The invention specifically relates to a particle field holographic coaxial and a off-axis reproduced optical path system and method. The system includes a light source collimating system, mirror system, acquisition system and regulation of reproduction axis auxiliary system; light collimating system includes sequentially along the optical reproducing light source, a beam expander, filtering and pinhole collimating mirror; mirror system including a mirror and mirror two; reproduction acquisition system including holographic plate, imaging lens, camera, a bracket, a bracket two, a mobile platform controller and control computer auxiliary system; regulating the optical axis including helium neon laser, diaphragm, cross circle half target and cross circle full target; the invention realizes particle field in-line and off-axis holographic optical systems share the most objective to improve the adaptability.
【技术实现步骤摘要】
一种粒子场全息同轴和离轴再现光路系统及方法
本专利技术涉及粒子场脉冲激光全息测量领域,具体涉及一种粒子场全息同轴和离轴再现光路系统及方法。
技术介绍
粒子场脉冲激光全息测量(简称“粒子场全息测量”)是利用脉冲激光全息成像方法对某种机制产生的大量微小粒子(例如,雾化水滴、油滴、爆轰颗粒、微小浮游生物和粉尘等)的空间分布、粒径以及速度等参数进行定量化测量的一项技术,它是目前激光全息的一大应用领域。粒子场全息测量的记录方式包含同轴和离轴两种,具体光路如图1和图2所示。同轴记录使用扩束准直后的激光束照射粒子场,粒子的衍射光作为物光,未被衍射的直通光作为参考光,物光和参考光同时经过4F光学成像系统,照射到全息干板上。整个记录光路只有一条光轴,比较简单,适用于测量数密度较低的粒子场。如果粒子场的数密度较大,直通光大量减少,需要采用离轴方式进行记录。离轴记录方式中,首先将激光光束分成两束,分别进行扩束准直,其中一束照射粒子场,粒子的衍射光经过4F光学成像系统,作为物光照射到全息干板上,另一束作为参考光经全反射镜反射后照射到全息干板上。物光与参考光的夹角一般在30°左右,两者的光强比在1:2~1:4范围内。同时,物光与参考光的光程差小于激光光源的相干长度。由于粒子场中粒子直径在微米量级,对应的夫琅和费远场距很小(毫米~厘米量级)。同时,形成的粒子场特别是高速运动的粒子场会对全息干板造成干扰或破坏,影响全息图记录。若要克服上述两个问题,同轴和离轴记录方式中均需使用4F光学成像系统将粒子场成像到全息干板前表面之后的附近区域进行全息记录。另外,为了保证全息再现过程中粒子场的再现 ...
【技术保护点】
