【技术实现步骤摘要】
对准装置及对准方法相关分案申请本申请案是专利技术名称为“图案形成装置及图案形成方法、以及对准装置及对准方法”、申请号为201410060525.4的专利技术专利申请案的分案申请,原申请案的申请日是2014年02月21日。
本专利技术涉及一种对于以彼此的主面邻近对向的方式保持的两个物体进行位置对准的技术,尤其涉及一种对准装置及对准方法。
技术介绍
存在如下所述的
:将两个物体以使它们的主面彼此邻近对向的状态且以规定的位置关系予以配置。例如作为在玻璃(galss)基板或半导体基板等基板形成图案(pattern)的技术,例如有如专利文献1中所记载般,使承载图案的承载体密接于被转印体(基板)而转印图案的技术。在这种转印技术中,为了适当地管理向被转印体的图案转印位置,转印前的承载体与被转印体的位置对准变得重要。作为这种用于两个物体的位置对准的技术,例如有专利文献2至专利文献4中所记载的技术。在这些技术中,在使分别预先形成着对准标记(alignmentmark)的两个物体(承载体及被转印体)邻近对向配置的状态下,利用相机拍摄这些对准标记。然后,根据图像内的对准标记的位置 ...
【技术保护点】
一种对准装置,其特征在于,包括:第一保持设备,保持形成着第一对准标记且具有光透过性的第一板状体,可使所述第一板状体在与其主面平行的方向移动;第二保持设备,使形成着第二对准标记的第二板状体保持相对于所述第一板状体平行且隔着规定的间隙而邻近对向的状态,可使所述第二板状体在与其主面平行的方向移动;主拍摄设备,相对于所述第一板状体,以光轴与所述第一板状体的主面正交的方式配置在与所述第二板状体为相反侧的一侧,拍摄所述第一板状体及所述第二板状体;以及副拍摄设备,相对于所述第一板状体设置在与所述第二板状体为相反侧的一侧,以比所述主拍摄设备的拍摄范围更广泛的拍摄范围对所述第一板状体及所述第 ...
【技术特征摘要】
2013.02.25 JP 2013-034857;2013.02.25 JP 2013-034851.一种对准装置,其特征在于,包括:第一保持设备,保持形成着第一对准标记且具有光透过性的第一板状体,可使所述第一板状体在与其主面平行的方向移动;第二保持设备,使形成着第二对准标记的第二板状体保持相对于所述第一板状体平行且隔着规定的间隙而邻近对向的状态,可使所述第二板状体在与其主面平行的方向移动;主拍摄设备,相对于所述第一板状体,以光轴与所述第一板状体的主面正交的方式配置在与所述第二板状体为相反侧的一侧,拍摄所述第一板状体及所述第二板状体;以及副拍摄设备,相对于所述第一板状体设置在与所述第二板状体为相反侧的一侧,以比所述主拍摄设备的拍摄范围更广泛的拍摄范围对所述第一板状体及所述第二板状体进行拍摄;且基于所述副拍摄设备的拍摄结果,所述第一保持设备使所述第一板状体移动定位在所述第一对准标记处于所述主拍摄设备的拍摄范围的位置,另一方面,基于所述副拍摄设备的拍摄结果,所述第二保持设备使所述第二板状体移动定位在所述第二对准标记处于所述主拍摄设备的拍摄范围的位置,在所述间隙的大小被维持的状态下,进而,基于在同一视场内拍摄的包含所述第一对准标记及所述第二对准标记的所述主拍摄设备的拍摄结果,所述第一保持设备及所述第二保持设备中的至少一者使所述第一板状体与所述第二板状体的相对位置变化,以使所述第二对准标记相对于所述第一对准标记的相对位置成为预先规定的目标位置。2.根据权利要求1所述的对准装置,其特征在于:所述副拍摄设备的光轴与所述第一板状体的主面斜交。3.根据权利要求1或2所述的对准装置,其特征在于:配置所述主拍摄设备及所述副拍摄设备,在所述第二板状体的主面,以使所述副拍摄设备的拍摄范围包含所述主拍摄设备的拍摄范围的至少一部分。4.根据权利要求1或2所述的对准装置,其特征在于:所述主拍摄设备包括倍率固定的放大光学系统。5.根据权利要求1或2所述的对准装置,其特征在于:所述主拍摄设备具有高于所述副...
【专利技术属性】
技术研发人员:川越理史,増市干雄,上野博之,上野美佳,谷口和隆,正司和大,芝藤弥生,田中哲夫,陶山武史,
申请(专利权)人:斯克林集团公司,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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