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提供了为半导体制造操作提供超纯水的方法和系统。水通过利用自由基清除系统被处理。自由基清除系统可以利用采用自由基前体化合物例如过硫酸铵的光化辐射。可以通过利用离子交换介质和脱气装置进一步处理超纯水。可以利用控制系统来调节光化辐射的连续可变强度...
该专利属于伊沃夸水处理技术有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过伊沃夸水处理技术有限责任公司授权不得商用。

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