一种粒子场全息同轴和离轴再现光路系统,其特征在于:包括光源扩束准直系统、反射镜系统、再现采集系统和调节光轴的辅助系统;所述光源扩束准直系统包括沿光路依次设置的再现光源、扩束镜、滤波针孔和准直镜;所述反射镜系统包括全反射镜一和全反射镜二,所述全反射镜一沿光路设置在准直镜的后方,所述全反射镜二设置在全反射镜一的侧面;全反射镜一和全反射镜二均安装在调节支架上;所述再现采集系统包括全息干板、成像物镜、采集相机、支架一、支架二、移动平台控制器和控制计算机;支架一用于夹持全息干板,两个支架二分别用于支撑成像物镜和采集相机,支架一设置在移动平台x轴y轴组合体上;两个支架二设置在移动平台z轴上;所述调节光轴的辅助系统包括氦氖激光器、光阑、十字圆圈半靶和十字圆圈全靶;所述氦氖激光器和光阑沿光路依次设置在全反射镜一后方;所述全息干板、十字圆圈半靶、成像物镜、十字圆圈全靶、采集相机沿光路依次设置在光阑后方;十字圆圈半靶和十字圆圈全靶均设置在具有复位功能的支架三上;所述移动平台控制器分别与移动平台x轴y轴组合体、移动平台z轴连接,所述控制计算机分别与采集相机和移动平台控制器连接。
【技术特征摘要】
1.一种粒子场全息同轴和离轴再现光路系统,其特征在于:包括光源扩束准直系统、反射镜系统、再现采集系统和调节光轴的辅助系统;所述光源扩束准直系统包括沿光路依次设置的再现光源、扩束镜、滤波针孔和准直镜;所述反射镜系统包括全反射镜一和全反射镜二,所述全反射镜一沿光路设置在准直镜的后方,所述全反射镜二设置在全反射镜一的侧面;全反射镜一和全反射镜二均安装在调节支架上;所述再现采集系统包括全息干板、成像物镜、采集相机、支架一、支架二、移动平台控制器和控制计算机;支架一用于夹持全息干板,两个支架二分别用于支撑成像物镜和采集相机,支架一设置在移动平台x轴y轴组合体上;两个支架二设置在移动平台z轴上;所述调节光轴的辅助系统包括氦氖激光器、光阑、十字圆圈半靶和十字圆圈全靶;所述氦氖激光器和光阑沿光路依次设置在全反射镜一后方;所述全息干板、十字圆圈半靶、成像物镜、十字圆圈全靶、采集相机沿光路依次设置在光阑后方;十字圆圈半靶和十字圆圈全靶均设置在具有复位功能的支架三上;所述移动平台控制器分别与移动平台x轴y轴组合体、移动平台z轴连接,所述控制计算机分别与采集相机和移动平台控制器连接。2.根据权利要求1所述的粒子场全息同轴和离轴再现光路系统,其特征在于:所述再现光源为单模连续激光器。3.根据权利要求1所述的粒子场全息同轴和离轴再现光路系统,其特征在于:所述扩束镜采用显微物镜。4.根据权利要求1或2或3所述的粒子场全息同轴和离轴再现光路系统,其特征在于:所述准直镜采用消像差透镜。5.根据权利要求4所述的粒子场全息同轴和离轴再现光路系统,其特征在于:所述成像物镜采用消像差的小景深透镜组。6.根据权利要求5所述的粒子场全息同轴和离轴再现光路系统,其特征在于:所述采集相机采用高分辨、低噪声的科学级CCD相机。7.基于权利要求1至6任一所述的粒子场全息同轴和离轴再现光路系统调节粒子场全息同轴再现光路的方法,其特征在于:包括以下步骤,1)分别组装移动平台x轴y轴组合体、支架一和支架二;2)使移动平台z轴平行于光学平台的边线,然后将移动平台z轴基座固定,将两个支架二通过长支板安装在移动平台z轴的移动台面上,将采集相机安装在后端的支架二上,使采集相机的轴线与移动平台z轴基座保持平行;3)调整单模连续激光器的位置,在移动平台z轴全部行程中,确保细光束始终垂直落在采集相机的灵敏面中心不变,固定单模连续激光器;4)在采集相机前安装十字圆圈全靶,使细光束垂直入射到十字圆圈全靶的靶板中心;5)将成像物镜安装在前端的支架二上,粗调成像物镜与采集相机的距离,同时保证成像物镜的光轴与细光束重合;6)将支架一安装在移动平台x轴y轴组合体中的y轴移动台面上,将全息干板夹持在支架一上,使细光束指向全息干板中间区域,调整支架一保证全息干板在x-y平面的整个行程范围内均与细光束垂直,同时控制移动平台x轴y轴组合体与移动平台z轴之间的距离,保证移动平台z轴的移动过程中,成像物镜的工作面能够扫过整个再现像的轴向范围,然后固定移动平台x轴基座;7)依次安装准直镜、滤波针孔与扩束镜,调节准直镜与扩束镜之间的相对位置和滤波针孔的位置,控制移动平台x轴y轴组合...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐青,曹娜,雷岚,马继明,韩长材,
申请(专利权)人:西北核技术研究所,
类型:发明
国别省市:陕西,61
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