微电子工艺综合实验装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及微电子工艺综合实验装置，包括操作间，操作间具有供人员进出的门，并在门上设有遮光帘，操作间的顶部与风源连通，操作间的底部与排风设备相连；操作间的周围设置有第一净化工作台、第二净化工作台和高温扩散炉，第一净化工作台内设置有注胶匀胶机和曝光机，第二净化工作台内设置有清洗水池和烘干机，高温扩散炉放置于一隔热壳体内，隔热壳体在高温扩散炉的炉口处开设操作通道。本实用新型专利技术的微电子工艺常用的设备集成在一套装置内,实现了在非净化环境下的局部超净化工作环境，具有较高的集成度。整台设备的体积较小，具有可拼接功能，可以有效的进行功能扩展，设备造价低，有利于推广，特别适合高校或科研单位使用。

A comprehensive experimental device for microelectronic technology

The utility model relates to a comprehensive experiment of microelectronics technology device, including the operating room, the door has for staff and operating rooms, and a shade on the door, and the top of the source operating between the connected, operating between the bottom and the exhaust equipment connected; around operation room is provided with a first clean bench, second clean bench and the high temperature diffusion furnace, the first clean bench is arranged in the plastic injection machine and photoresist exposure machine, second clean bench is arranged in the cleaning tank and drying machine, high temperature diffusion furnace placed in an insulated shell, a furnace opening diffusion furnace insulation shell at high temperature to open channel operation. The device commonly used in the microelectronics process is integrated into a set of devices, and realizes a local super purification working environment under non purifying environment with high integration. The whole equipment has smaller volume and splicing function, it can expand function effectively, and the equipment cost is low, so it is good for popularization, especially for university or scientific research unit.

