负型感光性树脂组成物、间隙体的制造方法、保护膜的制造方法以及液晶显示元件技术

本发明专利技术提供一种负型感光性树脂组成物、间隙体的制造方法、保护膜的制造方法以及液晶显示元件，其中负型感光性树脂组成物，包括：碱可溶性树脂(A)、含乙烯性不饱和基的化合物(B)、光起始剂(C)、溶剂(D)、以及硅氧化合物(E)。其中，硅氧化合物(E)含有由式(E‑1)所示的结构。本发明专利技术提供的负型感光性树脂组成物耐溅镀性良好，使用所述负型感光性树脂组成物能够解决负型感光性树脂组成物制得的间隙体或保护膜的耐溅镀性不佳的问题。

Negative photosensitive resin composition, manufacturing method of gap body, manufacturing method of protective film and liquid crystal display element

The present invention provides a negative photosensitive resin composition, manufacturing method, manufacturing method of the gap protection film and liquid crystal display element, wherein the negative photosensitive resin composition includes an alkali soluble resin, (A), compounds containing ethylenically unsaturated groups (B), photoinitiator (C), solvent (D) and silicon oxide (E). Among them, compounds containing silicon oxygen (E) by type (E 1) structure is shown. The negative photosensitive resin composition provided by the invention has good splash resistance, and the negative type photosensitive resin composition can solve the problem of poor splash resistance of the gap body or protective film made by the negative photosensitive resin composition.

