一种超高性能水氧气阻隔膜及其制备方法技术

技术编号:43657645 阅读:32 留言:0更新日期:2024-12-13 12:49
本发明专利技术实施例提供一种超高性能水氧气阻隔膜及其制备方法。超高性能水氧气阻隔膜自下而上依次包括高分子聚合物基材、预处理层、第一无机阻隔层、有机阻隔层和第二无机阻隔层。本发明专利技术的超高性能水氧气阻隔膜能够提高对水氧的阻隔性能,并能够改善透光率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学用薄膜,尤其是涉及一种超高性能水氧气阻隔膜及其制备方法


技术介绍

1、新一代显示、照明、光伏等柔性电子器件,因独特的可弯折性及可以卷对卷连续生产等特性,在信息、能源、医疗、国防等领域具有广泛的应用前景。其中以有机薄膜太阳能电池(opvs)、有机电致发光二极管(oled)、量子点显示为代表。有机薄膜太阳能电池凭借成本低、耗材少、质量轻、可弯曲、可大面积成膜、便于携带和运输等显著特点,逐渐成为取代传统晶硅太阳能电池的最佳选择。但柔性电子器件直接暴露在大气环境下使用时,其电极材料、有机聚合物等组件受空气中水汽、氧气影响会很快失效,必须使用具有水氧阻隔性能的封装膜进行有效封装,以确保器件高效、稳定工作,延长使用寿命。有机发光材料对水氧极其敏感,由水氧泄漏、界面扩散引起的像素黑化、堆积等缺陷,会导致器件功能退化、失效。水氧气阻隔膜对柔性电子器件的使用性能和寿命至关重要。

2、中国专利申请cn114515682a公开一种柔性透明超低水汽透过率阻隔膜及其制备方法,包括自下而上依次复合的有机柔性衬底、一层或多层具有褶皱形貌的隔水隔氧薄膜、有本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种超高性能水氧气阻隔膜,其特征在于,所述超高性能水氧气阻隔膜自下而上依次包括高分子聚合物基材、预处理层、第一无机阻隔层、有机阻隔层和第二无机阻隔层。

2.根据权利要求1所述的超高性能水氧气阻隔膜,其特征在于,所述高分子聚合物基材为透明的基材,所述基材的厚度为50-200μm。

3.根据权利要求1所述的超高性能水氧气阻隔膜,其特征在于,所述高分子聚合物基材包括:聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜和聚碳酸酯薄膜中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的超高性能水氧气阻隔膜,其特征在于,所述预处理层为丙烯酸酯硬化涂层,所述预处理层的厚度为1...

【技术特征摘要】

1.一种超高性能水氧气阻隔膜,其特征在于,所述超高性能水氧气阻隔膜自下而上依次包括高分子聚合物基材、预处理层、第一无机阻隔层、有机阻隔层和第二无机阻隔层。

2.根据权利要求1所述的超高性能水氧气阻隔膜,其特征在于,所述高分子聚合物基材为透明的基材,所述基材的厚度为50-200μm。

3.根据权利要求1所述的超高性能水氧气阻隔膜,其特征在于,所述高分子聚合物基材包括:聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜和聚碳酸酯薄膜中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的超高性能水氧气阻隔膜,其特征在于,所述预处理层为丙烯酸酯硬化涂层,所述预处理层的厚度为1-5μm。

5.根据权利要求1所述的超高性能水氧气阻隔膜,其特征在于,所述第一无机阻隔层和所述第二无机阻隔层分别采用真空磁控溅射工艺形成。

6.根据权利要求1所述的超高性能水氧气阻隔膜,其特征在于,所述第一无机阻隔层和/或所述第二无机阻隔层分别为siox涂层、sixny涂层和al2o3涂层中的一种或至少两种的层叠体。

7.根据权利要求1所述的超高性能水氧气阻隔膜,其特征在于,所述第一无机阻隔层和所述第二无机阻隔层的厚度分别为10-200nm。

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【专利技术属性】
技术研发人员:张克然吴文博谷文翠
申请(专利权)人:宁波安特弗新材料科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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