掩膜板支撑框架和掩膜板制造技术
Mask plate support frame and mask plate
The invention relates to the field of display preparation technology, and discloses a mask supporting frame and a mask plate, which is used for reducing the occurrence of the folding phenomenon of the mask plate, reducing the occurrence of mixed color phenomenon and improving the mask effect. Including the mask support frame: frame; a plurality of spaced distribution bar and a plurality of spaced support bars, which is welded on the frame, a plurality of support bars and a plurality of bar intersection set, any supporting bar and any intersecting location: occlusion to accommodate bar gap design the support bar, the welding point is arranged between the gap at the bottom of the bar toward the side and bottom of the gap.
【技术实现步骤摘要】
掩膜板支撑框架和掩膜板
本专利技术涉及显示器制备
，尤其涉及一种掩膜板支撑框架和掩膜板。
技术介绍
目前OLED(OrganicLight-EmittingDiode，有机发光二极管)采用真空蒸镀技术制备有机发光层。在器件制备过程中，有机材料通过高温蒸镀淀积在位于蒸发源上方的基板上，为使有机材料按照设计蒸镀到特定的位置上，在基板下方需使用高精度金属掩膜板，掩膜板(即高精度金属掩膜板)上留有预先设计好的有效开口区域，通过该有效开口区域，有机材料沉积到背板上面，形成预设图形。金属掩膜板上有效开口区域的尺寸、位置的变化会直接影响镀膜的精度。如图1所示，目前掩膜板的制作是在掩膜板框架01上分别焊接横向的遮挡条02和竖向的支撑条03，再在焊有遮挡条02和支撑条03的掩膜板框架01上焊接掩膜条04。遮挡条02的作用是遮挡各个掩膜条04之间的缝隙，支撑条03主要起支撑掩膜条04的作用，遮挡条02和支撑条03在搭接处焊接在一起。由于焊接时焊点的高度不同，容易导致支撑条形成的面凹凸不平，掩膜条焊接后容易出现褶皱，且相邻的两个开口区域容易出现混色。
技术实现思路
本专利技术实施例提...
【技术保护点】
一种掩膜板支撑框架，其特征在于，包括：外框；焊接于所述外框上的多个间隔分布的遮挡条和多个间隔分布的支撑条，其中，多个所述支撑条和多个所述遮挡条相交设置，任一所述支撑条与任一所述遮挡条相交的位置处：所述支撑条上设有容纳所述遮挡条的缺口，所述遮挡条朝向所述缺口的底部的一面与所述缺口的底部之间设有焊接点。
【技术特征摘要】
1.一种掩膜板支撑框架，其特征在于，包括：外框；焊接于所述外框上的多个间隔分布的遮挡条和多个间隔分布的支撑条，其中，多个所述支撑条和多个所述遮挡条相交设置，任一所述支撑条与任一所述遮挡条相交的位置处：所述支撑条上设有容纳所述遮挡条的缺口，所述遮挡条朝向所述缺口的底部的一面与所述缺口的底部之间设有焊接点。2.根据权利要求1所述的掩膜板支撑框架，其特征在于，任一所述支撑条与任一所述遮挡条相交的位置处：所述遮挡条嵌入所述缺口内的高度和焊接点的高度等于所述缺口的深度。3.根据权利要求1所述的掩膜板支撑框架，其特征在于，每个所述支撑条上设有的所述缺口的深度大于等于60微米且小于等于70微米。4.根据权利要求1所述的掩膜板支撑框架，其特征在于，多个所述遮挡条与多个所述支撑条垂直设置。5.根据权利要求4所述的掩膜板支撑框架，其特征在于，多个所述遮挡条和多...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨凡，莫再隆，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京,11
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