Describes an apparatus, comprising: a first layer formed by the display of the spin orbit effect torque materials; the second layer, formed by the display of the spin orbit effect torque material; and the magnetic tunneling junction (MTJ), including the first free magnetic layer and the second free magnetic layer, wherein the first free magnetic layer is coupled to the first layer and the second free magnetic layer is coupled to the second layer.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有自旋轨道转矩效应的异或逻辑装置
技术介绍
异或(XOR)逻辑功能被广泛使用在处理器和存储器中。例如,XOR逻辑功能被使用于比较数字数据,以用于图像处理、安全操作、模式识别、存储器中的错误纠正等。能够使用如由图1的逻辑门100和图2的逻辑门200所分别示出的NAND逻辑门和NOR逻辑门来实现XOR逻辑功能。然而,典型的NAND逻辑门和NOR逻辑门是易失性逻辑门,在关闭对NAND逻辑门和NOR逻辑门的电力时它们丢失其输出值。附图说明从以下所给定的详细描述以及从本公开的各种实施例的附图将会更完整的理解本专利技术的实施例,然而,这不应该被当作是将本公开限制到具体实施例,而仅是用于解释和理解。图1图示使用NAND逻辑门所实现的典型XOR逻辑门。图2图示使用NOR逻辑门所实现的典型XOR逻辑门。图3A图示具有被耦合到自旋轨道效应材料的磁隧穿结(MTJ)的层的堆叠。图3B图示所述堆叠的顶视图。图4A图示根据本公开的一些实施例的采用被耦合到由自旋轨道效应(SOE)材料所形成的电极的互连和耦合在电极之间的MTJ而形成的非易失性1比特XOR逻辑。图4B图示根据本公开的一些实施例的图4A的非易失性1比特XOR逻辑的顶视图。图5A-D图示根据本公开的一些实施例的图4A的非易失性1比特XOR逻辑的操作模式。图6图示根据本公开的一些实施例的示出图4A的非易失性1比特XOR逻辑的动态响应的绘图。图7图示根据本公开的一些实施例的示出图4A的非易失性1比特XOR逻辑的逻辑操作的绘图。图8图示根据本公开的一些实施例的具有串联耦合非易失性1比特XOR逻辑单元的逻辑。图9图示根据本公开的一些实施例 ...
【技术保护点】
一种设备,包含:第一层,由展示自旋轨道转矩效应的材料所形成;第二层,由展示自旋轨道转矩效应的材料所形成;以及磁隧穿结(MTJ),包括第一自由磁层和第二自由磁层,其中所述第一自由磁层被耦合到所述第一层并且其中所述第二自由磁层被耦合到所述第二层。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种设备,包含:第一层,由展示自旋轨道转矩效应的材料所形成;第二层,由展示自旋轨道转矩效应的材料所形成;以及磁隧穿结(MTJ),包括第一自由磁层和第二自由磁层,其中所述第一自由磁层被耦合到所述第一层并且其中所述第二自由磁层被耦合到所述第二层。2.如权利要求1所述的设备,包含由非磁性材料所形成的、被耦合到所述第一层的第一互连,其中所述第一互连用来提供第一输入。3.如权利要求2所述的设备,包含由非磁性材料所形成的、被耦合到所述第二层的第二互连,其中所述第二互连用来提供第二输入。4.如权利要求3所述的设备,包含被耦合到所述第一层的第一电极。5.如权利要求4所述的设备,其中所述第一电极是被耦合到感测设备的输出电极。6.如权利要求4所述的设备,包含被耦合到所述第二层的第二电极。7.如权利要求6所述的设备,其中所述第一输入和所述第二输入用来提供流向所述第一层和所述第二层的正电流,以使所述第一自由磁层中的自旋电流的方向与所述第二自由磁层中的自旋电流的方向相反。8.如权利要求6所述的设备,其中所述第一输入和所述第二输入用来提供从所述第一层和所述第二层流走的负电流,以使所述第一自由磁层中的自旋电流的方向与所述第二自由磁层中的自旋电流的方向相反。9.如权利要求6所述的设备,其中所述第一输入和所述第二输入用来提供相对于彼此在不同方向上流动的电流,以使所述第一自由磁层中的自旋电流的方向与所述第二自由磁层中的自旋电流的方向相同。10.如权利要求1所述的设备,其中所述MTJ包括被耦合到至少两个自由磁层的绝缘体层。11.如权利要求1所述的设备,其中所述第一层和所述第二层以及所述MTJ一起提供异或逻辑功能。12.如权利要求1所述的设备,其中展示自旋轨道转矩效应的所述材料是自旋霍尔效应(SHE)材料。13.如权利要求12所述的设备,其中从下列中的一个或多个形成所述SHE材料:W、Ta、Pt、CuIr、具有高自旋轨道耦合的4d或5d金属。14.一种方法,包含:施加第一电荷流到被耦合到第一层的第一互连,所述第一层由展示自旋轨道转矩效应的材料所形成;施...
【专利技术属性】
技术研发人员:S马尼帕鲁尼,D尼科诺夫,IA扬,
申请(专利权)人:英特尔公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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