一种防堵塞的真空吸附台用栓塞结构制造技术

技术编号:16739904 阅读:64 留言:0更新日期:2017-12-08 14:44
本发明专利技术公开了一种防堵塞的真空吸附台用栓塞结构,包括:栓塞本体和活动件,其中:栓塞本体内部设有腔室,腔室具有第一气口和第二气口,第一气口处安装有过滤网;活动件由磁性材料制作而成,活动件活动安装在腔室内,并与第一气口、第二气口处于同一直线上,且当活动件靠近第二气口的一侧与腔室的内壁抵靠时,活动件对第二气口形成封堵,当活动件靠近第二气口的一侧与腔室的内壁之间形成间隙时,第二气口与第一气口导通。本发明专利技术与真空吸附台配合使用,可以使机器可以连贯运行,既可以提高了加工效率,又可以有效避免工件因机器停顿产生的接头,使工件加工的精度更高,且可以防止木屑和粉尘掉落到栓塞内部,使得该栓塞结构寿命大大延长。

【技术实现步骤摘要】
一种防堵塞的真空吸附台用栓塞结构
本专利技术涉及加工设备
,尤其涉及一种防堵塞的真空吸附台用栓塞结构。
技术介绍
真空吸附台面主要利用真空吸附的能力对放置在其上的工件进行固定,在真空吸附台面上,每个区域的通气孔预先用栓塞堵着,在需要用时人为拔除,以使气体流向台面,再利用吸盘对工件进行转移。这种操作方式极为不便,且在拔出栓塞的过程中,机器加工运行需暂停,使得机器运行不连贯,影响其加工效率。
技术实现思路
基于上述
技术介绍
存在的技术问题,本专利技术提出一种防堵塞的真空吸附台用栓塞结构。本专利技术提出了一种防堵塞的真空吸附台用栓塞结构,包括:栓塞本体和活动件,其中:栓塞本体内部设有腔室,腔室具有第一气口和第二气口,所述第一气口、第二气口位于同一直线上,第一气口处安装有过滤网;活动件由磁性材料制作而成,活动件活动安装在腔室内,并与第一气口、第二气口处于同一直线上,且当活动件靠近第二气口的一侧与腔室的内壁抵靠时,活动件对第二气口形成封堵,当活动件靠近第二气口的一侧与腔室的内壁之间形成间隙时,第二气口与第一气口导通。优选地,活动件靠近第二气口的一侧设有与第二气口同轴布置的环槽,该环槽的内径大于第二气口的内径,该环槽内安装有密封圈。优选地,腔室内壁且第二气口的外周设有与第二气口同轴布置的密封槽,该密封槽的内径与环槽的内径相同,且当活动件靠近第二气口的一侧与腔室的内壁抵靠时,所述密封圈远离环槽的一侧卡入该密封槽内。优选地,腔室为柱形腔。优选地,活动件包括柱形座和柱形磁铁;所述柱形座的一端设有向其另一端延伸的插孔,柱形座外周设有多个环形均布的输送通道,各输气通道均沿柱形座轴线方向延伸;柱形座竖直布置在第一气口和第二气口之间,并使柱形座的外周面与腔室的内壁滑动配合,使柱形座上的插孔位于靠近第一气口的一侧;所述柱形磁铁插入插孔内并固定。优选地,环槽设置在柱形座远离其插孔的一端。优选地,腔室为锥形腔;所述第二气口位于锥形腔的小口端,第一气口位于锥形腔的大口端。优选地,活动件为锥形柱,锥形柱最大端朝向第一气口,其最小端朝向第二气口,且当锥形柱对第二气口形成封堵时,锥形柱的最大端与第一气口之间具有间距。优选地,第一气口远过离滤网的一侧安装有压环。优选地,栓塞本体包括上下布置并一体成型的柱形部和锥形部,所述柱形部的外壁设有环形凹槽;所述锥形部的外壁设有螺纹。本专利技术中,通过在栓塞本体内部设置腔室,在腔室上设置第一气口和第二气口,并使由磁性材料制作而成的活动件设置在第一气口、第二气口之间,并使活动件靠近第二气口的一侧与腔室的内壁抵靠时,活动件对第二气口形成封堵,使该活动件靠近第二气口的一侧与腔室的内壁之间形成间隙时,第二气口与第一气口导通。使用时,将该活动件安装在真空吸附台面上的通气孔处,并使第一气口朝上,第二气口朝向,当吸盘移至真空栓塞所在位置时,由于吸盘的底座由钢材制作而成,使得活动件在磁力的作用向上移动,进而使得活动件与腔室底部之间形成间隙,第一气口与第二气口连通;当吸盘底座移除后,磁力消失,活动件在重力作用下回落,重新对进气形成封堵。同时,通过在第一气口处设置过滤网,可以有效防止木屑和粉尘掉落到栓塞内部。