一种酸溶液及硅电容麦克风的制作方法技术
An acid solution and a fabrication method of silicon capacitance microphone
The invention relates to the technical field of silicon capacitance microphone, and discloses a method for making acid solution and silicon capacitance microphone. The acid solution is formed by mixing aqueous solution with buffer acid. The buffer acid is a mixture of NH4F and HF, and the volume ratio of the aqueous solution to the buffer acid is 3:1 to 10:1. On the sacrificial oxide layer by wet etching using the acid solution, with low surface tension etching mask, the etching reaction product can enter the etching cavity, effectively reduce the bubble effect, avoid block etching phenomenon and oxide residue, and can ensure the highly selective etching layer, improving the uniformity of etching surface in order to reduce defects, etching structure. Using the acid solution provided by the invention for etching of the sacrificial oxide layer, the produced silicon capacitance microphone has high sensitivity and stability.
【技术实现步骤摘要】
一种酸溶液及硅电容麦克风的制作方法
本专利技术涉及硅电容麦克风
，特别涉及一种酸溶液及硅电容麦克风的制作方法。
技术介绍
随着无线通讯的发展，全球移动电话用户越来越多，用户对移动电话的要求已不仅满足于通话，而且要能够提供高质量的通话效果，尤其是目前移动多媒体技术的发展，移动电话的通话质量更显重要，移动电话的麦克风作为移动电话的语音拾取装置，其设计好坏直接影响通话质量。而目前应用较多且性能较好的麦克风是微电机系统麦克风(Micro–Electro–Mechanical–SystemMicrophone，简称MEMS麦克风)。相关技术中，MEMS麦克风包括基底、背板和振膜。专利技术人发现现有技术中至少存在如下问题：随着硅电容麦克风尺寸的减少，传统的蚀刻方法在对牺牲氧化物层进行蚀刻以形成声腔时，不可避免地在刻蚀初期即产生气泡，且气泡数量随着刻蚀进行而增多，这些气泡被困在所形成的声腔中，最终形成氧化渣，从而无法控制平坦度、可靠性，严重影响硅电容麦克风的性能。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种酸溶液，在使用该种酸溶液进行刻蚀、释放牺牲氧化物层时，减少气泡的产生，...
【技术保护点】
一种酸溶液，其特征在于，所述酸溶液由水溶液和缓冲酸混合形成，所述缓冲酸为NH4F和HF的混合物，所述水溶液与所述缓冲酸的体积比为3:1至10:1。
【技术特征摘要】
1.一种酸溶液，其特征在于，所述酸溶液由水溶液和缓冲酸混合形成，所述缓冲酸为NH4F和HF的混合物，所述水溶液与所述缓冲酸的体积比为3:1至10:1。2.根据权利要求1所述的酸溶液，其特征在于，所述缓冲酸中NH4F和HF的体积比为7:1至8:1。3.根据权利要求1所述的酸溶液，其特征在于，所述水溶液、NH4F和HF的体积比为25:7:1。4.根据权利要求1所述的酸溶液，其特征在于，所述水溶液为去离子水。5.一种硅电容麦克风的制造方法...
【专利技术属性】
技术研发人员：许盛玉，吕丽英，吴伟昌，黎家健，
申请(专利权)人：瑞声科技新加坡有限公司，
类型：发明
国别省市：新加坡,SG
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