自适应对位方法技术

本发明专利技术提供一种自适应对位方法，对CCD图像传感器获得的基板对位标所在区域的图像、及掩膜板对位标所在区域的图像进行预处理后识别对位标，再分别对识别到的基板对位标、掩膜板对位标进行尺寸变换处理与灰度归一化处理，使各基板对位标的尺寸统一、中心不变、边缘清晰，各掩膜板对位标的尺寸统一、中心不变、边缘清晰，然后计算相应的基板对位标与掩膜板对位标的中心位置偏差，最后对位机构根据所述中心位置偏差进行移动，使所述基板对位标与掩膜板对位标对位、重合，实现相应的基板和掩膜板的位置匹配，既能够有效提高对位精度，又能够提升对位机构对基板与掩膜板的兼容性，降低对对位标的制作要求，减少对位故障，改善设备稼动率。

Adaptive counterpart method

The present invention provides an adaptive image alignment method, and mask substrate alignment of para CCD image sensor calibration area target area after preprocessing, recognition contrapositioning standard, base plates respectively of the identification of the target and the mask mark in para size transformation processing and gray normalization processing, uniform size, the substrate alignment mark center unchanged, the clear edge of the mask size, uniform film plate para subject center unchanged and clear edge, and then calculate the corresponding calibration and alignment substrate mask alignment mark center position deviation, finally moving positioning mechanism according to the deviation of the center. The substrate alignment calibration and mask alignment mark, alignment overlap, the realization of the corresponding substrate and mask position, which can effectively improve the positioning accuracy, and can be provided L positioning mechanism to the substrate and mask plate compatibility, reduce the requirement for making alignment mark, reduce alignment fault, improve equipment utilization rate.

