一种石墨烯-六方氮化硼异质结构材料的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种石墨烯‑六方氮化硼异质结构材料的制备方法。包括以下步骤：将有机小分子溶于溶剂A得到澄清透明溶液；加入鳞片石墨粉末，搅拌反应收集上悬液，过滤干燥，得到少层石墨烯；得到澄清透明溶液；加入六方氮化硼粉末，搅拌反应收集上悬液，过滤干燥，得到少层六方氮化硼纳米片；将上述少层石墨烯和少层六方氮化硼纳米片分散于溶剂B中得到混合溶液；将所得混合溶液超声处理，再搅拌，离心，弃去上层液，得到石墨烯‑六方氮化硼异质结构材料。本发明专利技术采用的一种新型化学液相剥离法制备了graphene和h‑BN纳米片，这种简单、有效的制备新方法目前未有报道，进而为类石墨烯二维材料的大规模制备提供了新的研究思路和技术方案。

A method for preparing graphene six boron nitride heterostructures

The invention discloses a method for preparing graphene six boron nitride heterostructures. Includes the following steps: small molecule organic solvent soluble A obtained clear and transparent solution; adding graphite powder, stirring collection suspension, filtration and drying, get a few layers graphene; get transparent solution; adding six boron nitride powder, stirring collection suspension, filtration and drying, get less layer six boron nitride nanosheets; the few layer graphene and few layer six boron nitride nanosheets dispersed in solvent B mixed solution; the mixed solution obtained ultrasonic treatment, stirring, centrifugal, discard the upper liquid, graphene six boron nitride heterostructure materials. Graphene and H BN nanosheets were prepared by a new chemical liquid provided by the invention, the separation, a new method of preparation of this simple and effective at present no reports, and large-scale production of graphene for two-dimensional material provides research ideas and new technical solutions.

【技术实现步骤摘要】
一种石墨烯-六方氮化硼异质结构材料的制备方法
本专利技术涉及二维纳米材料制备
，尤其涉及一种石墨烯-六方氮化硼异质结构材料的制备方法。
技术介绍
石墨烯(graphene)作为二维材料的典型代表一直是近年来的研究热点，备受研究者青睐，其具有特殊的狄拉克电子性质、高的载流子迁移速率，优异的导热和机械性能，已得到了科学界青睐。然而，石墨烯是零带隙材料，其导带和价带交叉点正处在狄拉克点。因此，要实现石墨烯在电子设备中的应用所面临的首要问题便是带隙的缺乏。为了解决这一问题，研究者提出了许多可以打开石墨烯带隙的方法，其中包括石墨烯纳米带、纳米网的制备和石墨烯的化学改性。但是物理蚀刻或化学反应将不可避免地在石墨烯的边缘或周围引入杂质，并显著降低石墨烯载流子迁移速率。六方氮化硼(hexagonalBoronNitride，h-BN)因为具有类似石墨烯的层状晶体结构也被称为“白色石墨烯”或者“石墨氮化硼”，由相等数目的B原子和N原子以sp2杂化的方式形成蜂巢状晶格，晶格常数为0.25nm，带隙为5.9eV。h-BN的多层结构中层与层之间存在着微弱的范德瓦尔斯力，且堆垛方式为AB排列。h-BN突本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种石墨烯‑六方氮化硼异质结构材料的制备方法，其特征在于包括以下步骤：(1)少层石墨烯的制备：将有机小分子溶于溶剂A得到澄清透明溶液；加入鳞片石墨粉末，搅拌反应8～24h，得到分散液；将所得分散液以3000～5000rpm离心，收集上悬液，过滤所得滤饼在80～100℃真空干燥，得到少层石墨烯；(2)六方氮化硼纳米片的制备：将有机小分子溶于溶剂A得到澄清透明溶液；加入六方氮化硼粉末，搅拌反应8～24h，得到分散液；将所得分散液以5000～8000rpm离心，收集上悬液，过滤所得滤饼在80～100℃真空干燥，得到少层六方氮化硼纳米片；(3)石墨烯‑六方氮化硼异质结构材料的制备：将上述少层石墨烯和少...

【技术特征摘要】
1.一种石墨烯-六方氮化硼异质结构材料的制备方法，其特征在于包括以下步骤：(1)少层石墨烯的制备：将有机小分子溶于溶剂A得到澄清透明溶液；加入鳞片石墨粉末，搅拌反应8～24h，得到分散液；将所得分散液以3000～5000rpm离心，收集上悬液，过滤所得滤饼在80～100℃真空干燥，得到少层石墨烯；(2)六方氮化硼纳米片的制备：将有机小分子溶于溶剂A得到澄清透明溶液；加入六方氮化硼粉末，搅拌反应8～24h，得到分散液；将所得分散液以5000～8000rpm离心，收集上悬液，过滤所得滤饼在80～100℃真空干燥，得到少层六方氮化硼纳米片；(3)石墨烯-六方氮化硼异质结构材料的制备：将上述少层石墨烯和少层六方氮化硼纳米片分散于溶剂B中得到混合溶液；将所得混合溶液超声处理，再搅拌8-24h后以1000～3000rpm离心，弃去上层液，得到固体沉淀，即为石墨烯-六方氮化硼异质结构材料。2.如权利要求1所述石墨烯-六方氮化硼异质结构材料的制备方法，其特征在于所述鳞片石墨粉末粒径≤45um；所述六方氮化硼粉末粒径≤2um；所述少层≤10单原子层。3.如权利要求1所述石墨烯-六方氮化硼异质结构材料的制备方法，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：熊传溪，郑譞，杨全玲，
申请(专利权)人：武汉理工大学，
类型：发明
国别省市：湖北,42