一种降低电化学腐蚀的可降解金属支架制备方法及其制得的金属支架技术

本发明专利技术公开一种降低电化学腐蚀的可降解金属支架制备方法，包括如下步骤：通过激光切割在圆筒型管材的管壁上，雕刻成镂空网状结构的支架本体，通过分子沉积或原子沉积将高密度金属膜施加到整个所述支架本体表面，将显影丝缠绕至所述支架本体的非应力区。本发明专利技术的技术效果主要体现在：可降解金属支架的非应力区缠绕显影丝不会造成支架的损伤，不会产生应力腐蚀和应力腐蚀裂纹；缠绕显影丝不会改变支架原有的设计形状；显影标记与高密度金属膜的密度差、电位序差变小，防止电偶腐蚀的情况产生。

A degrading metal scaffold for reducing electrochemical corrosion and its metal scaffold

The invention discloses a method for reducing the electrochemical corrosion of biodegradable stent preparation method comprises the following steps: cutting the tube wall of the cylindrical tube by laser, carved into the bracket body hollow mesh structure, high density metal film is applied to the whole of the bracket body surface by molecular deposition or atomic deposition will be developed the winding wire to the bracket body non stress zone. The technical effect of the invention is mainly reflected in: degradable metal stent non stress zone will not cause the support wire winding developing damage, no stress corrosion and stress corrosion cracking; wire winding development will not change the original shape of support design; developing markers with high density of metal membrane density difference, potential difference in sequence small, to prevent galvanic corrosion condition.

【技术实现步骤摘要】
一种降低电化学腐蚀的可降解金属支架制备方法及其制得的金属支架
本专利技术涉及医疗器械领域，具体涉及一种用于血管腔内狭窄治疗的、可吸收的可显影金属支架。
技术介绍
随着人们饮食习惯的改变，工作、生活压力不断增大，环境污染日益严重，患心脑血管疾病的人群逐渐增多。冠心病是发病率较高的疾病之一。目前，多采用植入支架的方式治疗冠脉狭窄等冠心病，支架在应用过程中逐渐改进、发展，从起初的金属裸支架(BMS)(术后狭窄率15～30％)，到药物洗脱支架(DES)的开发与应用(术后狭窄率10％左右)，随着临床应用的不断积累发现，惰性金属支架平台在植入后远期存在发生晚期血栓及再狭窄的风险。因此，可以在有效服役期后逐渐被人体吸收的可降解支架受到广泛关注。近年来，镁基金属(纯镁和镁合金)因具有非常低的电极电位，在体液环境中非常活泼，易发生腐蚀，进而在体内被安全吸收代谢，实现生物降解。镁合金具有较优的力学性能，镁元素更是人体内生长、代谢所必须的微量元素。上述特点使其受到人们的青睐，有望成为新一代可降解植入材料而得到临床应用。例如，中国专利CN102220529A公开了一种可生物降解血管支架用Mg-Zn-Y-Nd本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种降低电化学腐蚀的可降解金属支架制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1、金属支架的制备步骤，通过激光切割在圆筒型管材的管壁上，雕刻成镂空网状结构的支架本体，并完成抛光；S2、金属支架表面镀高密度金属膜的制备步骤，通过分子沉积或原子沉积将高密度金属膜施加到整个所述支架本体表面；S3、显影丝的缠绕步骤，将显影丝缠绕至所述支架本体的非应力区。

【技术特征摘要】
1.一种降低电化学腐蚀的可降解金属支架制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1、金属支架的制备步骤，通过激光切割在圆筒型管材的管壁上，雕刻成镂空网状结构的支架本体，并完成抛光；S2、金属支架表面镀高密度金属膜的制备步骤，通过分子沉积或原子沉积将高密度金属膜施加到整个所述支架本体表面；S3、显影丝的缠绕步骤，将显影丝缠绕至所述支架本体的非应力区。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，S1还包括如下步骤：S10、金属支架的非应力区显影标记孔的制备步骤，通过激光切割支架本体时，在支架两侧的非应力区均匀切割出显影标记孔。3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，S3中、将显影丝缠绕至所述支架本体的非应力区的所述显影标记孔内。4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述高密度金属膜的沉积材料为金，铂，铱或钛，或者它们的任何组合组成。5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，S2还包括如下步骤：S20、对已经完成高密度金属膜沉积的金属支架进行毛化处理，并在其外层上...

【专利技术属性】
技术研发人员：翁玉麟，
申请(专利权)人：鼎科医疗技术苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32