【技术实现步骤摘要】
负型感光性树脂组成物、间隙体的制造方法、保护膜的制造方法以及液晶显示元件
本专利技术涉及一种负型感光性树脂组成物、间隙体的制造方法、保护膜的制造方法以及液晶显示元件，尤其涉及一种能够提供良好的耐溅镀性的负型感光性树脂组成物、由所述负型感光性树脂组成物制得的间隙体或保护膜的制造方法以及包含所述间隙体或保护膜的液晶显示元件。
技术介绍
一般而言，彩色滤光层表面的彩色印刷的像素与黑色矩阵会产生凹凸不平之处，一般于彩色滤光层的表面形成保护膜，藉此隐藏不平之处，进而达到平坦化的要求。然而，在制造液晶显示元件或固态成像装置等光学元件中，会遇到严苛条件下的处理程序，例如在基板表面以溅镀(Sputtering)形成配线电极层时，会造成局部腐蚀或高温的产生。因此，需于这些元件的表面上铺设保护膜，以防止制造时元件受损。为使保护膜具有抵御上述处理的特性，该保护膜需要与基板间具有优异的附着力，以及高耐溅镀性。另一方面，在已知技术中，彩色液晶显示元件中，为了维持两个基板间固定的层间距(晶胞间隙)，于整个基板上随机喷洒如聚苯乙烯珠或硅珠，其中该珠的直径为两基板间的间距。然而，此已知方式因喷珠的位置及密度分布并不均匀，造成背光源的光线受喷珠影响而散射，进一步使得显示元件的对比度降低。因此，以光刻工艺(photolithography)方式所开发出的间隙体用感光性组成物，遂成为业界的主流。该间隙体的形成方式，乃将该间隙体用的感光性组成物先涂布至基板，再于基板与曝光源间放入一指定形状光罩，可于曝光后再经显影形成一间隙体。依据此方法，可于红(R)、绿(G)、蓝(B)像素外的指定位置上形成间隙体，以解决已知技术的问题；晶胞间隙也可利用感光性成分形成的涂膜厚度来控制，使晶胞间隙的距离变得容易控制，具有精度高的优点。由于该保护膜或间隙体系形成于彩色滤光片或是基板上，对透明度的要求极高。若保护膜或间隙体的透明度不佳，当应用于液晶显示元件时，将造成液晶显示元件的亮度不足，而影响液晶显示元件的显示品质。为提高保护膜或间隙体的透明度，日本特开2004-240241号专利揭示一负型感光组成物，其包含(A)共聚合物，该共聚物系由乙烯性不饱合羧酸(酐)、具环氧基的乙烯性不饱合基的化合物及其他乙烯性不饱合基的化合物；(B)乙烯性不饱合基的聚合物所共聚合而得；及(C)光起始剂，其为2-丁二酮-[4-甲硫基苯]-2-(O-肟醋酸盐)、1,2-丁二酮-1-(4-吗啉基苯基)-2-(O-苯甲酰肟)、1,2-辛二酮-1-[4-苯硫基苯]-2-[O-(4-甲基苯甲酰)肟]或其类似物。然而，在制作配线电极层时，上述负型感光性组成物所制得的间隙体或保护膜因处于低压及溅镀所施加的等离子体环境中而导致膜厚降低及释气(outgassing)等问题的发生，故耐溅镀性的提升实为目前亟欲解决的问题。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供一种能够提供良好的耐溅镀性的负型感光性树脂组成物，使用所述负型感光性树脂组成物能够解决负型感光性树脂组成物制得的间隙体或保护膜的耐溅镀性不佳的问题。本专利技术提供一种负型感光性树脂组成物，包括：碱可溶性树脂(A)、含乙烯性不饱和基的化合物(B)、光起始剂(C)、溶剂(D)、以及硅氧化合物(E)。其中，硅氧化合物(E)含有由式(E-1)所示的结构：式(E-1)中，c为3至7的整数；L1、L2各自独立表示含有环氧脂环基的一价基团或者烷基，多个L1、L2间为相同或不同，且在c个L1及L2中至少一个基团为含有环氧脂环基的一价基团。在本专利技术的一实施例中，上述的碱可溶性树脂(A)包括第一碱可溶性树脂(A-1)，第一碱可溶性树脂(A-1)具有由式(A1-1)所示的重复单元：式(A1-1)中，R1表示氢原子或烷基；R2表示烷基、环烷基、烷氧基、烷氧基羰基、羧基、卤素原子、羟基或氰基；R3表示亚烷基、亚环烷基或其组合，当式(A1-1)中具有2个以上的R3时，各个R3彼此相同或不同。Y表示单键、-O-、-COO-、-CONH-、-NHCOO-或-NHCONH-，当式(A1-1)中具有2个以上的Y时，各个Y彼此相同或不同；X表示亚甲基、甲基亚甲基、二甲基亚甲基、亚乙基、-O-或-S-。m、n各自独立表示0至4的整数，当n为2以上时，n个R2彼此相同或不同；*表示键结处。在本专利技术的一实施例中，上述的第一碱可溶性树脂(A-1)具有乙烯性不饱和基。在本专利技术的一实施例中，上述的负型感光性树脂组成物还包括光酸产生剂(F)。在本专利技术的一实施例中，基于碱可溶性树脂(A)的使用量为100重量份，含乙烯性不饱和基的化合物(B)的使用量为30～300重量份，光起始剂(C)的使用量为10～80重量份，溶剂(D)的使用量为500～3000重量份，硅氧化合物(E)的使用量为3～25重量份。在本专利技术的一实施例中，基于碱可溶性树脂(A)的使用量为100重量份，第一碱可溶性树脂(A-1)的使用量为3～100重量份。在本专利技术的一实施例中，基于碱可溶性树脂(A)的使用量为100重量份，光酸产生剂(F)的使用量为0.5～5重量份。本专利技术也提供一种间隙体的制造方法，其是藉由上述的负型感光性树脂组成物，依序施予预烤处理、曝光处理、显影处理及后烤处理而制得具有图案的间隙体。本专利技术还提供一种保护膜的制造方法，其是藉由上述的负型感光性树脂组成物，依序施予预烤处理、曝光处理、显影处理及后烤处理而制得具有图案的保护膜。本专利技术又提供一种液晶显示元件，包括由上述的间隙体的制造方法所制得的间隙体。本专利技术又提供一种液晶显示元件，包括由上述的保护膜的制造方法所制得的保护膜。基于上述，本专利技术的负型感光性树脂组成物因含有由式(E-1)所示的结构的硅氧化合物(E)，故能够解决负型感光性树脂组成物制得的间隙体或保护膜的耐溅镀性不佳的问题。为让本专利技术的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例作详细说明如下。具体实施方式<负型感光性树脂组成物>本专利技术提供一种负型感光性树脂组成物，包含：碱可溶性树脂(A)、含乙烯性不饱和基的化合物(B)、光起始剂(C)、溶剂(D)、以及含有由式(E-1)所示的结构的硅氧化合物(E)。此外，本专利技术的负型感光性树脂组成物还可包含光酸产生剂(F)以及添加剂(G)。以下将详细说明用于本专利技术的负型感光性树脂组成物的各个成分。在此说明的是，以下是以(甲基)丙烯酸表示丙烯酸和/或甲基丙烯酸，并以(甲基)丙烯酸酯表示丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯；同样地，以(甲基)丙烯酰基表示丙烯酰基和/或甲基丙烯酰基。碱可溶性树脂(A)碱可溶性树脂(A)包括第一碱可溶性树脂(A-1)以及其他碱可溶性树脂(A-2)。第一碱可溶性树脂(A-1)第一碱可溶性树脂(A-1)是由单体混合物聚合而得。单体混合物包括由式(A1-2)所示的单体(a1-I)、具有一个或一个以上羧酸基的乙烯性不饱和单体(a1-II)以及其他可共聚合的乙烯性不饱和单体(a1-III)。因此，第一碱可溶性树脂(A-1)具有由式(A1-1)所示的重复单元：式(A1-1)以及式(A1-2)中，R1表示氢原子或烷基；R2表示烷基、环烷基、烷氧基、烷氧基羰基、羧基、卤素原子、羟基或氰基；R3表示亚烷基、亚环烷基或其组合，当式(A1-1)或式(A1-2)中具有2个以上的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种负型感光性树脂组成物，其特征在于，包括：碱可溶性树脂(A)；含乙烯性不饱和基的化合物(B)；光起始剂(C)；溶剂(D)；以及硅氧化合物(E)，其中，所述硅氧化合物(E)含有由式(E‑1)所示的结构：

