【技术实现步骤摘要】
技术背景本专利技术涉及从烃液体和气体中除去污染物。更特别地，本专利技术涉及使用氧化铜吸附剂从天然气流中除去硫和汞。流体流，如烃液体和气体，如天然气，常常被硫化合物和其它污染物(例如单质汞)污染。负载的金属硫化物，例如硫化铜CuS，是用于从流体中除汞的已知清除剂。例如，US 4,094,777描述了作为气体或液体中的汞的吸收剂的含有载体和硫化铜的固体。Axens，JMC等提供了用在天然气和烃工业中的CuS基除汞材料。但是，需要更有效的汞吸收剂，尤其是在无硫流体和在进料中存在还原剂(例如氢)的情况下。专利技术概要本专利技术提供了一种净化天然气进料流的方法，所述天然气进料流含有至少一种硫污染物和至少一种汞污染物，该方法通过使进料流通过包含负载在载体上的金属氧化物吸附剂的吸附剂床实现净化。氧化铜是优选吸附剂。本专利技术使用负载在具有高BET表面积的氧化铝载体上的金属氧化物，例如氧化铜，而硫化合物(优选硫化氢)始终以超过进料中Hg浓度的浓度(为Hg浓...
【技术保护点】
净化天然气进料流的方法，所述天然气进料流含有至少一种硫污染物和至少一种汞污染物，所述方法包括使所述进料流穿过包含吸附剂的吸附剂床，所述吸附剂包含负载在载体上的金属氧化物。
【技术特征摘要】
US 2007-12-13 11/955,4701.净化天然气进料流的方法，所述天然气进料流含有至少一种硫污染
物和至少一种汞污染物，所述方法包括使所述进料流穿过包含吸附剂的吸
附剂床，所述吸附剂包含负载在载体上的金属氧化物。
2.权利要求1的方法，其中所述金属氧化物是氧化铜。
3.权利要求1的方法，其中所述吸附剂包含5至65％的氧化铜。
4.权利要求1的方法，其中所述吸附剂包含10至40％的氧化铜。
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