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本实用新型提供了一种针对复杂气体光谱分析的多气室结构，包括气室组件以及位于气室组件一侧与气室组件间隔设置的制冷基板，气室组件包括上下层叠设置的一个测量气室和多个参考气室，制冷基板上设有一激光器，测量气室与制冷基板相对的侧壁上以及每一参考气室...
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