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本发明涉及一种光学元件超声刻蚀装置，刻蚀液存贮箱通过输液导管与刻蚀液循环槽相连，刻蚀液循环槽和刻蚀反应槽由隔板隔开，刻蚀液循环槽与刻蚀反应槽之间通过两根循环导管相连，且循环导管上均设有微型循环泵；刻蚀反应槽底部安有超声波发生器；温度传感器置...
该专利属于上海理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海理工大学授权不得商用。

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