一种单晶硅片清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种单晶硅片清洗装置，包括横梁、底座和支撑座，所述底座位于横梁的正下方，所述底座的顶部设有支腿，所述支腿的顶部设有水箱，所述水箱顶部开口设置，所述水箱的底部安装有超声波发生器，所述水箱内底部设有换能器，所述水箱的右侧壁顶部连接有进水管，所述水箱的右侧壁底部连接有出水管，所述横梁顶部的右侧安装有电机，所述横梁上还设有卷筒架，所述卷筒架上转动连接有卷筒，所述电机输出端连接到卷筒，所述卷筒上缠绕有钢丝绳，所述钢丝绳的底端连接到起吊环。避免互相堆叠，清洗效果好，工作效率高，将单晶硅片表面的杂质清理干净，防止互相碰撞，具有很好的防护效果。

A single crystal silicon wafer cleaning device

The utility model discloses a silicon wafer cleaning device, which comprises a cross beam, a base and a support seat, just below the base is located at the top of the beam, the base is provided with supporting legs, the top of the supporting leg is provided with a water tank, wherein the opening is arranged at the top of the tank, the ultrasonic generator is installed at the bottom of the tank. The water tank is provided with a transducer, the bottom right side wall at the top of the water tank is connected with the water inlet pipe, the bottom of the right side wall of water tank is connected with a water outlet pipe, wherein the motor is arranged on the right side of the top beam, the beam is arranged on the drum rack, the drum rack is rotatably connected to the drum, wherein the output the motor is connected to the drum, the drum is wound on the wire rope, the wire rope end connected to the lifting ring. Avoid stacking each other, cleaning effect is good, high efficiency, clean up the impurities on the surface of monocrystalline silicon, prevent collisions, and have good protective effect.

