一种阻隔膜制造技术

本发明专利技术涉及一种光学用薄膜，尤其涉及一种光学用阻隔膜及其制备方法。为了降低阻隔膜制备工艺的复杂性和降低生产成本，本发明专利技术提供一种阻隔膜及其制备方法。所述阻隔膜包括基材层和阻隔层，所述阻隔层包括第一阻隔层和第二阻隔层；所述第一阻隔层在基材层的上表面，第二阻隔层在第一阻隔层的上表面。所述阻隔层在紫外光固化作用下分层得到第一阻隔层和第二阻隔层。本发明专利技术提供的阻隔膜具有较高的单层水氧透过率以及高阻隔性，广泛应用于液晶显示设备，能够更好的保护显示设备，提高显示器的使用寿命。本发明专利技术提供的阻隔膜的制备方法降低了工艺的复杂性，制备过程不需要真空环境，工艺简单，便于操作，提高生产良率。

A kind of diaphragm and its preparation method

The present invention relates to a kind of optical film, in particular to an optical barrier diaphragm and a preparation method. In order to reduce the complexity of the preparation process of the barrier film and reduce the production cost, the invention provides a barrier diaphragm and a preparation method. The barrier membrane comprises a base layer and a barrier layer, and the barrier layer comprises a first barrier layer and a second barrier layer. The first barrier layer is on the upper surface of the base material layer, and the second barrier layer is on the upper surface of the first barrier layer. The barrier layer is layered to get the first barrier layer and the second barrier layer under UV curing. The barrier membrane provided by the invention has high single layer water oxygen permeability and high barrier property, and is widely applied to liquid crystal display devices, which can better protect the display device and improve the service life of the display. The preparation method of the barrier film reduces the complexity of the process, and the preparation process does not require vacuum environment, and is simple in technology, convenient for operation and improving production yield.

【技术实现步骤摘要】
一种阻隔膜及其制备方法
本专利技术涉及一种光学用薄膜，尤其涉及一种光学用阻隔膜及其制备方法。
技术介绍
传统LED背光液晶的色域只有70％NTSC，色彩表现力一般。如今电子设备开始采用量子点膜技术和OLED技术，极大的提高色域，达到100％全色域甚至更高，显示更加明亮，色彩更加丰富多彩。OLED和量子点对环境中的水汽和氧气非常敏感，容易发生衰减，最直接有效的方法是将其与空气中的水氧阻隔起来。阻隔膜的阻隔性，对量子点和OLED显示设备的使用性能和寿命至关重要。目前，阻隔膜主要采用PVD或PECVD的方法制备而成，一般需要达到较高的真空度之后，通过电压将靶材上的原子击出后，沉积在基材的表面，这种制备方法对环境的要求非常高，工艺复杂性高且具有较高的成本。在非真空环境下制备阻隔层，并保证阻隔膜的阻隔性，将极大的提高生产效率，减少工艺的复杂性，提高产品的得率和良率。
技术实现思路
为了降低阻隔膜制备工艺的复杂性和降低生产成本，本专利技术提供一种阻隔膜及其制备方法。本专利技术提供的阻隔膜包括基材层和阻隔层，所述阻隔层包括第一阻隔层和第二阻隔层；所述第一阻隔层在基材层的上表面，第二阻隔层在第一阻隔层的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阻隔膜，其特征在于，所述阻隔膜包括基材层和阻隔层，所述阻隔层包括第一阻隔层和第二阻隔层，所述第一阻隔层在基材层的上表面，第二阻隔层在第一阻隔层的上表面。

【技术特征摘要】
1.一种阻隔膜，其特征在于，所述阻隔膜包括基材层和阻隔层，所述阻隔层包括第一阻隔层和第二阻隔层，所述第一阻隔层在基材层的上表面，第二阻隔层在第一阻隔层的上表面。2.根据权利要求1所述的阻隔膜，其特征在于，所述阻隔层在紫外光固化作用下分层得到第一阻隔层和第二阻隔层。3.根据权利要求1所述的阻隔膜，其特征在于，所述基材层为透明高分子薄膜，第一阻隔层为硅氧氮化合物(SiONx)，第二阻隔层为硅氧化合物(SiOx)。4.根据权利要求1所述的阻隔膜，其特征在于，所述基材层的厚度为50-150μm，第一阻隔层的厚度为100-500nm，第二阻隔层的厚度为50-200nm。5.根据权利要求1所述的阻隔膜，其特征在于，所述基材层的材料选自聚乙烯(PE)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚偏氯乙烯(PVDF)和聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)中的一种。6.根据权利要求1所述的阻隔膜，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：张克然，
申请(专利权)人：宁波安特弗新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33