一种运动台吸附装置及光刻装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种运动台吸附装置及光刻装置，所述吸附装置包括吸附台和支撑组件，所述吸附台上设有容纳所述支撑组件的第一让位槽，所述支撑组件设于所述第一让位槽内，所述支撑组件包括若干水平支撑杆，所述水平支撑杆下方通过连杆连接至驱动机构，所述吸附台和所述支撑组件靠近工件的一侧设有吸附结构。通过在支撑组件靠近工件的一侧设置吸附结构，对工件的整个平面进行吸附，解决了工件在让位槽区域平面凸起的现象，保证了面型精度；在吸附气流撤销后，通过驱动机构带动支撑组件承担工件传输过程中的上下片工作。本发明专利技术不仅可以将工件整面支撑的面型精度控制在8um以下，同时保证了工件传输过程中的上、下片工作。

【技术实现步骤摘要】
一种运动台吸附装置及光刻装置
本专利技术涉及光刻机
，具体涉及一种运动台吸附装置及光刻装置。
技术介绍
光刻机系统在工作过程中，运动台和掩模台分别以投影物镜的两面一轴(物面、焦面和光轴)为基准，在控制系统的驱动下，按要求实现运动台与掩模台之间的相对位置以及两者相对曝光系统的位置精度。而影响曝光成像精度的因素有很多，其中最直接的因素还是工件(玻璃基板或硅片)的表面面型。随着工件尺寸越来越大，实现面型精度要求的难度更大，工件表面变形更大，不仅影响了工件的最终成像精度，甚至会导致整个工件报废，大大提高了加工制造成本。为了保证工件表面的面型精度，即要求整个光刻系统保证工件表面的面型控制在20～30um甚至以下，如果摒弃其他影响因素，就要求在曝光成像过程中工件下部的支撑部件(如吸附基板)能较好的吸附工件，控制整个面型精度在0～10um以内。而实际中由于需要让位传输过程中机械手装置，需要在吸附基板上开多个让位孔槽，这些孔槽区域较大，而且不通有吸附气压，导致工件在该区域没有向下的力以吸附工件，造成工件表面局部上凸，最终导致整个面型不达标。
技术实现思路
本专利技术提供了一种运动台吸附装置及光刻装本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种运动台吸附装置，包括吸附台和支撑组件，其特征在于，所述吸附台上设有容纳所述支撑组件的第一让位槽，所述支撑组件设于所述第一让位槽内，所述支撑组件包括若干水平支撑杆，所述水平支撑杆下方通过连杆连接至驱动机构，所述吸附台和所述支撑组件靠近工件的一侧设有吸附结构。

【技术特征摘要】
1.一种运动台吸附装置，包括吸附台和支撑组件，其特征在于，所述吸附台上设有容纳所述支撑组件的第一让位槽，所述支撑组件设于所述第一让位槽内，所述支撑组件包括若干水平支撑杆，所述水平支撑杆下方通过连杆连接至驱动机构，所述吸附台和所述支撑组件靠近工件的一侧设有吸附结构。2.根据权利要求1所述的运动台吸附装置，其特征在于，所述水平支撑杆设有四根，呈X状对称分布，每根所述水平支撑杆通过一根连杆连接至所述驱动机构。3.根据权利要求2所述的运动台吸附装置，其特征在于，所述第一让位槽设有四个，为与所述水平支撑杆相适配的腰型孔。4.根据权利要求1所述的运动台吸附装置，其特征在于，所述吸附结构为槽式吸附机构，包括设于所述吸附台或支撑组件内部的气道结构、以及设于所述吸附台或水平支撑杆上表面的气流槽和支撑接触凸点，所述气流槽与所述气道结构连通。5.根据权利要求4所述的运动台吸附装置，其特征在于，所述气流槽和所述支撑接触凸点交替排列。6.根据权利要求4所述的运动台吸附装置，其特征在于，所述水平支撑杆与所述吸附台的第一让位槽中对应设有卡槽。7.根据权利要求1所述的运动台吸附装置，其特征在于，所述吸附结构为陶瓷吸附机构，包括设于所述吸附台或支撑组件内部的气道结构和设于所述吸附台或水平支撑杆上表面的多孔质陶瓷结构，所述多孔质陶瓷结构上设有若干与所...

【专利技术属性】
技术研发人员：季采云，廖飞红，杨辅强，许伍，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31