The invention provides a plasma spectroscopic analysis method and plasma spectroscopic analysis device, high sensitivity and restrain such as error analysis of sample analysis of the produce. The plasma spectroscopic analysis method includes: concentration process, including the sample in the presence of a pair of electrode voltage applied to the applying procedure, the sample analysis of the object concentrated near at least one of the electrodes by the applied voltage; and the detection process, and plasma by applying a voltage to one of the electrodes of the plasma generated by the light emitting analysis object is detected, the voltage during at least a portion of the concentration in the process when applied between a pair of electrodes of the constant current.
【技术实现步骤摘要】
等离子体分光分析方法及等离子体分光分析装置
本公开涉及等离子体分光分析方法及等离子体分光分析装置。
技术介绍
作为对试料中的分析对象物进行分析的方法,已知有利用了等离子体发光的分析方法。关于所述分析方法,专利文献1公开了使用高频等离子体质量分析装置对试料进行分析的方法。而且,专利文献2及3公开了使用具有狭小部的等离子体产生装置,使试料中产生等离子体,通过分析等离子体发光来分析试料的方法。此外,专利文献4及5公开了在液体的试料中使等离子体产生,通过分析等离子体发光来分析试料的方法。然而,在专利文献1的方法中,当未进行适当的前处理时,存在由于其他的物质的混入而分析结果发生变化的问题。而且,在专利文献2及3的方法中,在使用存在夹杂物的试料的情况及在进行减少试料的液量的前处理时混入了异物等的情况下,存在所述夹杂物及所述异物堵塞于所述狭小部而无法进行测定的问题。此外,在专利文献4及5的方法中,存在分析灵敏度低的问题。【现有技术文献】【专利文献】【专利文献1】日本特开2009-128315号公报【专利文献2】日本特开2011-180045号公报【专利文献3】日本特开2012-185064号公报【专利文献4】国际公开第2006/059808号【专利文献5】国际公开第2011/099247号
技术实现思路
【专利技术要解决的问题】于是,本公开的目的在于提供一种分析灵敏度高且抑制了例如试料分析时的分析误差的产生的等离子体分光分析方法及使用于该等离子体分光分析方法的等离子体分光分析装置。【用于解决问题的手段】为了解决所述课题,本公开的等离子体分光分析方法(以下,也称为“分析方法” ...
【技术保护点】
一种等离子体分光分析方法,包括:浓缩工序,包括在试料的存在下对一对电极进行电压施加的电压施加工序,通过所述电压施加来将所述试料中的分析对象物浓缩于至少一方的电极的附近;及检测工序,通过向所述一对电极施加电压而产生等离子体,对因所述等离子体而产生的所述分析对象物的发光进行检测,所述浓缩工序中的至少一部分的期间的电压施加时的一对电极间的电流恒定。
【技术特征摘要】
2016.07.22 JP 2016-144930;2017.06.23 JP 2017-123021.一种等离子体分光分析方法,包括:浓缩工序,包括在试料的存在下对一对电极进行电压施加的电压施加工序,通过所述电压施加来将所述试料中的分析对象物浓缩于至少一方的电极的附近;及检测工序,通过向所述一对电极施加电压而产生等离子体,对因所述等离子体而产生的所述分析对象物的发光进行检测,所述浓缩工序中的至少一部分的期间的电压施加时的一对电极间的电流恒定。2.根据权利要求1所述的等离子体分光分析方法,其中,所述浓缩工序包括:电压施加工序,向所述一对电极施加电压;及电压非施加工序,不向所述一对电极施加电压。3.根据权利要求2所述的等离子体分光分析方法,其中,在所述浓缩工序中,将各进行一次所述电压施加工序和所述电压非施加工序的反复作为一组,所述一组的时间为0.25秒以上。4.根据权利要求2或3所述的等离子体分光分析方法,其中,在所述浓缩工序中,将各进行一次所述电压施加工序和所述电压非施加工序的反复作为一组,所述一组的时间中的所述电压非施加工序的时间为0.125秒以上。5.根据权利要求2或3所述的等离子体分光分析方法,其中,在所述浓缩工序中,将各进行一次所述电压施加工序和所述电压非施加工序的反复作为一组,所述一组的时间中的所述电压施加工序的时间的比例为1%以上且99%以下的范围。6.根据权利要求1~3中任一项所述的等离子体分光分析方法,其中,在所述浓缩工序中,所述电压施加时的一对电极间的电流值为0.01mA以上且200mA以下的范围。7.根据权利要求1~3中任一项所述的等离子体分光分析方法,其中,所述一对电极是与所述试料进行液体接触的液体接触面积不同的一对电极,所述一对电极中的与所述试料进行液体接触的液体接触面积小的电极是通过等离子体产生来...
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