【技术实现步骤摘要】
微电子工艺综合实验装置
本技术涉及一种微电子工艺综合实验装置，特别适于教学、科研使用。
技术介绍
微电子技术作为电子信息产业的核心技术之一，已经成为现代电子信息技术，尤其是计算机和通讯技术发展的驱动力。为了在新的科技革命中迎头赶上西方发达国家，必须在微电子
取得快速的发展。但微电子技术类专业学生的动手能力弱，成为了制约我国微电子产业发展的最大障碍。究其根源在于现在国内的微电子技术人才培养重理论轻实践。由于缺乏具有实践经验的优秀教学人才，国内微电子技术专业学生的培养以大量深奥的理论课程为主。微电子学是一门实践性很强的学科，对于学生的理论联系实践能力的培养提出了很高的要求。在理论课程的教学中，很大程度上都是以理想化条件进行演绎，而实际的微电子制造过程中有很多的生产细节是无法完全在理论课上阐述清楚的，因此必须有一定的实践和实际操作基础，这是微电子学专业教学中最为特殊的方面。为了培养合格的微电子技术人才，在微电子教学过程中必须理论与实验并重，甚至要实验重于理论。但是，目前国内的高校的微电子实验教学普遍无法开展，主要受限于微电子实验设备昂贵，每台动辄十多万至数十万不等。这限制了国内高校对本科生开放相关的实验室，且每个实验室购买的设备数量有限，无法满足大量本科生的基本教学需要。同时，微电子实验所需的超洁净环境的建设成本高，因此，现有的微电子本科实验教学无法有效的开展。为了克服本科教学中因经费和实验环境的限制导致无法开展实验教学的困难，迫切需要设计和制备具有在普通实验室中可进行超洁净微电子工艺实验的仪器设备。
技术实现思路
本技术的目的在于，克服上述现有技术的缺陷，提供一种微电子工艺综合实验装置。上述目的由下述技术方案来实现：本技术提供的微电子工艺综合实验装置，其特征在于包括操作间，所述操作间具有供人员进出的门，并在门上设有遮光帘，所述操作间的顶部具有通过管路与风源连通的第一腔室，所述第一腔室底部为网板；所述操作间的底部具有通过管路与排风设备相连第二腔室，所述第二腔室的顶部为网板；所述操作间的周围设置有第一净化工作台、第二净化工作台和高温扩散炉，第一净化工作台、第二净化工作台的操作口和高温扩散炉的炉口朝向操作间，供人员操作，所述第一净化工作台内设置有注胶匀胶机和曝光机，第二净化工作台内设置有清洗水池和烘干机，高温扩散炉放置于一隔热壳体内，所述隔热壳体在高温扩散炉的炉口处开设操作通道。本技术微电子工艺综合实验装置还具有如下改进是：1、为高温扩散炉供气的气路包括：连接气源的主管道、连接在主管道上的三个支管道，所述主管道与三个支管道之间还分别连接有磷扩散瓶、硼扩散瓶、湿氧发生瓶，所述三个支管道与主管道的连接处设有阀门，所述磷扩散瓶、硼扩散瓶、湿氧发生瓶与相连的主管道、支管道之间也设有阀门。2、所述清洗水池的底部连接有废水处理装置。3、所述高温扩散炉的尾气经酸性溶液过滤瓶、碱性溶液过滤瓶处理后通过排风系统向大气中排放。4、所述净化工作台采用气墙密封式双正压净化工作台或双层流净化工作台。本技术的微电子工艺常用的设备集成在一套装置内,操作间采用多孔地板，底部排风，在操作间形成垂直型净化气流，提高了操作间洁净度。实现了在非净化环境下的局部超净化工作环境，具有较高的集成度。整台设备的体积较小，具有可拼接功能，可以有效的进行功能扩展，设备造价低，有利于推广，特别适合高校或科研单位使用。附图说明图1是本技术试验装置俯视图。图2是本技术试验装置的操作间侧视图。图3是本技术试验仪的高温扩散炉供气气路示意图。图中标号示意如下：1-壳体；2-第一腔室；3-第二腔室；4-网板；5-第一净化工作台；6-第二净化工作台；7-注胶匀胶机；8-曝光机；9-清洗水池；10-烘干机；11-高温扩散炉；12-门；13-操作间；14-主管道；151-支管道；152-支管道；153-支管道；161-磷扩散瓶；162-硼扩散瓶；163-湿氧发生瓶；17-隔热壳体。具体实施方式如图1、图2所述，微电子工艺综合实验装置，包括操作间13，操作间13具有供人员进出的门12，并在门12上设有遮光帘（图中未画出），操作间13的顶部具有通过管路与风源连通的第一腔室2，操作间13的底部具有通过管路与排风设备相连第二腔室3，第一腔室2的底部和第二腔室3的顶部为网板4；操作间13的周围设置有第一净化工作台5、第二净化工作台6和高温扩散炉11。其中，净化工作台采用气墙密封式双正压净化工作台或双层流净化工作台。第一净化工作台5、第二净化工作6台的操作口和高温扩散炉11的炉口朝向操作间13，供人员操作。第一净化工作台5内设置有注胶匀胶机7和曝光机8，第二净化工作台6内设置有清洗水池9和烘干机10。清洗水池9的底部连接有废水处理装置（图中未画出）。高温扩散炉11放置于一隔热壳体17内，隔热壳体17在高温扩散炉11的炉口处开设操作通道。为高温扩散炉供气的气路包括：连接气源的主管道14、连接在主管道14上的三个支管道151、152、153，主管道与三个支管道之间还分别连接有磷扩散瓶161、硼扩散瓶162、湿氧发生瓶163，三个支管道与主管道的连接处设有阀门，磷扩散瓶161、硼扩散瓶162、湿氧发生瓶163与相连的主管道、支管道之间也设有阀门。除上述实施例外，本技术还可以有其他实施方式。凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案，均落在本技术要求的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种微电子工艺综合实验装置，其特征在于包括操作间，所述操作间具有供人员进出的门，并在门上设有遮光帘，所述操作间的顶部具有通过管路与风源连通的第一腔室，所述第一腔室底部为网板；所述操作间的底部具有通过管路与排风设备相连第二腔室，所述第二腔室的顶部为网板；所述操作间的周围设置有第一净化工作台、第二净化工作台和高温扩散炉，第一净化工作台、第二净化工作台的操作口和高温扩散炉的炉口朝向操作间，供人员操作，所述第一净化工作台内设置有注胶匀胶机和曝光机，第二净化工作台内设置有清洗水池和烘干机，高温扩散炉放置于一隔热壳体内，所述隔热壳体在高温扩散炉的炉口处开设操作通道。

【技术特征摘要】
1.一种微电子工艺综合实验装置，其特征在于包括操作间，所述操作间具有供人员进出的门，并在门上设有遮光帘，所述操作间的顶部具有通过管路与风源连通的第一腔室，所述第一腔室底部为网板；所述操作间的底部具有通过管路与排风设备相连第二腔室，所述第二腔室的顶部为网板；所述操作间的周围设置有第一净化工作台、第二净化工作台和高温扩散炉，第一净化工作台、第二净化工作台的操作口和高温扩散炉的炉口朝向操作间，供人员操作，所述第一净化工作台内设置有注胶匀胶机和曝光机，第二净化工作台内设置有清洗水池和烘干机，高温扩散炉放置于一隔热壳体内，所述隔热壳体在高温扩散炉的炉口处开设操作通道。2.根据权利要求1所述的微电子工艺综合实验装置，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：王强，邓洁，
申请(专利权)人：南通大学，
类型：新型
国别省市：江苏,32