光学元件超声刻蚀装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种光学元件超声刻蚀装置，刻蚀液存贮箱通过输液导管与刻蚀液循环槽相连，刻蚀液循环槽和刻蚀反应槽由隔板隔开，刻蚀液循环槽与刻蚀反应槽之间通过两根循环导管相连，且循环导管上均设有微型循环泵；刻蚀反应槽底部安有超声波发生器；温度传感器置于刻蚀反应槽内并与溶液接触，温度传感器连接微控制器，微控制器输出端分别连接第一电机和第二电机，两个电机分别控制各自的微型循环泵的运行；多功能夹具置于刻蚀反应槽中上部，多功能夹具侧面通过夹具导向条与刻蚀反应槽内隔板的内隔板导向槽配合连接。该装置结构简单、操作方便，确保超声刻蚀过程中溶液温度的恒定和溶液的密封性，可有效提升光学元件超声刻蚀实验的稳定性和安全性。

Optical element ultrasonic etching device

The invention relates to an optical element ultrasonic etching device, etching liquid storage tank is connected with the infusion catheter etching liquid circulation tank through the etching liquid circulation tank and the etching reaction tank is composed of clapboard between the etching liquid circulation tank and the etching reaction tank is connected by two circular duct, and circulation duct are arranged on the micro circulation pump; etching the reaction tank bottom is provided with an ultrasonic generator; the temperature sensor is arranged on the etching reaction tank and contact with the solution, the temperature sensor is connected with the microcontroller, the microcontroller output terminals are respectively connected with the first motor and the second motor, respectively control the micro circulation pump two respective electric machine operation; upper multifunctional fixture in the etching reaction tank, multi function the side clamp is connected by matching the baffle in the guide groove clamp guide bar and etching reaction tank plate. The device is simple in structure and easy to operate. It ensures the constant temperature of solution and the sealing ability of the solution during ultrasonic etching. It can effectively improve the stability and safety of ultrasonic etching experiments for optical elements.

【技术实现步骤摘要】
光学元件超声刻蚀装置
本专利技术涉及一种超声刻蚀装置，尤其是一种光学元件超声刻蚀装置，属于光学元件超声刻蚀

技术介绍
在激光聚变装置中，光学元件的激光损伤已成为限制高能激光系统输出功率和使用寿命的主要“瓶颈”。见王洪祥沈璐,李成福,白桦,周岩.光学元件激光诱导损伤分析及实验研究[J].中国激光,2017,44(3):0302006。研究表明，光学元件在抛光加工中引入的金属杂质和亚表面缺陷是诱发元件激光损伤的主要因素，化学刻蚀技术由于其能够溶解元件表面富含吸收性杂质的水解层，同时去除元件表面/亚表面划痕和微裂纹等缺陷，已成为消除激光损伤诱因的一种常用方法。如袁志刚,李亚国,陈贤华,徐曦,赵世杰,周炼.光学元件改性处理对激光损伤阈值的影响[J].光学精密工程,2016,24(12):2956-2961。此外，在化学刻蚀过程中引入超声波能够（1）加快刻蚀液的运动，达到溶液搅拌的作用，从而促进杂质和亚表面缺陷的去除效率；（2）提高反应生成物的传输速率，减少刻蚀反应物的沉积和附着。因此，超声刻蚀能够更加有效地去除元件表面杂质和表面/亚表面缺陷等损伤诱因，已成为提高光学元件抗激光损伤能本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学元件超声刻蚀装置，包括刻蚀液存贮箱(1)、刻蚀液循环槽(2)、刻蚀反应槽(3)、输液导管(6)、输液开关(7)、支架(8)、底座(9)、控制键盘(10)、温度显示器(11)、微控制器(12)、隔板(13)、微型循环泵(18)、超声波发生器(19)、温度传感器(20)、第一电机(21)、第二电机(22)、多功能夹具(25)以及存储在刻蚀液存贮箱(1)、刻蚀液循环槽(2)和刻蚀反应槽(3)内的刻蚀溶液(4)，其特征在于：所述刻蚀液存贮箱(1)通过输液导管(6)与刻蚀液循环槽(2)相连，输液导管(6)上设有输液开关(7)；控制键盘(10)、温度显示器(11)和微控制器(12)均安装在支架(8...

【技术特征摘要】
1.一种光学元件超声刻蚀装置，包括刻蚀液存贮箱(1)、刻蚀液循环槽(2)、刻蚀反应槽(3)、输液导管(6)、输液开关(7)、支架(8)、底座(9)、控制键盘(10)、温度显示器(11)、微控制器(12)、隔板(13)、微型循环泵(18)、超声波发生器(19)、温度传感器(20)、第一电机(21)、第二电机(22)、多功能夹具(25)以及存储在刻蚀液存贮箱(1)、刻蚀液循环槽(2)和刻蚀反应槽(3)内的刻蚀溶液(4)，其特征在于：所述刻蚀液存贮箱(1)通过输液导管(6)与刻蚀液循环槽(2)相连，输液导管(6)上设有输液开关(7)；控制键盘(10)、温度显示器(11)和微控制器(12)均安装在支架(8)上，支架(8)设于底座(9)上，刻蚀液循环槽(2)和刻蚀反应槽(3)置于支架(8)正下方且呈左右放置，刻蚀液循环槽(2)和刻蚀反应槽(3)之间由隔板(13)隔开，隔板(13)底部设有一个连通口(14)，连通口(14)由槽外安置的连通开关(15)控制其开闭状态；刻蚀液循环槽(2)与刻蚀反应槽(3)之间由两根循环导管(16)相连，且循环导管(16)上均设有微型循环泵(18)；刻蚀反应槽(3)底部安有超声波发生器(19)，超声波发生器(19)与控制键盘(10)连接；温度传感器(20)置于刻蚀反应槽(3)内并与刻蚀溶液(4)接触，温度显示器(11)与温度传感器(20)电连接，温度传感器(20)信号输出端连接微控制器(12)信号输入端，微控制器(12)输出端分别连接第一电机(21)和第二电机(22)，第一电机(21)和...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶卉，姜晨，汪中厚，
申请(专利权)人：上海理工大学，
类型：发明
国别省市：上海,31