【技术实现步骤摘要】
自适应对位方法
本专利技术涉及OLED显示器件制程
，尤其涉及一种自适应对位方法。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode，OLED)显示器件具有自发光、驱动电压低、发光效率高、响应时间短、清晰度与对比度高、近180°视角、使用温度范围宽、可实现柔性显示与大面积全色显示等诸多优点，被业界公认为是最有发展潜力的显示装置。OLED显示器件通常包括：基板、设于基板上的阳极、设于阳极上的空穴注入层、设于空穴注入层上的空穴传输层、设于空穴传输层上的发光层、设于发光层上的电子传输层、设于电子传输层上的电子注入层、及设于电子注入层上的阴极。OLED显示器件的制作工艺有蒸镀及喷墨打印，中、小尺寸高像素密度的OLED显示器件通常采用蒸镀工艺。蒸镀工艺需要用到精密掩膜板，并将掩膜板上的对位标与基板上的对位标进行对位，使得基板与掩膜板精准套合。为了达到对位精度，目前一般通过电荷耦合元件(Charge-coupledDevice，CCD)，又称为CCD图像传感器获得对位标的位置来实现。申请公布号为CN106054543A的专利技术专利申请提供了一种对位方法及对位系统，此专利技术申请的技术方案要求对位标的外围形状一样、尺寸大小一样、轮廓线条一样，对对位标的制作要求非常高。但实际情况是，基板在进入蒸镀设备之前有一系列曝光、显影、蚀刻等工序会造成基板上的对位标的颜色、轮廓清晰度等有差异，掩膜板上的对位标在加工制作时也会出现尺寸大小、轮廓亮暗上的差异，加上基板、掩膜板本身的工艺差别，会导致CCD图像传感器捕获到的对位标图像在大小、亮暗、对比度等各方面存在差异(例如柔性基板上的对位标与刚性基板上对位标的图像对比度便不一样)，影响对位精度，可能造成对位失败、制程中止、产品报废、设备报警、产能下降等一系列问题。因此，有必要设计一种新的对位方法来解决上述问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种自适应对位方法，既能够有效提高对位精度，又能够提升对位机构对基板与掩膜板的兼容性，降低对对位标的制作要求，减少对位故障，改善设备稼动率。为实现上述目的，本专利技术提供一种自适应对位方法，包括如下步骤：步骤S1、提供多个基板、及多个掩膜板，使用CCD图像传感器获取基板对位标所在区域的图像、及掩膜板对位标所在区域的图像；步骤S2、对CCD图像传感器获得的基板对位标所在区域的图像、及掩膜板对位标所在区域的图像进行预处理；步骤S3、分别对预处理后的基板对位标所在区域的图像、掩膜板对位标所在区域的图像进行对位标识别；步骤S4、分别对识别到的基板对位标、掩膜板对位标进行尺寸变换处理与灰度归一化处理；步骤S5、选取一完成基板对位标尺寸变换处理与灰度归一化处理的基板及一完成掩膜板对位标尺寸变换处理与灰度归一化处理的掩膜板，计算相应的基板对位标与掩膜板对位标的中心位置偏差；步骤S6、对位机构根据步骤S5计算得到的基板对位标与掩膜板对位标的中心位置偏差进行移动，使所述基板对位标与掩膜板对位标对位、重合，实现相应的基板和掩膜板的位置匹配。所述步骤S5还包括计算被选取的基板上的基板对位标连线与掩膜板上的的相应掩膜板对位标连线之间的扭转角；所述步骤S6还包括对位机构根据步骤S5计算得到的扭转角进行转动，使所述基板上的基板对位标连线与掩膜板上的相应掩膜板对位标连线重合。所述步骤S2对CCD图像传感器获得的基板对位标所在区域的图像、及掩膜板对位标所在区域的图像进行预处理包括光照补偿处理。所述步骤S2对CCD图像传感器获得的基板对位标所在区域的图像、及掩膜板对位标所在区域的图像进行预处理还包括去噪处理。所述去噪处理为使用中值滤波器对图像进行中值滤波处理。所述步骤S3进行对位标识别的具体过程为：步骤S31、分别建立起反应基板对位标形状变化规律的第一形状统计模型、反应基板对位标灰度分布规律的第一局部灰度模型；及分别建立起反应掩膜板对位标形状变化规律的第二形状统计模型、反应掩膜板对位标灰度分布规律的第二局部灰度模型；步骤S32、利用第一局部灰度模型搜索基板对位标，利用第一形状统计模型对搜索到的基板对位标的形状进行近似表达；同时利用第二局部灰度模型搜索掩膜板对位标，利用第二形状统计模型对搜索到的掩膜板对位标的形状进行近似表达；步骤S33、对基板对位标形状的合理性、掩膜板对位标形状的合理性进行判定，若判定不合理则重复步骤S31与步骤S32；若判定合理则执行步骤S4。所述步骤S33中设定重复步骤S31与步骤S32的上限次数，若达到上限次数则进行报警。所述步骤S4进行尺寸变换处理时取中值尺寸。所述步骤S4进行灰度归一化处理采用直方图均衡法。本专利技术的有益效果：本专利技术提供的一种自适应对位方法，对CCD图像传感器获得的基板对位标所在区域的图像、及掩膜板对位标所在区域的图像进行预处理后识别对位标，再分别对识别到的基板对位标、掩膜板对位标进行尺寸变换处理与灰度归一化处理，使各基板对位标的尺寸统一、中心不变、边缘清晰，各掩膜板对位标的尺寸统一、中心不变、边缘清晰，然后计算相应的基板对位标与掩膜板对位标的中心位置偏差，最后对位机构根据所述中心位置偏差进行移动，使所述基板对位标与掩膜板对位标对位、重合，实现相应的基板和掩膜板的位置匹配，既能够有效提高对位精度，又能够提升对位机构对基板与掩膜板的兼容性，对对位标的尺寸偏差、颜色偏差等的要求降低，对位通过率得以提高，对位故障得以减少，设备稼动率得以改善。附图说明为了能更进一步了解本专利技术的特征以及
技术实现思路
，请参阅以下有关本专利技术的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本专利技术加以限制。附图中，图1为本专利技术的自适应对位方法的流程图；图2为本专利技术的自适应对位方法中步骤S2的示意图；图3为本专利技术的自适应对位方法中步骤S4的示意图；图4为本专利技术的自适应对位方法中步骤S5的示意图；图5为本专利技术的自适应对位方法中步骤S6的示意图。具体实施方式为更进一步阐述本专利技术所采取的技术手段及其效果，以下结合本专利技术的优选实施例及其附图进行详细描述。请参阅图1，本专利技术提供一种应用于OLED显示器件蒸镀制程的自适应对位方法，包括如下步骤：步骤S1、提供多个基板1(通常为玻璃基板)、及多个掩膜板2，在所述基板1与掩膜板2进入蒸镀工艺腔室内平台的过程中使用CCD图像传感器获取基板对位标11所在区域的图像、及掩膜板对位标21所在区域的图像。步骤S2、如图2所示，对CCD图像传感器获得的基板对位标11所在区域的图像、及掩膜板对位标21所在区域的图像进行预处理。具体地，所述预处理包括光照补偿处理与去噪处理。由于基板对位标11的图像会受蚀刻工艺不稳定、基板1上有无聚酰亚胺或其它膜层等因素的影响，导致CCD图像传感器获取到基板对位标11的图像的明、暗不一致，反馈给计算机的灰度特征就存在差异，采用光照补偿处理能够弱化蚀刻工艺不稳定、其它膜层的存在对后续对位标识别的影响，进一步地，光照补偿处理可以采取现有的、应用较广泛的SSR(SingleScaleRetines)算法、MSR(Multi-ScaleRetines)算法、或其它光照补偿算法来进行。此外，在CCD图像传感器获取图像的实际过程中会携带随机电子噪声、与环境干扰噪声，如果对噪声不处理直接进行对位标识别，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种自适应对位方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S1、提供多个基板(1)、及多个掩膜板(2)，使用CCD图像传感器获取基板对位标(11)所在区域的图像、及掩膜板对位标(21)所在区域的图像；步骤S2、对CCD图像传感器获得的基板对位标(11)所在区域的图像、及掩膜板对位标(21)所在区域的图像进行预处理；步骤S3、分别对预处理后的基板对位标(11)所在区域的图像、掩膜板对位标(21)所在区域的图像进行对位标识别；步骤S4、分别对识别到的基板对位标(11)、掩膜板对位标(21)进行尺寸变换处理与灰度归一化处理；步骤S5、选取一完成基板对位标(11)尺寸变换处理与灰度归一化处理的基板(1)及一完成掩膜板对位标(21)尺寸变换处理与灰度归一化处理的掩膜板(2)，计算相应的基板对位标(11)与掩膜板对位标(21)的中心位置偏差(ΔX，ΔY)；步骤S6、对位机构根据步骤S5计算得到的基板对位标(11)与掩膜板对位标(21)的中心位置偏差(ΔX，ΔY)进行移动，使所述基板对位标(11)与掩膜板对位标(21)对位、重合，实现相应的基板(1)和掩膜板(2)的位置匹配。

