刻度盘装置、及使用了该刻度盘装置的电路断路器制造方法及图纸

技术编号:17252043 阅读:78 留言:0更新日期:2018-02-11 11:09
得到一种电路断路器的刻度盘装置,其维持刻度盘与旋转式开关的嵌合而不发生空转。本发明专利技术的刻度盘装置(7)的特征在于,具有:旋转式开关(18),其收容于单元壳体(22);刻度盘(17),其具有旋钮部(25)、腕状部(29)以及嵌合部(28),该旋钮部为圆筒形,配置于旋转式开关之上,该腕状部沿旋钮部的外周部而向周围方向伸出,一端部固定于所述旋钮部的外周部,另一端具有朝向上部方向的凸起(26),该嵌合部在该刻度盘的下表面与旋转式开关进行嵌合;以及单元罩体(21),其与单元壳体进行嵌合,形成有使刻度盘的旋钮部进行贯通的圆孔(24),利用在刻度盘的腕状部形成的凸起而对单元罩体进行按压。

【技术实现步骤摘要】
刻度盘装置、及使用了该刻度盘装置的电路断路器
本专利技术涉及一种对在电路中检测出过电流时的跳闸装置的动作条件等进行设定的刻度盘装置、具有该刻度盘装置的电路断路器。
技术介绍
电路断路器在检测出超过额定电流的过电流的情况下,跳闸装置进行动作,在断路器主体设置的开闭机构部的触点断开,将电流切断。该开闭机构部的额定电流、跳闸装置的动作时间等针对过电流的动作条件,通常是通过对在电路断路器安装的刻度盘装置进行调整而进行设定的(例如,参照专利文献1)。该刻度盘装置由旋转式开关和刻度盘构成,该旋转式开关安装于电路基板,该刻度盘具有直径小的圆筒形的旋钮部、直径比旋钮部大的圆盘状部,与旋转式开关嵌合而进行操作。在该电路基板的前表面,为了能够实现来自外部的刻度盘操作,安装有在与旋钮部相对应的位置设置有圆孔的单元罩体,利用单元罩体按压刻度盘的圆盘状部而进行组装。如果旋转刻度盘而进行操作,则能够随着旋钮部的旋转而联动地使旋转式开关进行旋转,能够进行开闭机构部的跳闸动作等的动作条件等针对过电流的条件设定(例如,参照专利文献2)。并且,在旋转旋钮部的情况下,通过设置每经过一定量的旋转则进行卡合的部分,从而能够进行刻度盘的旋转的定位,进而能够进行旋转式开关的旋转的定位,能够利用刻度盘而再现性优异地对开闭机构部的动作条件等针对过电流的条件进行设定。专利文献1:日本特开2007-273159号公报专利文献2:日本特开2002-57004号公报在由该圆盘状部和圆筒形的旋钮部构成的刻度盘的大小、旋转式开关在电路基板之上的安装位置、电路基板与将上述部件进行覆盖的单元罩体之间的间隙、以及在单元罩体形成的圆孔的大小等相对于标准值波动较大的情况下,无法利用单元罩体对刻度盘进行按压。此时,有可能刻度盘与旋转式开关的嵌合脱离而无法将刻度盘操作传递至旋转式开关。
技术实现思路
本专利技术就是为了解决上述的课题而提出的,提供一种刻度盘装置、及使用了该刻度盘装置的电路断路器,在对开闭机构部的动作条件等针对过电流的条件进行设定的该刻度盘装置中,防止由于旋转式开关与刻度盘的嵌合脱离而导致无法进行刻度盘操作的情况。本专利技术的刻度盘装置的特征在于,具有:旋转式开关,其收容于单元壳体;刻度盘,其具有旋钮部、腕状部以及嵌合部,该旋钮部为圆筒形,配置于旋转式开关之上,该腕状部沿旋钮部的外周部而向周围方向伸出,一端固定于所述旋钮部的外周部,另一端具有朝向上部方向的凸起,该嵌合部在该刻度盘的下表面与旋转式开关进行嵌合;以及单元罩体,其与单元壳体进行嵌合,形成有使刻度盘的所述旋钮部进行贯通的圆孔,利用在刻度盘的腕状部形成的凸起而对单元罩体进行按压。专利技术的效果根据本专利技术,由于使在刻度盘装置的刻度盘形成的腕状部的凸起与该刻度盘的单元罩体接触而进行按压,因此能够维持旋转式开关与刻度盘嵌合的状态,能够防止无法进行刻度盘操作的情况。附图说明图1是表示本专利技术的实施方式1涉及的电路断路器的外观的斜视图。图2是表示本专利技术的实施方式1涉及的电路断路器的外观的俯视图。图3是本专利技术的实施方式1涉及的电路断路器的将装置罩体卸下时的斜视图。图4是本专利技术的实施方式1涉及的电路断路器的X-X部分的剖视图。图5是本专利技术的实施方式1涉及的电路断路器的将装置罩体卸下时的俯视图。图6是本专利技术的实施方式1涉及的过电流检测设定单元的俯视图。图7是本专利技术的实施方式1涉及的过电流检测设定单元的分解斜视图。图8是本专利技术的实施方式1涉及的刻度盘的俯视图。图9是本专利技术的实施方式1涉及的刻度盘的侧视图。图10是本专利技术的实施方式1涉及的刻度盘的Y-Y部分的剖视图。图11是表示本专利技术的实施方式1涉及的刻度盘的斜视图。图12是表示本专利技术的实施方式1涉及的刻度盘的斜视图。图13是本专利技术的实施方式1涉及的过电流检测设定单元的单元罩体的斜视图。图14是本专利技术的实施方式1涉及的过电流检测设定单元的Z-Z部分的剖视图。图15是本专利技术的实施方式2涉及的过电流检测设定单元的单元罩体的斜视图。图16是本专利技术的实施方式2涉及的过电流检测设定单元的单元罩体的局部放大斜视图。图17是本专利技术的实施方式2涉及的过电流检测设定单元的内部构造。图18是本专利技术的实施方式3的开闭机构部的侧视图。标号的说明1装置基座,2装置罩体,3负载侧连接端子,4电源侧连接端子,5开闭机构部,6跳闸装置,7刻度盘装置(过电流检测设定单元),8致动器,9继电器,10变流器,11可动触点,12固定触点,13可动接触件,14固定接触件,15操作把手,16跳闸杆,17刻度盘,18旋转式开关,19旋转式可变电阻器,20旋转式电路切换器,21单元罩体,22单元壳体,23电路部,24圆孔,25旋钮部,26凸起,27连接部,28嵌合部,29腕状部,30周围凸部,31组合部,32凹凸部,33转动件,34第1可动接触件,35第2可动接触件,36第1可动触点,37第2可动触点,38旋转电极,39第1固定接触件,40第1固定触点,41第2固定接触件,42第2固定触点,100电路断路器。具体实施方式在实施方式的说明及各图中,标注相同标号的部分表示相同或者相当的部分。此外,在本实施方式的说明中,旋转式可变电阻器为通过旋转对电阻值进行设定的开关,旋转式电路切换器为通过旋转使触点的接触位置进行变化,对进行导通的电路实施切换的开关。并且,旋转式开关是指包含上述这两者,通过旋转对电阻值进行设定的开关、或者能够进行电路切换的开关。实施方式1.使用图1~5,对本专利技术的实施方式1所示的电路断路器的整体结构进行说明。图1及图2分别为表示应用了本专利技术的电路断路器的外观的斜视图及俯视图。图3及图5分别为表示应用了本专利技术的电路断路器的将装置罩体卸下后的内部构造的斜视图及俯视图,图4是图2所示的电路断路器的X-X部分的剖视图。本专利技术的电路断路器100由装置基座1和装置罩体2构成,该装置基座1成为将各部件收容的容器,该装置罩体2将各部件覆盖。并且,具有多个负载侧连接端子3和多个电源侧连接端子4,该负载侧连接端子3形成于图1所示的装置基座1的近端侧的表面,该电源侧连接端子4形成于该装置基座1的与负载侧连接端子3的相反面。在构成电路断路器100的装置基座1和装置罩体2的内部具有开闭机构部5和跳闸装置6,该开闭机构部5在产生了过电流、短路电流时将该电流切断,该跳闸装置6用于使开闭机构部5的触点分离。并且,具有刻度盘装置7,该刻度盘装置7对过电流进行检测,并对致动器8的动作条件进行设定。具有继电器9和变流器10,该继电器9根据该刻度盘装置7的输出信号而经由致动器8使开闭机构部5的触点分离,该变流器10对过电流进行检测,将检测信号输出至刻度盘装置7。在这里,刻度盘装置7不仅对电路断路器100的额定电流、致动器8的动作条件进行设定,还能够设定用于使设置有刻度盘装置7的设备进行动作或对其进行控制等的各种参数,通过刻度盘操作,能够进行数据输入。但是,针对如本实施方式这样基于检测出的过电流而对致动器8的动作条件进行设定的刻度盘装置7,为了明确功能及目的,通常大多将其称为过电流检测设定单元。下面,在本说明书中也按照通常的称呼,针对基于过电流而对致动器8的动作条件进行设定的刻度盘装置7,基本上采用过电流检测设定单元的称呼。在本实施方式中,在开闭机构部5采用分本文档来自技高网
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刻度盘装置、及使用了该刻度盘装置的电路断路器