【技术特征摘要】
2016.06.29 TW 1051204771.一种负型感光性树脂组成物，其特征在于，包括：碱可溶性树脂(A)；含乙烯性不饱和基的化合物(B)；光起始剂(C)；溶剂(D)；以及硅氧化合物(E)，其中，所述硅氧化合物(E)含有由式(E-1)所示的结构：式(E-1)中，c为3至7的整数；L1、L2各自独立表示含有环氧脂环基的一价基团或者烷基，多个L1、L2间为相同或不同，且在c个L1及L2中至少一个基团为含有环氧脂环基的一价基团。2.根据权利要求1所述的负型感光性树脂组成物，其特征在于，所述碱可溶性树脂(A)包括第一碱可溶性树脂(A-1)，所述第一碱可溶性树脂(A-1)具有由式(A1-1)所示的重复单元：式(A1-1)中，R1表示氢原子或烷基；R2表示烷基、环烷基、烷氧基、烷氧基羰基、羧基、卤素原子、羟基或氰基；R3表示亚烷基、亚环烷基或其组合，当所述式(A1-1)中具有2个以上的R3时，各个R3彼此相同或不同；Y表示单键、-O-、-COO-、-CONH-、-NHCOO-或-NHCONH-，当所述式(A1-1)中具有2个以上的Y时，各个Y彼此相同或不同；X表示亚甲基、甲基亚甲基、二甲基亚甲基、亚乙基、-O-或-S-；m、n各自独立表示0至4的整数，当n为2以上时，n个R2彼此相同或不同；*表示键结处。3.根据权利要求2所述的负型感光性树脂组成物，其特征在于，所述第一碱可溶性树脂(A-1)具...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈奕光，廖豪伟，
申请(专利权)人：奇美实业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71