The invention discloses a method for making metal nanosnet. The method mainly includes the following steps: (1) coating colloidal particles. Colloidal particles were evenly coated on the substrate, and a single layer of colloidal particles arranged in a single layer was obtained after drying. (2) electrodeposition of a sacrificial layer of metal. Electrodeposition was carried out with colloidal particles as the mask, and sacrificial layer metal was deposited on the substrate. (3) electrodeposition of nanoscale metal layer. The colloid particles are used as the mask and the metal of the sacrificial layer is used as the substrate for the second electrodeposition, and the deposited metal layer is the nanoscale material. (4) remove colloid particles. (5) corrosion of sacrificial layers of metal and nanoscale. The invention adopts the colloidal particle mask with sacrificial layer technology, with horn shaped hole shape of colloidal particles to obtain regular arrays of nano network, by controlling the size of colloidal particles under the aperture of the horn shaped hole diameter and thickness of the sacrificial layer control on the nano network; nano mesh prepared by uniform side uniform wall shape.
【技术实现步骤摘要】
一种金属纳米网的制作方法
本专利技术涉及一种金属纳米网的制作方法,特别是一种喇叭状孔的纳米网的制作方法,属于纳米材料制作领域。
技术介绍
目前,制作金属纳米网的常用方法为光刻和薄膜沉积工艺等技术,受光刻工艺的限制,制作喇叭状网孔的纳米网时其网孔形状不可控制。专利201611044736.4中提到:利用多孔阳极氧化铝为模板进行电化学沉积,再通过化学试剂去除多孔阳极氧化铝模板中的多孔氧化层,经分离和转移得到金属纳米网,该方法简单快捷,但是利用该方法制得的纳米网存在一些缺点:网孔侧壁形状不规则、各网孔间距离和网孔大小得不到良好的控制、若沉积层过厚,很可能出现网孔封闭等现象。由近年来发展起来的图案化技术:利用单分散的胶体颗粒自组装形成的微纳结构为图案化掩膜、与各种刻蚀和沉积技术相结合,可以得到多种规则可控的纳米结构阵列,此类工艺过程简单灵活,制作方便,但由于沉积过程常始于未被胶体晶体掩膜覆盖的基底表面,因胶体晶体掩膜的球状结构,故得到的大多是碗状阵列,而得不到尺寸可控、质量较好的喇叭状孔的网状结构。
技术实现思路
针对现有制作纳米网工艺存在的缺陷或不足,本专利技术的目的在于,提供一种侧壁形状规则、喇叭状孔最大尺寸和厚度及喇叭状孔的大小孔径尺寸可控的喇叭状孔的纳米网的制作方法。和现有工艺区别是,本专利技术采用胶体粒子掩膜技术结合牺牲层技术来获得喇叭状孔的纳米网。为了实现上述目标,本专利技术采用的技术方案,包括以下步骤:(1)涂覆胶体粒子。清洗、烘干光滑的基底,在基底上均匀涂覆胶体粒子溶液,干燥后得到单层紧密排列的胶体粒子阵列;(2)电沉积牺牲层金属。以单层胶体粒子为掩膜 ...
【技术保护点】
一种金属纳米网的制作方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)涂覆胶体粒子:在基底上均匀涂覆胶体粒子溶液,干燥后得到单层紧密排列的胶体粒子阵列;(2)电沉积牺牲层金属:以单层胶体粒子为掩膜进行电沉积,在基底上沉积出牺牲层金属;(3)电沉积纳米网金属层:以胶体粒子为掩膜、以牺牲层金属为基底进行第二次电沉积,沉积的金属层为纳米网的材料;(4)去除胶体粒子:通过有机溶剂去除胶体粒子得到规则的碗状结构阵列;(5)腐蚀牺牲层金属、得到纳米网:将沉积金属层的基底放入选择性腐蚀液中,腐蚀掉牺牲层金属,从牺牲层上脱离的金属层即为制作的纳米网。
【技术特征摘要】
1.一种金属纳米网的制作方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)涂覆胶体粒子:在基底上均匀涂覆胶体粒子溶液,干燥后得到单层紧密排列的胶体粒子阵列;(2)电沉积牺牲层金属:以单层胶体粒子为掩膜进行电沉积,在基底上沉积出牺牲层金属;(3)电沉积纳米网金属层:以胶体粒子为掩膜、以牺牲层金属为基底进行第二次电沉积,沉积的金属层为纳米网的材料;(4)去除胶体粒子:通过有机溶剂去除胶体粒子得到规则的碗状结构阵列;(5)腐蚀牺牲层金属、得到纳米网:将沉积金属层的基底放入选择性腐蚀液中,腐蚀掉牺牲层金属,从牺牲层上脱离的金属层即为制作的纳米网。2.根据权利要求1所述的一种金属纳米网的制作方法,其特征在于,步骤(1)所述的基底可采用表面光滑的金属板或导电的光滑平面,如不锈钢、钢板、铝板、镍板、ITO玻璃或表面带有导电层的玻璃。3.根据权利要求1所述的一种金属纳米网的制作方法,其特征在于,步骤(1)所述的胶体粒子为不导电胶体粒子,如聚苯乙烯胶体粒子或二氧化硅胶体粒子,其直径根据所需的纳米网孔的尺寸选择,可为几十微米到几...
【专利技术属性】
技术研发人员:秦歌,张云燕,王冠,周奎,闫亮,明平美,刘凯瑞,
申请(专利权)人:河南理工大学,
类型:发明
国别省市:河南,41
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