一种清洗大尺寸石英晶片的清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种清洗大尺寸石英晶片的清洗装置，它包括清洗槽以及设置在所述清洗槽内的超声波发生器，所述清洗槽内设有清洗架，所述清洗架连接有使所述清洗架上下往复运动的驱动装置，所述清洗架内放置有用于盛放石英晶片的物料架。该清洗大尺寸石英晶片的清洗装置具有省时省力、实用性强、清洗效率高和清洗效果好的优点。

A cleaning device for cleaning large size quartz wafers

The utility model provides a cleaning device for cleaning large size quartz wafer, which comprises a cleaning groove and is arranged in the cleaning groove of the ultrasonic generator, the cleaning tank is provided with a cleaning rack, the cleaning frame is connected with the cleaning shelf under the reciprocating motion of the driving device, the cleaning shelf is placed in the frame for the quartz wafer used for material. The cleaning device for cleaning large size quartz wafers has the advantages of time saving, power, high efficiency, high cleaning efficiency and good cleaning effect.

【技术实现步骤摘要】
一种清洗大尺寸石英晶片的清洗装置
本技术涉及清洗设备
，具体的说，涉及了一种清洗大尺寸石英晶片的清洗装置。
技术介绍
石英晶片经过研磨后需要将残留在石英晶片上的研磨砂清除掉，以保证石英晶片表面干净无污物。现行的作业方法是将石英晶片放在清洗框中，然后将清洗框浸泡在超声波清洗槽中。清洗时，清洗人员每隔1-2分钟会上下左右来回晃动清洗框将叠压在一起的石英晶片散开，从而将石英晶片表面清洗干净。该方法在清洗小尺寸石英晶片时效果较好，但在清洗大尺寸石英晶片时，由于石英晶片面积较大，质量较大，石英晶片粘连叠压现象比较严重。人工晃动清洗框的方法难以将石英晶片冲开，导致石英晶片的表面无法与清洗液有效接触，造成叠压在一起的石英晶片无法清洗干净。若加大晃动幅度又容易用力不均使大尺寸石英晶片破裂、缺角，产生不良品。为了解决以上存在的问题，人们一直在寻求一种理想的技术解决方案。
技术实现思路
本技术的目的是针对现有技术的不足，从而提供一种省时省力、实用性强、清洗效率高和清洗效果好的清洗大尺寸石英晶片的清洗装置。为了实现上述目的，本技术所采用的技术方案是：一种清洗大尺寸石英晶片的清洗装置，包括清洗槽以及设置在本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种清洗大尺寸石英晶片的清洗装置，包括清洗槽以及设置在所述清洗槽内的超声波发生器，其特征在于：所述清洗槽内设有清洗架，所述清洗架连接有使所述清洗架上下往复运动的驱动装置，所述清洗架内放置有用于盛放石英晶片的物料架。

【技术特征摘要】
1.一种清洗大尺寸石英晶片的清洗装置，包括清洗槽以及设置在所述清洗槽内的超声波发生器，其特征在于：所述清洗槽内设有清洗架，所述清洗架连接有使所述清洗架上下往复运动的驱动装置，所述清洗架内放置有用于盛放石英晶片的物料架。2.根据权利要求1所述的一种清洗大尺寸石英晶片的清洗装置，其特征在于：所述驱动装置包括驱动电机、传动凸轮和连杆，所述驱动电机位于所述清洗架的正下方，所述驱动电机的输出轴连接所述传动凸轮，所述连杆的一端安装在所述传动凸轮上，所述连杆的另一端安装在所述清洗架上。3.根据权利要求1所述的一种清洗大尺寸石英晶片的清洗装置，其特征在于：所述驱动装置包括气缸和安装在所述气缸伸缩轴上的连接杆，所述连接杆的另一端固定在所述清洗架上。4.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：李健，李渐进，崔素芝，
申请(专利权)人：济源石晶光电频率技术有限公司，
类型：新型
国别省市：河南,41