接近式曝光和光配向一体装置、光配向方法及曝光方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种接近式曝光和光配向一体装置、光配向方法及曝光方法。一种接近式曝光和光配向一体装置，包括光源、依次置于光源光路方向的：光反射滤光机构、蝇眼透镜组、球面反射镜、反射镜、掩模台以及带有能量传感器的工件台；在蝇眼透镜组和掩膜台之间还设置有起偏模块，起偏模块中包括透光孔工位、置有旋转机构的起偏工位以及用于将起偏工位和透光孔工位切换置于光源光路中心的移动机构；曝光作业时，将透光孔工位置于光源光路中心，光配向作业时，将起偏工位置于光源光路中心，且将能量传感器移动至光路中心，旋转调节旋转机构。通过本发明专利技术可以实现同一接近式曝光设备同时具备曝光和配向功能，节省空间和成本。

【技术实现步骤摘要】
接近式曝光和光配向一体装置、光配向方法及曝光方法
本专利技术涉及一种接近式曝光装置，尤其涉及一种接近式曝光和光配向一体装置、光配向方法及曝光方法。
技术介绍
平板行业中接近式曝光设备是重要装备之一，广泛应用于TFT-LCD和LTPS-OLED中的彩色滤光片(Colorfilter，CF)光刻工艺，其线宽分辨率一般在10um以上。目前对于分辨率提高的需求不是很强烈，且由于投影曝光设备价格昂贵，因此在满足应用需求情况下，接近式曝光设备仍将占据较大的市场份额。光配向设备也是平板显示领域LCD制程中关键的设备之一，随着面板尺寸的不断增大，制程设备尺寸也在不断增大，这直接增加了厂房面积和厂务费用。如果能将接近式曝光设备与光配向设备合二为一，将显著降低设备投资和运营费用。同时，一些科研机构或者实验室经费有限，空间狭小，对产能要求不高。
技术实现思路
针对上述缺陷，本专利技术的目的在于提供一种接近式曝光和光配向一体装置、光配向方法及曝光方法，以使得设备同时具备曝光和配向功能，节省空间和成本。为达此目的，第一方面，本专利技术提供了一种接近式曝光和光配向一体装置，包括：包括光源、依次置于光源光路方向的：光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种接近式曝光和光配向一体装置，其特征在于，包括光源、依次置于光源光路方向的：光反射滤光机构、蝇眼透镜组、球面反射镜、反射镜、掩模台以及带有能量传感器的工件台；在蝇眼透镜组和掩膜台之间还设置有起偏模块，所述起偏模块中包括透光孔工位、置有旋转机构的起偏工位以及用于将起偏工位和透光孔工位切换置于光源光路中心的移动机构；曝光作业时，将透光孔工位置于光源光路中心，光配向作业时，将起偏工位置于光源光路中心，且将所述能量传感器移动至光路中心，旋转调节所述旋转机构。

【技术特征摘要】
1.一种接近式曝光和光配向一体装置，其特征在于，包括光源、依次置于光源光路方向的：光反射滤光机构、蝇眼透镜组、球面反射镜、反射镜、掩模台以及带有能量传感器的工件台；在蝇眼透镜组和掩膜台之间还设置有起偏模块，所述起偏模块中包括透光孔工位、置有旋转机构的起偏工位以及用于将起偏工位和透光孔工位切换置于光源光路中心的移动机构；曝光作业时，将透光孔工位置于光源光路中心，光配向作业时，将起偏工位置于光源光路中心，且将所述能量传感器移动至光路中心，旋转调节所述旋转机构。2.如权利要求1所述的一种接近式曝光和光配向一体装置，其特征在于，所述起偏模块置于所述蝇眼透镜组的出光处。3.如权利要求1所述的一种接近式曝光和光配向一体装置，其特征在于，所述光源为汞灯光源，内设置有水冷装置。4.如权利要求1所述的一种接近式曝光和光配向一体装置，其特征在于，所述光反射滤光机构以及蝇眼透镜组输出的均光入射角小于15°。5.如权利要求1所述的一种接近式曝光和光配向一体装置，其特征在于，工件台中包括水平向运动机构和/或垂直向运动机构。6.如权利要求1所述的一种接近式曝光和光配向一体装置，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：覃宗伟，张俊，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31