聚合物体系及包含同样物质的清洁组合物制造技术

本发明专利技术涉及包含阴离子聚合物和改性聚胺聚合物的稳定聚合物体系。当这些聚合物体系用于清洁组合物时，这些清洁组合物出乎意料地显示具有改善的抗污垢重新沉积能力和增白能力。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种聚合物体系，所述聚合物体系包含：Ａ．）阴离子聚合物，所述阴离子聚合物选自（ｉ）阴离子聚合物，所述阴离子聚合物包含：ａ．）第一部分，所述第一部分衍生自包含至少一个羧酸基团的单烯键不饱和Ｃ↓［３］－Ｃ↓［８］单体，这 些单体的盐，以及它们的混合物；和ｂ．）第二部分，所述第二部分选自下列物质：（１）衍生自改性的不饱和单体的部分，所述部分具有化学式Ｒ－Ｙ－Ｌ和Ｒ－Ｚ，其中：ｉ．）Ｒ选自Ｃ（Ｘ）Ｈ＝Ｃ（Ｒ↑［１］）－，其中Ｒ↑［ １］是Ｈ或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基；和Ｘ是Ｈ、ＣＯ↓［２］Ｈ或ＣＯ↓［２］Ｒ↓［２］，其中Ｒ↓［２］是氢、碱金属、碱土金属、铵和胺碱、饱和Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２０］烷基、Ｃ↓［６］－Ｃ↓［１２］芳基和Ｃ↓［７］－Ｃ↓［２０］烷基芳基 ；ｉｉ．）Ｙ选自－ＣＨ↓［２］－、－ＣＯ↓［２］－、－ＯＣＯ－和－ＣＯＮ（Ｒ↑［ａ］）－、－ＣＨ↓［２］ＯＣＯ－；其中Ｒ↑［ａ］是Ｈ或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基；ｉｉｉ．）Ｌ选自氢、碱金属、碱土金属、铵和胺碱、饱和Ｃ↓［１］ －Ｃ↓［２０］烷基、Ｃ↓［６］－Ｃ↓［１２］芳基和Ｃ↓［７］－Ｃ↓［２０］烷基芳基；和ｉｖ．）Ｚ选自Ｃ↓［６］－Ｃ↓［１２］芳基和Ｃ↓［７］－Ｃ↓［１２］芳烷基；和（２）具有所述化学式Ｊ－Ｇ－Ｄ的部分，其中：ｉ．）Ｊ 选自Ｃ（Ｘ）Ｈ＝Ｃ（Ｒ↓［１］）－，其中Ｒ↓［１］是Ｈ或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基；Ｘ是Ｈ、ＣＯ↓［２］Ｈ或ＣＯ↓［２］Ｒ↓［２］，其中Ｒ↓［２］是氢、碱金属、碱土金属、铵和胺碱、饱和的Ｃ↓［２］－Ｃ↓［２０］烷基、Ｃ↓［６］－Ｃ↓［１２］芳基、Ｃ↓［７］－Ｃ↓［２０］烷基芳基；ｉｉ．）Ｇ选自Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基、－Ｏ－、－ＣＨ↓［２］Ｏ－、－ＣＯ↓［２］－；ｉｉｉ．）Ｄ选自－ＣＨ↓［２］ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ↓［２］Ｏ（Ｒ↑［３］Ｏ）↓［ｄ］Ｒ↓［４ ］；－ＣＨ↓［２］ＣＨ［Ｏ（Ｒ↑［３］Ｏ）↓［ｄ］Ｒ↑［４］］ＣＨ↓［２］ＯＨ；－ＣＨ↓［２］ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ↓［２］ＮＲ↑［５］（Ｒ↑［３］Ｏ）↓［ｄ］Ｒ↑［４］；－ＣＨ↓［２］ＣＨ［ＮＲ↑［５］（Ｒ↑［３］Ｏ）↓ ［ｄ］Ｒ↑［４］］ＣＨ↓［２］ＯＨ，以及它们的混合物；其中Ｒ↑［３］选自乙烯、１，２－丙烯、１，３－丙烯、１，２－丁烯、１，４...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：拉斐尔奥尔蒂斯，杰弗里约翰沙伊贝尔，尤金史蒂文萨德洛夫斯基，韦罗妮克西尔维梅特罗，
申请(专利权)人：宝洁公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]