制备阵列基板的方法、阵列基板、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了制备阵列基板的方法、阵列基板、显示装置。该方法包括：在基板上设置多个阵列排布的薄膜晶体管；在所述基板上沉积第一透明电极层，对所述第一透明电极层进行第一构图工艺处理，以便形成多个与所述薄膜晶体管的漏极相连的第一电极，以及连接相邻的所述第一电极的连接电极；在所述第一透明电极层远离所述基板的一侧设置功能结构；以及对所述连接电极进行第二构图工艺处理，断开所述连接电极，以在所述第一电极边缘形成凸出的连接部。由此，可以利用简单的制备工艺，消除阵列基板在制备过程中由静电击穿造成的各种不良。

Method, array substrate and display device for preparing array substrate

【技术实现步骤摘要】
制备阵列基板的方法、阵列基板、显示装置
本专利技术涉及液晶显示领域，具体地，涉及制备阵列基板的方法、阵列基板、显示装置。
技术介绍
液晶显示器具有机身薄、功耗低、辐射低以及画面柔和等优点，近年来得到迅速发展。液晶显示器的主体结构为显示面板，显示面板包括背光模组、对盒设置的阵列基板和彩膜基板以及封装在二者之间的液晶分子。其中，阵列基板上设置有栅线、信号线以及薄膜晶体管等结构，栅线以及信号线用于限定多个像素区域，每个像素区域包括像素电极，薄膜晶体管作为开关器件，用于控制像素电极和公共电极形成驱动液晶偏转的电场，实现显示。然而，目前制备阵列基板的方法、阵列基板、显示装置仍有待改进。
技术实现思路
本专利技术是基于专利技术人对于以下事实和问题的发现和认识作出的：目前，液晶显示器多存在良率较低的问题。专利技术人经过深入研究以及大量实验发现，这主要是由于阵列基板在制备过程中会发生静电释放而产生各种不良导致的。具体的，在制备阵列基板的过程中，沉积透明电极层(例如，ITO层)形成方形的像素电极，由于ITO层具有导电性能，因此，容易在像素电极上积累静电并释放产生各种不良。此外，在制备金属层以及半导体层的过本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备阵列基板的方法，其特征在于，包括：在基板上设置多个阵列排布的薄膜晶体管；在所述基板上沉积第一透明电极层，对所述第一透明电极层进行第一构图工艺处理，以便形成多个与所述薄膜晶体管的漏极相连的第一电极，以及连接相邻的所述第一电极的连接电极；在所述第一透明电极层远离所述基板的一侧设置功能结构；以及对所述连接电极进行第二构图工艺处理，断开所述连接电极，以在所述第一电极边缘形成凸出的连接部。

【技术特征摘要】
1.一种制备阵列基板的方法，其特征在于，包括：在基板上设置多个阵列排布的薄膜晶体管；在所述基板上沉积第一透明电极层，对所述第一透明电极层进行第一构图工艺处理，以便形成多个与所述薄膜晶体管的漏极相连的第一电极，以及连接相邻的所述第一电极的连接电极；在所述第一透明电极层远离所述基板的一侧设置功能结构；以及对所述连接电极进行第二构图工艺处理，断开所述连接电极，以在所述第一电极边缘形成凸出的连接部。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，设置所述功能结构包括：在所述连接电极远离所述基板的一侧设置信号线；在所述第一电极以及所述连接电极远离所述基板的一侧设置钝化层；以及在所述钝化层远离所述第一电极的一侧沉积第二透明电极层，并形成第二电极。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，对所述钝化层进行第三构图工艺处理，以便在与所述连接电极相对应处形成第一过孔。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，形成所述第一过孔之后进一步包括：对所述第一过孔处的所述第二透明电极层以及所述连接电极进行第二构图工艺处理，以便在所述第二透明电极层上形成第二过孔，并基于所述连接电极形成所述连接部以及信号线连接部，其中，所述第二过孔的尺寸不大于所述第一过孔的尺寸。5.一种阵列基板，其特征在于，为权利要求1-4任一项所述的方法制备的。6.一种阵列基板，其特征在于，包括：基板；多个薄膜晶体管，多个所述薄膜晶体管设置在所述基板上；多个阵列排布的第一电极，所述第一电极与所述薄膜晶体管的漏极相...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏磊，杨小飞，刘旭，李兴华，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11