【技术保护点】
一种刻度盘装置,其特征在于,具有:旋转式开关,其收容于单元壳体;刻度盘,其具有旋钮部、腕状部以及嵌合部,该旋钮部为圆筒形,配置于所述旋转式开关之上,该腕状部沿所述旋钮部的外周部而向周围方向伸出,一端固定于所述旋钮部的外周部,另一端具有朝向上部方向的凸起,该嵌合部在该刻度盘的下表面与所述旋转式开关进行嵌合;以及单元罩体,其与所述单元壳体进行嵌合,形成有使所述刻度盘的所述旋钮部进行贯通的圆孔,利用在所述刻度盘的所述腕状部形成的所述凸起而对所述单元罩体进行按压。

【技术特征摘要】
2016.08.02 JP 2016-1516521.一种刻度盘装置,其特征在于,具有:旋转式开关,其收容于单元壳体;刻度盘,其具有旋钮部、腕状部以及嵌合部,该旋钮部为圆筒形,配置于所述旋转式开关之上,该腕状部沿所述旋钮部的外周部而向周围方向伸出,一端固定于所述旋钮部的外周部,另一端具有朝向上部方向的凸起,该嵌合部在该刻度盘的下表面与所述旋转式开关进行嵌合;以及单元罩体,其与所述单元壳体进行嵌合,形成有使所述刻度盘的所述旋钮部进行贯通的圆孔,利用在所述刻度盘的所述腕状部形成的所述凸起而对所述单元罩体进行按压。2.根据权利要求1所述的刻度盘装置,其特征在于,所述腕状部配置于所述旋钮部的外周部,沿周围方向而分割出大于或等于2个该腕状部。3.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:塚本龙幸
申请(专利权)人:三菱电机株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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