综上所述,本专利技术提出的一种防堵塞的真空吸附台用栓塞结构,与真空吸附台配合使用,可以使机器可以连贯运行,既可以提高了加工效率,又可以有效避免工件因机器停顿产生的接头,使工件加工的精度更高,且可以防止木屑和粉尘掉落到栓塞内部,使得该栓塞结构寿命大大延长。附图说明图1为本专利技术提出的一种防堵塞的真空吸附台用栓塞结构的结构示意图;图2为本专利技术提出的一种防堵塞的真空吸附台用栓塞结构中所述过滤网的结构示意图;图3为本专利技术提出的一种防堵塞的真空吸附台用栓塞结构中所述柱形座的俯视图。具体实施方式下面,通过具体实施例对本专利技术的技术方案进行详细说明。如图1-3所示,图2为本专利技术提出的一种防堵塞的真空吸附台用栓塞结构中所述过滤网的结构示意图;图3为本专利技术提出的一种防堵塞的真空吸附台用栓塞结构中所述柱形座的俯视图。参照图1-3,本专利技术实施例提出的一种防堵塞的真空吸附台用栓塞结构,包括:栓塞本体1和活动件2,其中:栓塞本体1内部设有腔室,腔室具有第一气口101和第二气口102,所述第一气口101、第二气口102位于同一直线上,第一气口101处安装有过滤网3,第一气口101远过离滤网3的一侧安装有压环5。活动件2由磁性材料制作而成,活动件2活动安装在腔室内,并与第一气口101、第二气口102处于同一直线上,且当活动件2靠近第二气口102的一侧与腔室的内壁抵靠时,活动件2对第二气口102形成封堵,当活动件2靠近第二气口102的一侧与腔室的内壁之间形成间隙时,第二气口102与第一气口101导通。本专利技术通过在栓塞本体1内部设置腔室,在腔室上设置第一气口101和第二气口102,并使由磁性材料制作而成的活动件2设置在第一气口101、第二气口102之间,并使活动件2靠近第二气口102的一侧与腔室的内壁抵靠时,活动件2对第二气口102形成封堵,使该活动件2靠近第二气口102的一侧与腔室的内壁之间形成间隙时,第二气口102与第一气口101导通。使用时,将该活动件2安装在真空吸附台面上的通气孔处,并使第一气口101朝上,第二气口102朝向,当吸盘移至真空栓塞所在位置时,由于吸盘的底座由钢材制作而成,使得活动件2在磁力的作用向上移动,进而使得活动件2与腔室底部之间形成间隙,第一气口101与第二气口102连通;当吸盘底座移除后,磁力消失,活动件2在重力作用下回落,重新对进气形成封堵。同时,通过在第一气口101处设置过滤网3,可以有效防止木屑和粉尘掉落到栓塞内部。本实施例中,腔室为柱形腔,活动件2包括柱形座21和柱形磁铁22;所述柱形座21的一端设有向其另一端延伸的插孔,柱形座21外周设有多个环形均布的输送通道211,各输气通道211均沿柱形座21轴线方向延伸;柱形座21竖直布置在第一气口101和第二气口102之间,并使柱形座21的外周面与腔室的内壁滑动配合,使柱形座21上的插孔位于靠近第一气口101的一侧;所述柱形磁铁22插入插孔内并固定。工作过程过程中,利用柱形座21的外周面与腔室的内壁滑动配合的特性,对柱形座21运动方向进行导向,确保移动位置的一致性,利用输气通道211使第二气口102处的气体向第一气口101方向输送。本实施例中,柱形座21靠近第二气口102的一侧设有与第二气口102同轴布置的环槽,该环槽的内径大于第二气口102的内径,该环槽内安装有密封圈4,以增强活动件2对第二气口102的密封效果。此外,为了进一步提高其强活动件2对第二气口102的密封效果,本实施例中,腔室内壁且第二气口102的外周设有与第二气口102同轴布置的密封槽,该密封槽的内径与环槽的内径相同,且当活动件2靠近第二气口102的一侧与腔室的内壁抵靠时,所述密封圈4远离环槽的一侧卡入该密封槽内。本实施例中,栓塞本体1包括上下布置并一体成型的柱形部11和锥形部12,所述柱形部11的外壁设有环形凹槽,以便于安装,使凹槽紧扣安装件上;所述锥形部12的外壁设有螺纹,以方便与输气管路的接头连接。由上可知,本专利技术提出的一种防堵塞的真空吸附台用栓塞结构,与真空吸附台配合使用,可以使机器可以连贯运行,既可以提高了加本文档来自技高网...
一种防堵塞的真空吸附台用栓塞结构