【技术特征摘要】
1.一种自适应对位方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S1、提供多个基板(1)、及多个掩膜板(2)，使用CCD图像传感器获取基板对位标(11)所在区域的图像、及掩膜板对位标(21)所在区域的图像；步骤S2、对CCD图像传感器获得的基板对位标(11)所在区域的图像、及掩膜板对位标(21)所在区域的图像进行预处理；步骤S3、分别对预处理后的基板对位标(11)所在区域的图像、掩膜板对位标(21)所在区域的图像进行对位标识别；步骤S4、分别对识别到的基板对位标(11)、掩膜板对位标(21)进行尺寸变换处理与灰度归一化处理；步骤S5、选取一完成基板对位标(11)尺寸变换处理与灰度归一化处理的基板(1)及一完成掩膜板对位标(21)尺寸变换处理与灰度归一化处理的掩膜板(2)，计算相应的基板对位标(11)与掩膜板对位标(21)的中心位置偏差(ΔX，ΔY)；步骤S6、对位机构根据步骤S5计算得到的基板对位标(11)与掩膜板对位标(21)的中心位置偏差(ΔX，ΔY)进行移动，使所述基板对位标(11)与掩膜板对位标(21)对位、重合，实现相应的基板(1)和掩膜板(2)的位置匹配。2.如权利要求1所述的自适应对位方法，其特征在于，所述步骤S5还包括计算被选取的基板(1)上的基板对位标(11)连线与掩膜板(2)上的相应掩膜板对位标(21)连线之间的扭转角(θ)；所述步骤S6还包括对位机构根据步骤S5计算得到的扭转角(θ)进行转动，使所述基板(1)上的基板对位标(11)连线与掩膜板(2)上的相应掩膜板对位标(21)连线重合。3.如权利要求1所述的自适应对位方法，其特征在于，所述步骤S2对CCD图像传感器获得的基板对位标(11)所...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐湘伦，邹新，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42