【技术实现步骤摘要】
一种单晶硅片清洗装置
本技术涉及单晶硅片
，具体为一种单晶硅片清洗装置。
技术介绍
单晶硅是一种比较活泼的非金属元素，是晶体材料的重要组成部分，处于新材料发展的前沿。其主要用途是用作半导体材料和利用太阳能光伏发电、供热等。由于太阳能具有清洁、环保、方便等诸多优势，近三十年来，太阳能利用技术在研究开发、商业化生产、市场开拓方面都获得了长足发展，成为世界快速、稳定发展的新兴产业之一。单晶硅可以用于二极管级、整流器件级、电路级以及太阳能电池级单晶产品的生产和深加工制造，其后续产品集成电路和半导体分离器件已广泛应用于各个领域，在军事电子设备中也占有重要地位。在光伏技术和微小型半导体逆变器技术飞速发展的今天，利用硅单晶所生产单晶硅的太阳能电池可以直接把太阳能转化为光能，实现了迈向绿色能源革命的开始。北京2008年奥运会将把“绿色奥运”做为重要展示面向全世界展现，单晶硅的利用在其中将是非常重要的一环。现在，国外的太阳能光伏电站已经到了理论成熟阶段，正在向实际应用阶段过渡，太阳能硅单晶的利用将是普及到全世界范围，市场需求量不言而喻。现有技术中的单晶硅片在清洗过程中，单晶硅片堆叠在一起，清洗效率低下，缺少防护措施，不适合推广使用。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种单晶硅片清洗装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种单晶硅片清洗装置，包括横梁、底座和支撑座，所述底座位于横梁的正下方，所述底座的顶部设有支腿，所述支腿的顶部设有水箱，所述水箱顶部开口设置，所述水箱的底部安装有超声波发生器，所述水箱内底部设有换能器，所述水箱的右侧壁顶部连接有进水管，所述水箱的右侧壁底部连接有出水管，所述支撑座的中间设有钢丝网，所述钢丝网的顶部设有存放壳体，所述存放壳体上均匀的开设有存放槽，所述存放槽的底部开设有漏水孔，所述支撑座顶部的左右两侧对称设有支架，所述支架的顶部设有起吊环，所述横梁顶部的右侧安装有电机，所述横梁上还设有卷筒架，所述卷筒架上转动连接有卷筒，所述电机输出端连接到卷筒，所述卷筒上缠绕有钢丝绳，所述钢丝绳的底端连接到起吊环。优选的，所述进水管和出水管的端部均连接有法兰，所述法兰上设有密封圈。优选的，所述支腿和水箱之间焊接，所述支腿和水箱的连接处设有加强筋。优选的，所述存放槽为半圆形，所述存放槽的宽度不小于5mm。优选的，所述存放槽之间的间隔距离在3mm-5mm之间。优选的，所述起吊环设置四组，所述支架和起吊环之间焊接。优选的，所述存放壳体通过螺栓固定于支架。与现有技术相比，本技术的有益效果是：本技术结构新颖，操作方便，避免互相堆叠，利用超声波清洗原理，清洗效果好，工作效率高，将单晶硅片表面的杂质清理干净，防止互相碰撞，具有很好的防护效果，具有很高的实用性，大大提升了该一种单晶硅片清洗装置的使用功能性，保证其使用效果和使用效益，适合广泛推广。附图说明图1为本技术一种单晶硅片清洗装置的结构示意图。图2为本技术一种单晶硅片清洗装置的起吊时结构示意图。图3为本技术一种单晶硅片清洗装置的存放壳体俯视结构示意图。图4为本技术一种单晶硅片清洗装置的A-A剖视结构示意图。图中：1横梁、2底座、3支腿、4水箱、5超声波发生器、6换能器、7进水管、8出水管、9电机、10卷筒架、11卷筒、12钢丝绳、13支撑座、14支架、15起吊环、16钢丝网、17存放壳体、18螺栓、19存放槽、20漏水孔。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1-4，本技术提供一种技术方案：一种单晶硅片清洗装置，包括横梁1、底座2和支撑座13，所述底座2位于横梁1的正下方，所述底座2的顶部设有支腿3，所述支腿3的顶部设有水箱4，所述水箱4顶部开口设置，所述水箱4的底部安装有超声波发生器5，所述水箱4内底部设有换能器6，所述水箱4的右侧壁顶部连接有进水管7，所述水箱4的右侧壁底部连接有出水管8，所述支撑座13的中间设有钢丝网16，所述钢丝网16的顶部设有存放壳体17，所述存放壳体17上均匀的开设有存放槽19，所述存放槽19的底部开设有漏水孔20，所述支撑座13顶部的左右两侧对称设有支架14，所述支架14的顶部设有起吊环15，所述横梁1顶部的右侧安装有电机9，所述横梁1上还设有卷筒架10，所述卷筒架10上转动连接有卷筒11，所述电机9输出端连接到卷筒11，所述卷筒11上缠绕有钢丝绳12，所述钢丝绳12的底端连接到起吊环15，所述进水管7和出水管8的端部均连接有法兰，所述法兰上设有密封圈，所述支腿3和水箱4之间焊接，所述支腿3和水箱4的连接处设有加强筋，所述存放槽19为半圆形，所述存放槽19的宽度不小于5mm，所述存放槽19之间的间隔距离在3mm-5mm之间，所述起吊环15设置四组，所述支架14和起吊环15之间焊接，所述存放壳体17通过螺栓18固定于支架14。工作原理：使用时，首先将待清洗单晶硅片放置在存放壳体17上的存放槽19中，避免互相堆叠，然后将存放壳体17放置在支撑座13中间的钢丝网16上，利用螺栓18将存放壳体17固定住，通过电机9为卷筒11转动提供动力，使卷筒11带动钢丝绳12，将支撑座13放入水箱4中，水箱4中存放有清洗液，利用超声波清洗原理，清洗效果好，工作效率高，将单晶硅片表面的杂质清理干净，防止互相碰撞，具有很好的防护效果，最后通过卷筒11再将支撑座13吊起，残留的水通过漏水孔20回流到水箱4中，具有很高的实用性。尽管已经示出和描述了本技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种单晶硅片清洗装置，包括横梁（1）、底座（2）和支撑座（13），其特征在于：所述底座（2）位于横梁（1）的正下方，所述底座（2）的顶部设有支腿（3），所述支腿（3）的顶部设有水箱（4），所述水箱（4）顶部开口设置，所述水箱（4）的底部安装有超声波发生器（5），所述水箱（4）内底部设有换能器（6），所述水箱（4）的右侧壁顶部连接有进水管（7），所述水箱（4）的右侧壁底部连接有出水管（8），所述支撑座（13）的中间设有钢丝网（16），所述钢丝网（16）的顶部设有存放壳体（17），所述存放壳体（17）上均匀的开设有存放槽（19），所述存放槽（19）的底部开设有漏水孔（20），所述支撑座（13）顶部的左右两侧对称设有支架（14），所述支架（14）的顶部设有起吊环（15），所述横梁（1）顶部的右侧安装有电机（9），所述横梁（1）上还设有卷筒架（10），所述卷筒架（10）上转动连接有卷筒（11），所述电机（9）输出端连接到卷筒（11），所述卷筒（11）上缠绕有钢丝绳（12），所述钢丝绳（12）的底端连接到起吊环（15）。

【技术特征摘要】
1.一种单晶硅片清洗装置，包括横梁（1）、底座（2）和支撑座（13），其特征在于：所述底座（2）位于横梁（1）的正下方，所述底座（2）的顶部设有支腿（3），所述支腿（3）的顶部设有水箱（4），所述水箱（4）顶部开口设置，所述水箱（4）的底部安装有超声波发生器（5），所述水箱（4）内底部设有换能器（6），所述水箱（4）的右侧壁顶部连接有进水管（7），所述水箱（4）的右侧壁底部连接有出水管（8），所述支撑座（13）的中间设有钢丝网（16），所述钢丝网（16）的顶部设有存放壳体（17），所述存放壳体（17）上均匀的开设有存放槽（19），所述存放槽（19）的底部开设有漏水孔（20），所述支撑座（13）顶部的左右两侧对称设有支架（14），所述支架（14）的顶部设有起吊环（15），所述横梁（1）顶部的右侧安装有电机（9），所述横梁（1）上还设有卷筒架（10），所述卷筒架（10）上转动连接有卷筒（11），所述电机（9）输出端连接到卷筒（11...

【专利技术属性】
技术研发人员：李秀春，
申请(专利权)人：福建鑫隆光伏科技有限公司，
类型：新型
国别省市：福建,35