一种针对复杂气体光谱分析的多气室结构制造技术

本实用新型专利技术提供了一种针对复杂气体光谱分析的多气室结构，包括气室组件以及位于气室组件一侧与气室组件间隔设置的制冷基板，气室组件包括上下层叠设置的一个测量气室和多个参考气室，制冷基板上设有一激光器，测量气室与制冷基板相对的侧壁上以及每一参考气室与制冷基板相对的侧壁上均设有通光口，制冷基板与气室组件之间设有分光装置，测量气室和参考气室内均设有用于将入射到气室内的激光从通光口反射出去的反光装置，制冷基板上还设有与测量气室和各参考气室一一对应的多个光电探测器，制冷基板与气室组件之间还设有聚光装置。本实用新型专利技术可以有效消除激光器波长漂移和温度变化对测量结果造成的影响，实时保证测量结果的准确性。

【技术实现步骤摘要】
一种针对复杂气体光谱分析的多气室结构
本技术涉及光学气体分析领域，尤其涉及一种针对复杂气体光谱分析的多气室结构。
技术介绍
近年来，各种光学气体分析技术在石油化工、环境监测、生物医学等领域得到广泛应用。光学气体分析技术基于分子光谱学，普遍需要对气体分子的吸收光谱、散射光谱或荧光光谱等光谱线型进行定量分析计算。在面对多组分气体分析时，往往多种气体的光谱信号互相重叠，需要采用化学计量学相关算法将每种气体的特征光谱信息分离开，再对各种组分含量进行定量计算。而光谱分析技术对激光器本身的性能要求较高，在使用过程中需要对激光器的电流和温度进行严格控制；此外气体本身的性质会受到温度和压力的影响，这些外界因素的变化都会改变气体的光谱曲线，从而直接影响到浓度测量结果。目前市场上的光学气体分析仪所使用的激光器对谱线宽度和稳定性都有较高要求，这种激光器价格较为昂贵。此外，光谱分析技术普遍需要对待测气体进行恒温伴热处理，加上谱线定位和温度修正等算法减少不稳定因素的影响，但这些方法的使用会大大提高设备的成本、增加设备体积，各种修正参数的确定需要大量标定数据积累，从长期来看不能完全保证测量浓度的准确性。
技术实现思路
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【技术保护点】
一种针对复杂气体光谱分析的多气室结构，其特征在于：包括气室组件以及位于气室组件一侧与气室组件间隔设置的制冷基板，所述气室组件包括上下层叠设置的一个测量气室和多个参考气室，所述制冷基板上设有一激光器，所述测量气室与所述制冷基板相对的侧壁上以及每一所述参考气室与所述制冷基板相对的侧壁上均设有通光口，所述制冷基板与所述气室组件之间设有用于将激光器发出的激光引导至各个所述通光口的分光装置，所述测量气室和所述参考气室内均设有用于将入射到气室内的激光从所述通光口反射出去的反光装置，所述制冷基板上还设有与所述测量气室以及各所述参考气室一一对应的多个光电探测器，所述制冷基板与所述气室组件之间还设有用于将从各个...

【技术特征摘要】
1.一种针对复杂气体光谱分析的多气室结构，其特征在于：包括气室组件以及位于气室组件一侧与气室组件间隔设置的制冷基板，所述气室组件包括上下层叠设置的一个测量气室和多个参考气室，所述制冷基板上设有一激光器，所述测量气室与所述制冷基板相对的侧壁上以及每一所述参考气室与所述制冷基板相对的侧壁上均设有通光口，所述制冷基板与所述气室组件之间设有用于将激光器发出的激光引导至各个所述通光口的分光装置，所述测量气室和所述参考气室内均设有用于将入射到气室内的激光从所述通光口反射出去的反光装置，所述制冷基板上还设有与所述测量气室以及各所述参考气室一一对应的多个光电探测器，所述制冷基板与所述气室组件之间还设有用于将从各个所述通光口反射出来的激光汇聚到对应的所述光电探测器的聚光装置。2.如权利要求1所述的针对复杂气体光谱分析的多气室结构，其特征在于：所述通光口为光学窗口，所述分光装置包括沿光路依次设置的多个分光镜和一个反射镜。3.如权利要求2所述的针对复杂气体光谱分析的多气室结构，其特征在于：所述激光器与该光路上的第一个所述分光镜之间设有激光汇聚透镜。4.如权利要求2所述的针对复杂气体光...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡雪蛟，向柳，罗丹，
申请(专利权)人：深圳米字科技发展有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44