非接触式光罩或晶圆洁净装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种非接触式光罩或晶圆洁净装置，其是在一机体上设有一供承载光罩或晶圆的载台模块，且机体内设有一高压产生模块及一真空鼓风模块，又机体上设有至少一与载台模块相对位移的清洁头，该清洁头对应至少一连通真空鼓风模块的真空腔，该清洁头具有一连通高压气体产生模块的压力腔，且该清洁头设有至少一空气振荡波产生器，如此，能利用喷出的高压气体中具有高频空气振荡波的设计破坏微尘的境界层，使微尘与光罩或晶圆表面剥离，再通过真空方式于微尘被高频空气震荡波分离后抽离，由于采用非接触式清洁方式，不致造成刮伤或二次污染，且能有效提升清洁效果。

Non contact lens or wafer cleaners

The invention relates to a non-contact mask or wafer cleaning device, which is in a machine body is provided with a bearing carrier module for a mask or wafer, and the machine body is provided with a high-voltage module and a vacuum blower module, and at least one body provided with a cleaning head and the carrier module relative displacement of the vacuum chamber. The cleaning head corresponding to at least one connected vacuum blower module, the cleaning head having a pressure chamber is communicated with a high-pressure gas generation module, and the cleaning head is provided with at least one air wave generator, so that can make use of high pressure gas jet in high frequency oscillatory wave boundary layer design of air dust to dust and damage. A mask or wafer surface peeling, and then through the vacuum to dust by high-frequency air shock wave separation after pulling away, because of the use of non-contact cleaning, without causing scratches or two times. Dyeing, and can effectively improve the cleaning effect.

【技术实现步骤摘要】
非接触式光罩或晶圆洁净装置
本专利技术涉及一种光罩或晶圆的洁净技术，具体而言是一种利用共振原理使微尘剥离表面的非接触式光罩或晶圆洁净装置，以能在不损伤光罩或晶圆表面、且不造成二次污染下，能快速、且有效的提升清洁效果。
技术介绍
按，在半导体的制程中，微影(Photolithography)与蚀刻制程(EtchingProcess)是用来完成晶圆表面的图案制作，其中用以供微影制程使用的光罩(Mask)具有不可或缺的关键地位。光罩是一绘有特定图案的透光玻璃片，其中包含一具图形(Pattern)的图案区，供利用一光源，将图案区上的图形转移至晶圆上的光阻，再经过蚀刻制程于晶圆表面完成图案。因此影响晶圆合格率中最重要的因素其中一项即为光罩是否有遭受到污染，若光罩上出现微尘粒子，会使得受污染的光罩用于半导体微影制程时，会在晶圆上产生相对应的缺陷(Defect)，是以，为了保持光罩的清洁，一般会于光罩上设置有护膜(Pellicle)，以防止微尘粒子沾附在光罩上，而护膜为通过框架支撑而与光罩保持一距离，使落在光罩上的微尘粒子收集在护膜上，微影制程因护膜产生相当程度成像失真，使得该微尘粒子不至影响原本本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种非接触式光罩或晶圆洁净装置，其特征在于，其至少包含有：一机体；一载台模块，其设于机体上，供承载一待清洁的光罩或晶圆；至少一超音波清洁模块，其设于机体上，该至少一超音波清洁模块与该载台模块上待清洁光罩或晶圆的表面能够相对位移，该超音波清洁模块包含有一对应待清洁光罩或晶圆表面的清洁头、一高压产生模块与一真空鼓风模块，该清洁头具有一连通高压气体产生模块的压力腔，且该清洁头对应至少一连通真空鼓风模块的真空腔，再者该清洁头具有一对应光罩或晶圆表面的工作表面，该工作表面上具有至少一连接真空腔的吸入槽孔，该清洁头的工作表面上具有至少一连接压力腔、且设于该至少一吸入槽孔所围范围内的喷射槽孔。

【技术特征摘要】
1.一种非接触式光罩或晶圆洁净装置，其特征在于，其至少包含有：一机体；一载台模块，其设于机体上，供承载一待清洁的光罩或晶圆；至少一超音波清洁模块，其设于机体上，该至少一超音波清洁模块与该载台模块上待清洁光罩或晶圆的表面能够相对位移，该超音波清洁模块包含有一对应待清洁光罩或晶圆表面的清洁头、一高压产生模块与一真空鼓风模块，该清洁头具有一连通高压气体产生模块的压力腔，且该清洁头对应至少一连通真空鼓风模块的真空腔，再者该清洁头具有一对应光罩或晶圆表面的工作表面，该工作表面上具有至少一连接真空腔的吸入槽孔，该清洁头的工作表面上具有至少一连接压力腔、且设于该至少一吸入槽孔所围范围内的喷射槽孔。2.根据权利要求1所述的非接触式光罩或晶圆洁净装置，其特征在于：该清洁头...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈明生，
申请(专利权)人：特铨股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71