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本发明涉及硅电容麦克风制造技术领域，公开了一种酸溶液及硅电容麦克风的制作方法。所述酸溶液由水溶液和缓冲酸混合形成，所述缓冲酸为NH4F和HF的混合物，所述水溶液与所述缓冲酸的体积比为3:1至10:1。使用该种酸溶液对牺牲氧化物层进行湿法刻蚀...该专利属于瑞声科技(新加坡)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过瑞声科技(新加坡)有限公司授权不得商用。
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