【技术保护点】
一种防堵塞的真空吸附台用栓塞结构,其特征在于,包括:栓塞本体(1)和活动件(2),其中:栓塞本体(1)内部设有腔室,腔室具有第一气口(101)和第二气口(102),所述第一气口(101)、第二气口(102)位于同一直线上,第一气口(101)处安装有过滤网(3);活动件(2)由磁性材料制作而成,活动件(2)活动安装在腔室内,并与第一气口(101)、第二气口(102)处于同一直线上,且当活动件(2)靠近第二气口(102)的一侧与腔室的内壁抵靠时,活动件(2)对第二气口(102)形成封堵,当活动件(2)靠近第二气口(102)的一侧与腔室的内壁之间形成间隙时,第二气口(102)与第一气口(101)导通。

【技术特征摘要】
1.一种防堵塞的真空吸附台用栓塞结构,其特征在于,包括:栓塞本体(1)和活动件(2),其中:栓塞本体(1)内部设有腔室,腔室具有第一气口(101)和第二气口(102),所述第一气口(101)、第二气口(102)位于同一直线上,第一气口(101)处安装有过滤网(3);活动件(2)由磁性材料制作而成,活动件(2)活动安装在腔室内,并与第一气口(101)、第二气口(102)处于同一直线上,且当活动件(2)靠近第二气口(102)的一侧与腔室的内壁抵靠时,活动件(2)对第二气口(102)形成封堵,当活动件(2)靠近第二气口(102)的一侧与腔室的内壁之间形成间隙时,第二气口(102)与第一气口(101)导通。2.根据权利要求1所述的防堵塞的真空吸附台用栓塞结构,其特征在于,活动件(2)靠近第二气口(102)的一侧设有与第二气口(102)同轴布置的环槽,该环槽的内径大于第二气口(102)的内径,该环槽内安装有密封圈(4)。3.根据权利要求2所述的防堵塞的真空吸附台用栓塞结构,其特征在于,腔室内壁且第二气口(102)的外周设有与第二气口(102)同轴布置的密封槽,该密封槽的内径与环槽的内径相同,且当活动件(2)靠近第二气口(102)的一侧与腔室的内壁抵靠时,所述密封圈(4)远离环槽的一侧卡入该密封槽内。4.根据权利要求1所述的防堵塞的真空吸附台用栓塞结构,其特征在于,腔室为柱形腔。5.根据权利要求4所述的防堵塞...

【专利技术属性】
技术研发人员:贺道国
申请(专利权)人:合肥卡星数控设备有限公司
类型:发明
国别省市:安徽,34

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