A method and system for providing ultra pure water for a semiconductor manufacturing operation are provided. Water is treated by using the free radical scavenging system. The free radical scavenging system can make use of the photochemical radiation of the free radical precursor compounds, such as ammonium persulfate. The ultra pure water can be further treated by the use of ion exchange medium and degassing device. The control system can be used to regulate the continuous variable intensity of the photochemical radiation.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用可变的灯配置提供超纯水的方法和系统相关申请的交叉引用本申请根据35U.S.C.§119(e)要求于2015年5月4日提交的题为“FLEXIBLEELECTRICALLAMPCONFIGURATIONFORANADVANCEDOXIDATIONPROCESS”的美国临时申请第62/156,487号以及于2015年5月12日提交的题为“VARIABLEINTENSITYLAMPFORANADVANCEDOXIDATIONPROCESS”的美国临时申请第62/160,128号的优先权,这些美国临时申请中的每个为了所有目的通过引用以其整体并入本文。背景本文公开的方面和实施方案涉及提供超纯水的系统和方法,并且特别地涉及减少或维持在制造半导体器件或其部件期间可以被使用的超纯水的污染物水平的系统和方法。概述一个或更多个方面涉及一种用于处理水的系统。该系统包括:主光化辐射反应器;过硫酸根前体化合物源,所述过硫酸根前体化合物源被设置成将至少一种过硫酸根前体化合物引入主光化辐射反应器中;总有机碳(TOC)浓度传感器,所述总有机碳浓度传感器位于主光化辐射反应器的上游;过硫酸根浓度传感器,所述过硫酸根浓度传感器位于主光化辐射反应器的下游;以及控制器,所述控制器被可操作地联接以接收来自TOC浓度传感器和过硫酸根浓度传感器中的至少一个的至少一个输入信号,并且以产生控制信号,所述控制信号至少部分地基于至少一个输入信号来调节在主光化辐射反应器中的光化辐射的连续可变强度。在一些实施方案中,该系统还包括位于主光化辐射反应器的上游的反渗透单元。在一些实施方案中,该系统还包括位于主光化辐射反应器 ...
【技术保护点】
一种用于处理水的系统,包括:主光化辐射反应器;过硫酸根前体化合物源,所述过硫酸根前体化合物源被设置成将至少一种过硫酸根前体化合物引入所述主光化辐射反应器中;总有机碳(TOC)浓度传感器,所述总有机碳浓度传感器位于所述主光化辐射反应器的上游;过硫酸根浓度传感器,所述过硫酸根浓度传感器位于所述主光化辐射反应器的下游;以及控制器,所述控制器被可操作地联接以接收来自所述TOC浓度传感器和所述过硫酸根浓度传感器中的至少一个的至少一个输入信号,并且产生控制信号,所述控制信号至少部分地基于所述至少一个输入信号来调节在所述主光化辐射反应器中的光化辐射的连续可变强度。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.05.04 US 62/156,487;2015.05.12 US 62/160,1281.一种用于处理水的系统,包括:主光化辐射反应器;过硫酸根前体化合物源,所述过硫酸根前体化合物源被设置成将至少一种过硫酸根前体化合物引入所述主光化辐射反应器中;总有机碳(TOC)浓度传感器,所述总有机碳浓度传感器位于所述主光化辐射反应器的上游;过硫酸根浓度传感器,所述过硫酸根浓度传感器位于所述主光化辐射反应器的下游;以及控制器,所述控制器被可操作地联接以接收来自所述TOC浓度传感器和所述过硫酸根浓度传感器中的至少一个的至少一个输入信号,并且产生控制信号,所述控制信号至少部分地基于所述至少一个输入信号来调节在所述主光化辐射反应器中的光化辐射的连续可变强度。2.如权利要求1所述的系统,还包括位于所述主光化辐射反应器的上游的反渗透单元。3.如权利要求1所述的系统,还包括位于所述主光化辐射反应器的下游的次级光化辐射反应器。4.如权利要求1所述的系统,还包括位于所述主光化辐射反应器的下游的颗粒过滤器。5.如权利要求1所述的系统,还包括位于所述主光化辐射反应器的下游的超滤装置。6.如权利要求1所述的系统,还包括至少一个单元操作,所述至少一个单元操作选自由热交换器、脱气器、颗粒过滤器、离子纯化装置和离子交换柱组成的组。7.如权利要求6所述的系统,其中所述离子交换柱位于所述TOC浓度传感器的上游。8.如权利要求1所述的系统,还包括位于所述主光化辐射反应器的上游的水源,所述主光化辐射反应器包括一个或更多个单元操作,所述一个或更多个单元操作选自由反渗透过滤器、电渗析设备、电去离子设备、蒸馏装置、离子交换柱及其组合组成的组。9.如权利要求8所述的系统,其中来自所述水源的水包含小于约25ppb的TOC。10.如权利要求1所述的系统,还包括位于所述主光化辐射反应器的下游的TOC浓度传感器。11.如权利要求1所述的系统,其中所述还原剂是二氧化硫。12.如权利要求1所述的系统,其中所述控制器还是可操作的以产生控制信号,所述控制信号调节所述过硫酸根前体化合物被引入所述主光化辐射反应器中的速率。13.如权利要求1所述的系统,其中所述主光化辐射反应器包括具有双侧电连接的紫外灯。14.如权利要求1所述的系统,其中具有所述双侧电连接的所述紫外灯包括与在所述灯的第一端上的第一电极的第一电连接、与在所述灯的所述第一端上的第二电极的第二电连接以及与在所述灯的第二端上的所述第二电极的第三电连接。15.如权利要求1所述的系统,还包括:还原剂源,所述还原剂源被设置成在所述主...
【专利技术属性】
技术研发人员:B·L·库尔特,克里斯多佛·霍尔,
申请(专利权)人:伊沃夸水处理技术有限责任公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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