The invention discloses a vibration polishing technology for daily ceramic tableware, which relates to the technical field of domestic ceramics, including the following aspects: (1) abrasive preparation, (2) abrasive wetting, and (3) vibration and polishing of ceramic tableware. The present invention by the self-made abrasive ceramic tableware as vibration polishing grinding materials used, the abrasive particle size in 2mm, compared with the conventional grinding stones, has the characteristics of quick heat dissipation, high polishing efficiency, greatly saves the polishing; through the vibration polishing process can make the ceramic tableware Ra low to 0.03 m value after polishing and effectively improve the ceramic tableware handle and gloss, so as to improve the quality of ceramic tableware.
【技术实现步骤摘要】
一种日用陶瓷餐具的振动抛光工艺
：本专利技术涉及日用陶瓷
，具体涉及一种日用陶瓷餐具的振动抛光工艺。
技术介绍
：日用陶瓷，亦指餐具或者家瓷，顾名思义是指人们日常生活中必不可少的生活用瓷。日用陶瓷中最重要的一类就是陶瓷餐具，在日常生活中被广泛使用，需求量大。陶瓷餐具在坯体烧制完成后需要经过抛光处理，以提高其表面光滑度，去倒角、去毛边、光泽打光，从而改善手感和表面光泽度，并且利于后续施釉工序的进行。目前，一般采用振动抛光机对陶瓷餐具表面进行振动抛光，振动抛光机内装有研磨材料，为了降低成本，很多陶瓷加工厂以石子作为研磨材料，将陶瓷餐具投入振动抛光机中，在振动作用下石子磨擦餐具表面以达到抛光的效果。虽然这种方式的成本较低，但抛光效率也低，并且容易损坏陶瓷餐具，增加报废率。
技术实现思路
：本专利技术所要解决的技术问题在于提供一种能快速使抛光所产生热量散发并提高抛光效率、增强抛光效果且减轻抛光报废率的日用陶瓷餐具的振动抛光工艺。本专利技术所要解决的技术问题采用以下的技术方案来实现：一种日用陶瓷餐具的振动抛光工艺，包括以下操作：(1)磨料制备：将陶瓷微粉、膨润土、多聚谷氨...
【技术保护点】
一种日用陶瓷餐具的振动抛光工艺，其特征在于，包括以下操作：(1)磨料制备：将陶瓷微粉、膨润土、多聚谷氨酸、分子筛原粉、纳米钛白粉、阳离子聚丙烯酰胺、水按比例充分混合后装入真空袋中，经抽真空处理后于‑15℃环境中静置5‑8h，然后以5‑10℃/min的升温速度加热至110‑120℃保温混合至水分挥干，所得混合物送入制粒机中，制得粒径2mm的磨料；(2)磨料加湿：将上述所制磨料加入振动抛光机中，并通过喷嘴向磨料中间断性喷入清水，使抛光过程中磨料质量含水量控制在0.5％；(3)陶瓷餐具振动抛光：将烧制后的陶瓷餐具放入振动抛光机中，振动抛光机功率1.5‑5.5kW、电机转速1400...
【技术特征摘要】
1.一种日用陶瓷餐具的振动抛光工艺，其特征在于，包括以下操作：(1)磨料制备：将陶瓷微粉、膨润土、多聚谷氨酸、分子筛原粉、纳米钛白粉、阳离子聚丙烯酰胺、水按比例充分混合后装入真空袋中，经抽真空处理后于-15℃环境中静置5-8h，然后以5-10℃/min的升温速度加热至110-120℃保温混合至水分挥干，所得混合物送入制粒机中，制得粒径2mm的磨料；(2)磨料加湿：将上述所制磨料加入振动抛光机中，并通过喷嘴向磨料中间断性喷入清水，使抛光过程中磨料质量含水量控制在0.5％；...
【专利技术属性】
技术研发人员：许纯荣，
申请(专利权)人：安徽青花坊瓷业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34
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