上面设置有吸气口21c，在供给室2c的底面设置有排气口22c。由此，在处理室2a、气化室2b以及供给室2c内，通过了过滤器(例如ULPA过滤器、HEPA过滤器)的空气从各吸气口21a、21b以及21c向各排气口22a、22b、22c流动，处理室2a内通过层流而保持清洁。此外，能够使这些供气、排气在蒸镀涂层工序中停止，以便不妨碍疏液材料的蒸汽的流动。但是，在蒸镀涂层中，还能够在进行设置在处理室2a的上面的供气口21a的供气的同时进行蒸镀。如图1所示那样，该供气口21a设置在与模板W的背面(与形成有凹凸图案12a的面相反一侧的面)对置的位置。因此，在蒸镀涂层中，能够在从背面对模板W进行冷却的同时进行蒸镀。气化了的疏液材料(蒸汽)在处理室2a内与温度相对低的模板W接触、并附着。由此，能够提高气化了的疏液材料(蒸汽)的附着率。此外，例如，当在模板W以及防附着板7通过1个以上的臂保持在处理室2a的内壁上的情况下等，在模板W以及防附着板7、与处理室2a的内壁之间具有空间时，从供气口21a供气的空气从模板W的周围向处理室2a的下方空间流动。于是，沿着处理室2a的侧壁形成有向下流的流动。该流动起到气帘的作用，能够抑制从容器31朝向模板W的疏液材料(蒸汽)的流动成为朝向处理室2a的侧壁扩散的流动，能够抑制气化了的疏液材料(蒸汽)向处理室2a的内壁附着。由此，能够抑制处理室2a的内壁处的疏液材料的消耗，能够提高疏液材料(蒸汽)相对于模板W的蒸镀率。此外，当该向下流的空气与处理室2a的底面碰撞时，形成从处理室2a的底面朝向模板W的方向上升的气流的流动，能够对从容器31朝向模板W的疏液材料(蒸汽)的流动进行辅助。此外，通过这些下降气流和上升气流来促进疏液材料(蒸汽)的紊流和搅拌。如此，通过形成气流的流动，能够提高疏液材料(蒸汽)相对于模板W的蒸镀率。在上述处理室2a的侧面形成有用于将模板W搬入以及搬出的门23，此外，能够开闭地设置有对处理室2a与气化室2b进行划分的闸门24。闸门24形成为板状，从设置于处理室2a与气化室2b的边界的间隙插入而沿水平方向移动，由此能够进行开闭动作。在模板W的搬入以及搬出时，门23打开。此时，为了抑制杂质本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种压印用的模板制造装置，其特征在于，具备：支撑部，以使凸部朝向下方的方式支撑模板，该模板具备基体以及上述凸部，该基体具有主面，该凸部设置在上述主面上，具有与上述主面相反一侧的端面，在上述端面上形成有向液状的被转印物按压的凹凸图案；气化部，设置在由上述支撑部支撑着的上述模板的下方，使将上述液状的被转印物弹开的疏液材料气化；以及防附着板，设置在由上述支撑部支撑着的上述模板的下方，允许气化了的上述疏液材料向由上述支撑部支撑着的上述模板的上述凸部的侧面附着，并防止其向上述凹凸图案附着。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.03.31 JP 2015-074109;2016.03.25 JP 2016-062071.一种压印用的模板制造装置，其特征在于，具备：支撑部，以使凸部朝向下方的方式支撑模板，该模板具备基体以及上述凸部，该基体具有主面，该凸部设置在上述主面上，具有与上述主面相反一侧的端面，在上述端面上形成有向液状的被转印物按压的凹凸图案；气化部，设置在由上述支撑部支撑着的上述模板的下方，使将上述液状的被转印物弹开的疏液材料气化；以及防附着板，设置在由上述支撑部支撑着的上述模板的下方，允许气化了的上述疏液材料向由上述支撑部支撑着的上述模板的上述凸部的侧面附着，并防止其向上述凹凸图案附着。2.如权利要求1所述的压印用的模板制造装置，其特征在于，还具备移动机构，该移动机构使由上述支撑部支撑着的上述模板以及上述防附着板沿高度方向相对移动。3.如权利要求2所述的压印用的模板制造装置，其特征在于，还具备控制部，该控制部对上述移动机构进行控制，以使由上述支撑部支撑着的上述模板的上述凸部与上述防附着板在上述高度方向上的分离距离，成为气化了的上述疏液材料避开上述凹...

【专利技术属性】
技术研发人员：中村聪，出村健介，松岛大辅，幡野正之，柏木宏之，陈康，I·P·甘纳奇夫，
申请(专利权)人：芝浦机械电子株式会社，东芝存储器株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP